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国際特許分類[B41M1/02]の内容

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国際特許分類[B41M1/02]に分類される特許

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【課題】パターン形成を安定して行うことができるパターン形成装置およびパターン形成方法を提供する。
【解決手段】開口P(0)に隣接する開口P(+1)に接続される正圧バルブを閉じたまま吸着バルブを開状態から閉状態に切り替えて開口P(+1)への負圧供給を停止する。すると、開口P(+1)近傍では、加圧空間SP5内の加圧力に対するブランケットBLを保持する力が次第に弱くなり、それに伴って加圧空間SP5内の気体成分が、ブランケットBLの開口P(+1)の鉛直上方部分と上面51aとの間に流入して当該ブランケット部分を上面51aから浮き上がらせて版PPの下面に当接させる。このように、上記加圧空間SP5内の圧力が急激に変動するのを抑制しつつ当接領域CAが中央部から(+Y)端縁側に緩やかに安定して拡幅される。 (もっと読む)


【課題】高精度な印刷をより容易に持続することが可能なオフセット印刷機及びオフセット印刷方法を提供する。
【解決手段】プリンティングプレート41と、インク21を供給されたプリンティングプレート41からインク21を転移され、転移されたインク21を基板200に転写するブランケット51とを備えたオフセット印刷機10aにおいて、ブランケット51が基板200にインク21を転写する印刷開始点Pを検出する印刷開始点モニタ91と、検出した印刷開始点Pの変化に対応してブランケット51と基板200との相対的な位置関係を調整するブランケット移動機構60とをさらに備える。このため、ブランケット51のインク21による膨潤により印刷開始点Pが変化しても、印刷開始点Pの変化に対するフィードバック制御により印刷開始位置Pを調整しつつ高精度な印刷を続行することができる。 (もっと読む)


【課題】発光不良や発光ムラのない有機EL素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、当該基板上に形成された対向する一対の電極と、該電極間に設けられ少なくとも有機発光層を含む発光媒体層と、を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、発光媒体層の1層以上が印刷法を用いて形成されており、前記印刷法が、被印刷基板を搬送する移動定盤が印刷版の面方向に進行し、印刷版と被印刷基板との接触面でインキを転移することで印刷を行う印刷方式であり、前記接触面よりも移動定盤の進行方向側に位置し、基板上の印刷された領域が搬送される空間である印刷後基板空間と、前記接触面より移動定盤の進行方向逆側に位置し、基板上の印刷前の領域が搬送される空間である印刷前基板空間の少なくともどちらか一方の雰囲気を、印刷機設置空間とは独立に雰囲気制御して、印刷を行うことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板やプラスチックフィルム等の可撓性基板上へ、高精細パターンを潰れの発生せず、平坦性を損なわずに形成する印刷方法を提供するものである。
【解決手段】インキ剥離性のフィルム基材上に、インキ液膜を塗工する工程と、該インキ液膜を予備乾燥し、予備乾燥インキ膜を得る工程と、必要な画像パターンを凹部とした凸版を該予備乾燥インキ膜に押し当て、該予備乾燥インキ膜から不必要な画像パターンを該凸版の凸部に転移させる工程と、該インキ剥離性のフィルム基材上に残された予備乾燥インキ膜による画像パターン上に受像層を塗工する工程と、該受像層を予備乾燥し、予備乾燥受像層膜を得る工程と、該インキ剥離性のフィルム基材上に残された予備乾燥受像層膜を、該予備乾燥インキ膜による画像パターン諸共、目的の被印刷基板表面上へ転写する工程と、を備えることを特徴とする印刷方法である。 (もっと読む)


【課題】印刷ムラ、異物混入が無く、微細な薄膜パターンを製造可能な印刷装置を提供し、特に、この印刷装置を用いることで、非表示画素の無い有機EL素子の製造方法を提供する。
【解決手段】被印刷基板に微細パターンを印刷する凸版印刷装置であって、少なくとも、凸版を装備して回転する版胴と、前記被印刷基板を載置する基板定盤と、前記凸版の版上にインキを塗布するアニロックスロールと、前記アニロックスロールにインキを供給するためのインキ供給手段を備えた凸版印刷装置において、前記アニロックスロールはその円筒部表面に多数の微細な凹部が並列に彫刻され、且つ、前記円筒部表面に前記インキに対して撥液性の表面処理層が形成されている。 (もっと読む)


【課題】導電ペースト等の高粘度のインキであってもインキ受容面に厚みが均一な塗膜を形成できるため、前記塗膜をパターン形成したのち被印刷体の表面に転写することにより、厚みが均一な画線部を備えた印刷物品を製造することができる、新規な印刷物品の製造方法を提供する。
【解決手段】シリコーンゴムからなるインキ受容面2に、せん断速度3000(l/s)印加時の第一法線応力差Nが100Pa以上であるインキ3を、前記インキ受容面との間に隙間がないように高さを設定したドクターブレード5を用いて塗布する工程を含む印刷物品の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】被印刷基板上で転写ローラを転動させることによって被印刷基板にパターンを印刷する際に、被印刷基板と転写ローラとの接触状態が変動して印刷パターンがデバイスの設計寸法からずれることを防止し、高い寸法精度でパターンを印刷できる印刷装置を提供する。
【解決手段】転写ローラ3と、被印刷基板11を保持する保持機構5とを備え、保持機構5が保持している被印刷基板11上で転写ローラ3を転動させることによって、転写ローラ3に形成されている印刷パターンを被印刷基板11に印刷する印刷装置1において、被印刷基板11上で転写ローラ3を転動させる際に、被印刷基板11上に印刷されたパターンの位置情報に基づいて、転写ローラ3に被印刷基板11が押し込まれる押し込み量を調整することによって、転写ローラ3に形成されている印刷パターンを、転写ローラ3が転動する方向に沿って伸縮させる調整機構5aを有する。 (もっと読む)


【課題】使用寿命の大幅な延長を図ることができるとともに、その使用方法の自由度を高めることができるスリーブ印刷版、スリーブ印刷版の製造方法、印刷装置及びスリーブ印刷版を用いた印刷方法を提供する。
【解決手段】印刷装置のシリンダに装着されて使用され、被印刷物に印刷される画像パターンを有する版本体と、前記シリンダに設けられたガイド部材に係合される位置決め用切欠部34と、を備えたスリーブ印刷版30であって、円筒状をなすスリーブ体31を有し、このスリーブ体31の外周面に版本体33が配設されており、位置決め用切欠部34は、スリーブ体31の周方向に複数形成されている。 (もっと読む)


【課題】印刷法を用いて有機発光層が形成された有機EL素子の製造方法について、画素間での膜厚差や膜形状の偏りといった膜不良の発生が少ない、発光ムラの無い有機EL素子の製造法及び有機EL素子を提供する。
【解決手段】基板上に画素電極と、隣接する前記が素電極同士をサブピクセルである画素に画定する隔壁と、前記画素に有機化合物からなる有機EL層の少なくとも一層を凸版印刷法によって、形成してなる有機EL素子の製造方法において、前記パターニングに用いられる印刷用凸版のパターンがストライプもしくはドットパターンであって、前記パターンの長辺の方向と印刷方向とがなす角度のうち、鋭角θが45°以上90°以下である事を特徴とする有機EL素子の製造方法としたもの。 (もっと読む)


【課題】製品の品質の低下を招く不要なインキを、凸版から、完全にかつ容易に異物、ゴミを発生させずに除去し、高精細かつ高品質な印刷物を提供すること。
【解決手段】
最表面がシリコーンゴムもしくはフッ素ゴムで構成される転写版と、転写版保持機構と、前記転写版に対向するように設置されたインキング機構と、画線部に相当する溝構造部と非画像部に相当する平坦部を有する凸版と、凸版保持機構と、被印刷基板を保持する基板保持機構と、前記被印刷基板のアライメントマークを観察する第一の光学式カメラと、前記被印刷基板のアライメント調整機構と、前記凸版のアライメントマークを観察する第二の光学式カメラと、凸版位置調整機構と、からなる印刷機構と、前記凸版を移動する凸版搬送機構と、前記凸版上のインキを除去する除去機構と、前記凸版を備蓄するストック機構と、からなる凸版初期化機構と、を有することを特徴とする印刷機としたもの。 (もっと読む)


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