【課題】光インプリント材料を提供すること。
【解決手段】下記式（１）及び／又は式（２）で表されるシリコーン骨格を有する化合物および光重合開始剤を含む光インプリント材料。


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【課題】レンズシートのレンズとなる金型の凸部を形成する際に、１種類のめっき液でも所望のレンズ形状を得ることを可能とする金型の製造方法及びレンズシートの製造方法を提供する。
【解決手段】板状基材１上にめっき導電膜２を形成し、めっき導電膜２上に所定の幅の溝状、円状又は多角形状の開口部４を有するレジスト５を形成し、ラウリル硫酸ナトリウム及びホルムアルデヒドの少なくともいずれかを含む第１添加剤と、芳香族スルフォン酸塩を含む第２添加剤と、芳香族イミドを含む第３添加剤Ｃとが各々添加されためっき液を用い、かつ、めっき導電膜２に所定電流を供給することで、レジスト５上の開口部４に対応する位置に、略半円柱状または略半球状のめっき構造物６を形成し、めっき構造物６が形成されているレジスト５上に金属めっきを行って、めっき構造物６の形状が反転転写された略半円柱形状又は略半球状の凹部８を有する金型９を形成する。 （もっと読む）

【課題】モールド作製時の負担を軽減して、ナノインプリント技術の高スループット化および低コスト化を可能にする。
【解決手段】モールドを押し付けてパターニングした未効果のレジスト上に、再度（１回または複数回にわたり）モールドを押し付けることによってパターニングを行う。つまり、同一レジスト上でダブルパターニングを行う。レジストとしては、硬化前に２度以上のパターニングが可能なものを使用する。再度のパターニングは、最初のパターニングに使用したモールドを、位置を変えて（それまでにパターニングを施した範囲から完全には逸脱しない範囲で位置を変えて）使用するのがよい。 （もっと読む）

【課題】 ブロック共重合体と電気めっき用ハードマスクを用いた、パターニングされた磁気記録ディスクのナノインプリント加工用マスタディスクの作製方法を提供する。
【解決手段】 パターニングされた媒体ディスクを作製するためのナノインプリント工程用のマスタディスクの作製方法は、導電基板と、ブロック共重合体の、ブロック共重合体成分の１つの、略半径方向の線および／または略同心円状の輪のパターンを形成する誘導自己組織化を利用する。基板上の、線および／または輪によって保護されていない領域内に金属を電気めっきする。ブロック共重合体成分を除去した後に、残っている金属のパターンをエッチングマスクとして使用して、最終的なマスタディスクまたは、後にマスタディスクの製造に使用される２つの別々のモールドのいずれかを製造する。 （もっと読む）

【課題】転写用の凹凸面の面積が大きい場合であっても、つなぎ目を設けることなくナノインプリント用モールドを容易に製造可能な方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係るナノインプリント用モールドの製造方法は、液晶物質を含有する膜を形成する工程と、液晶物質をらせん構造が形成されるように配向させ、該液晶物質の配向を固定することにより、上記膜の表面にレリーフ構造を形成させて、凹凸面を有する膜を得る工程と、膜の凹凸面上に金属成形品を形成して、レリーフ構造からの転写により形成された凹凸面を有する金属成形品をナノインプリント用モールドとして得る工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】インプリント装置の精度を向上させることができるインプリントシステムおよびインプリントシステムのメンテナンス方法を提供する。
【解決手段】機能性液体を吐出させるノズルが形成されたノズルプレート２３Ａを具備する液体吐出ヘッド２４と、基板と液体吐出ヘッド２４とを相対的に移動させる相対移動手段と、基板の機能性液体が着弾した面に対して、モールドの凹凸パターンを転写する転写手段と、モールドを機能性液体に接触した状態で、機能性液体を硬化させる硬化手段と、ノズルプレート２３Ａの温度を制御する第１の温度制御手段４４、４６と、液体吐出ヘッド２４のノズルプレート２３Ａ以外の少なくとも一面の温度を制御する第２の温度制御手段４２、４８と、を備えることを特徴とするインプリントシステム、および、インプリントシステムのメンテナンス方法である。 （もっと読む）

【課題】ドットパターンを有する領域と，ドットパターンを有しない領域と，を備えるモールドを高精度で作成可能とする。
【解決手段】実施形態のモールドの製造方法は，第１の高分子に親和な基板上に，第２の高分子に対して親和な第１の層を形成する工程と，第１の層に，第１，第２の開口を形成する工程と，第２の開口内にレジストを充填，硬化する工程と，ブロックコポリマーを含む第２の層を形成，自己組織化する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】実施形態によれば、下地段差に起因するパターン加工不良を抑制できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、パターン形成方法は、被加工膜上に第１のインプリントレジストを形成し、第１のテンプレートの平坦面を第１のインプリントレジストの表面に接触させた状態で第１のインプリントレジストを硬化させ、第１のインプリントレジストの表面を平坦化する工程を備える。また、第１のインプリントレジストの平坦面上に形成された中間転写膜上に第２のインプリントレジストを形成し、第２のテンプレートの凹凸を第２のインプリントレジストに接触させた状態で第２のインプリントレジストを硬化させ、第２のインプリントレジストに凹凸パターンを形成する工程を備える。 （もっと読む）

【課題】機能性インクのロットにより粘度が異なる場合や、インクジェットヘッドを交換した場合であっても、基板間で膜厚を均一にする。
【解決手段】インクジェットヘッドのノズルから機能性インクをインク滴として吐出させ、前記インク滴を基板表面に離散的に配置する配置工程と、前記基板表面に配置されたインク滴にモールドを接触させることで、前記モールドと前記基板との間に前記機能性インクを充填させる接触工程と、前記充填された機能性インクを硬化させる硬化工程と、前記硬化した機能性インクから前記モールドを剥離する離型工程と、前記硬化した機能性インクの厚みを計測する計測工程と、前記計測した厚みに基づいて、前記ノズルからの吐出量を補正する補正工程と、を備えた機能性インク配置装置の吐出量補正方法によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】微細構造形成用型および光学素子の製造方法において、被加工体の表面形状が変化しても、被加工体の表面に反射防止構造を容易かつ迅速に形成することができるようにする。
【解決手段】曲率を有する凹レンズ面１ａを備えるレンズ本体１の凹レンズ面１ａに凹凸形状の反射防止部を形成する微細構造形成用型５であって、反射防止部を転写する成形面部５ａと、成形面部５ａを湾曲可能に支持する基体部５と、基体部５を変形することにより成形面部５ａを湾曲させる空洞部６、環状空洞部７、および流体供給部８と、を備える表面加工装置１０を用いて、反射防止部を形成する。 （もっと読む）