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国際特許分類[B29C59/02]の内容

国際特許分類[B29C59/02]の下位に属する分類

ローラーまたはエンドレスベルトを用いるもの (562)
真空ドラムを用いるもの

国際特許分類[B29C59/02]に分類される特許

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【課題】
本発明は、ベース膜厚のバラツキを低減できるスタンパ又はインプリント装置、精度のよい微細パターンを有する処理製品、精度のよい微細パターンを形成できる処理製品製造装置又は処理製品製造方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、スタンパ又は前記スタンパを用いてインプリントするインプリント装置、前記インプリントによって処理製品を製造する処理製品製造装置又は処理製品製造方法、及び製造された処理製品において、前記スタンパは前記処理製品基材から形成される処理製品の機能を果たすのに必要のないダミーパターンを有する。 (もっと読む)


【課題】微細かつ均一なパターンの形成に好適なパターン形成方法およびパターン刑生体を提供することを目的とする。
【解決手段】レジストパターンが形成される領域は、ハードマスク層に形成した段差の領域よりも大きくし、ハードマスクの上段部は基板表面を覆うようにハードマスク層を残存させることと、下段部は基板表面の一部が露出するようにハードマスク層へ異方性エッチングを行うことで、基板に均一なパターンを形成することができる。 (もっと読む)


【課題】ナノインプリントにおいて、インプリント部材の剛性によらず、いかなるインプリント部材を使用しても、モールドの凹凸パターンをその中央部分からレジストに接触させることを可能とする。
【解決手段】ナノインプリント装置10において、インプリント部材1が所定の撓み状態を維持するように、インプリント部材1に外力を作用させてそのインプリント部材1に永久歪みを付与する歪み付与デバイス20と、歪み付与デバイス20によって永久歪みが付与されたインプリント部材1を使用して、モールド1の凹凸パターン2を基板6上に配置されたレジスト7に押し付けて、レジスト7に上記凹凸パターン2を転写するインプリントユニット40とを備える。 (もっと読む)


【課題】被処理体の一面側の洗浄領域に洗浄液を局所的に供給して、被処理体の側面や他面側への洗浄液の回り込みを防止できる洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】被処理体であるテンプレートTの転写パターン(洗浄領域)を当該転写パターンが下方に向くように保持機構4により吸着保持する。前記転写パターンを含み、テンプレートTの外縁よりも内方側の領域との間に洗浄液を満たして通流させるための通流空間を液収容部31により形成し、前記通流空間に液収容部31の底面に形成された第1の開口部31aからリンス液を供給し、前記転写パターンを囲むように液収容部31と転写パターン2外側領域との間に形成された隙間30を介して排液部32に排液する。リンス液は液収容部31内を通流するので、洗浄領域に局所的に供給され、テンプレートTの側面や他面側への洗浄液の回り込みを抑えながら洗浄処理を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】ナノインプリントにおいて、モールドの耐久性を向上させる。
【解決手段】微細な凹凸パターン13を表面に有するモールド本体12と、この表面に形成された離型層14とを備えたナノインプリント用のモールド1において、離型層14が、主鎖を構成する原子数が20未満である短鎖離型剤20と、主鎖を構成する原子数が20以上である長鎖離型剤22とを含むものとする。 (もっと読む)


【課題】硬化膜の表面ラフネスが改善されたインプリント用硬化性組成物の提供。
【解決手段】(A)重合性化合物、(B)重合開始剤および(C)非重合性化合物を含有するインプリント用硬化性組成物であって、前記非重合性化合物(C)として、(C1)フッ素原子を20質量%以上含有する少なくとも1種の界面活性剤、および(C2)フッ素原子を3質量%以上20質量%未満および/またはケイ素原子を5質量%以上40質量%未満含有し、かつ重量平均分子量(Mw)が1000〜100000である少なくとも1種の重合体を含有するインプリント用硬化性組成物。 (もっと読む)


【課題】ナノインプリントにおいて、ある基準状態下で、モールドのパターン寸法と所望の割合だけ異なる寸法のレジストパターンを形成することを可能とする。
【解決手段】ナノインプリント方法において、所定の基準圧力Pstおよび所定の基準温度Tstにおいて所定の基準寸法を有する微細な凹凸パターンが表面に形成されたモールド1、および被加工基板7であって、これらのヤング率および/または熱膨張率が互いに異なるものを用い、基準寸法に対するレジストパターンについての寸法差の割合ΔDall、基準圧力Pst、基準温度Tst、モールドのヤング率Eおよび熱膨張率α、並びに、被加工基板のヤング率Eおよび熱膨張率αを使用して、所定の関係式を充足するように圧力容器110内の圧力Pおよび/またはアセンブリ8の温度Tが制御された状態で、レジスト6を硬化せしめる。 (もっと読む)


【課題】アライメントが完了するまでの間、アライメントマークにレジストが入り込むことを防止できるインプリント方法を提供すること。
【解決手段】実施形態のインプリント方法では、第1のアライメントマークを有した基板上にレジストを滴下する。そして、第2のアライメントマークを有したテンプレートのテンプレートパターンを前記レジストに押し当てながら、前記第1のアライメントマークと前記第2のアライメントマークとの間の位置合わせ処理を行う。このとき、前記第2のアライメントマーク内に前記レジストが充填されないよう前記第2のアライメントマーク近傍の光照射領域に前記レジストを硬化させる光を照射する。そして、前記位置合わせ処理した状態を維持しつつ前記テンプレートパターンおよび前記第2のアライメントマークに前記レジストを充填させ、その後、前記テンプレート上に前記光を照射する。 (もっと読む)


【課題】型に対する樹脂の充填性や離型性に有用なガスを利用する場合でも、基板全体に施される処理の均一性で有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】インプリント装置1は、基板12上の未硬化樹脂15を型8により成形して硬化させて、基板12上に硬化した樹脂15のパターンを形成する。このインプリント装置1は、型8と未硬化樹脂15との押し付けに際し、型8の側から基板12上に向けてガスを供給し、かつ供給されたガスを型8の側で回収するガス供給機構4と、基板12を保持しつつ移動可能であり、かつ、保持された基板12の表面に合わせた表面高さで基板12を囲むように外側に配置される平板部22を有する基板保持部5と、基板保持部5に保持された基板12の外周側面と、平板部22の基板12に向かう内周側面との間に存在する間隙領域24に入り込んだガスを回収するガス回収機構25とを有する。 (もっと読む)


【課題】パターン欠陥の発生を抑えるのに有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】このインプリント装置1は、基板10上の未硬化樹脂16を型6により成形して硬化させて、基板10上に硬化した樹脂16のパターンを形成する。ここで、インプリント装置1は、型6を引き付けて保持する保持機構11を有する型保持部3と、基板10を保持する基板保持部4と、保持機構11に保持された状態の型6を、該型6に接する空間13の圧力を調整することで基板10に向かい凸形に変形させる圧力調整部15と、凸形に変形した型6と、樹脂16との引き離し動作中に、型6の姿勢を変化させることで型6と樹脂16とが接触する接触領域24の位置を移動可能とする駆動部18と、接触領域24の状態を示す画像情報を取得する測定部23と、画像情報に基づいて駆動部18の動作を制御する制御部5と、を有する。 (もっと読む)


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