【課題】
ナノインプリント用のマスター材料や曲面印刷用のパッド材、オフセット印刷用のブランケット材料等、凹凸パターンを転写する印刷用部材としてシリコーンゴム硬化物を使用して凹凸パターンを形成する方法であって、シリコーンゴム硬化物が溶剤などにより重量変化及び体積変化することを抑制し、シリコーンゴム硬化物の強度及び形状を維持しながら、寸法精度の良いパターン転写及び印刷を繰り返し可能にする凹凸パターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
基材上に凹凸パターンを形成する方法であって、
光硬化性樹脂組成物を基材上に塗布して転写層を形成する工程と、
凹凸パターンを有する付加反応硬化型シリコーンゴム組成物の硬化物（以下、シリコーンゴム硬化物と称す）の凹凸パターン面を転写層上に押し当てる工程と、
光照射により該光硬化性樹脂組成物を硬化する工程と、
該光硬化性樹脂組成物の硬化物からシリコーンゴム硬化物を分離して、基材上に凹凸パターンを残す工程とを含む方法において、
前記付加反応硬化型シリコーンゴム組成物の硬化物を前記光硬化性樹脂組成物中に１２時間浸漬した前後で測定した場合の硬化物の重量変化率が１．５％以下であることを特徴とする、凹凸パターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】平滑性に優れた導電性ペースト膜をグラビア印刷によって形成することができる、グラビア印刷機を提供する。
【解決手段】グラビアロールの周面上に形成される画線部１３において、印刷方向土手１５と垂直方向土手１６とによって区画される複数個のセル１７を形成し、垂直方向土手１６に複数個の垂直方向切欠き１８を設ける。そして、画線部１３の中央部においては、垂直方向切欠き１８の間隔Ｇを、印刷方向土手１５および垂直方向土手１６の各幅Ｗより大きくする。好ましくは、画線部１３の周縁部に位置するセル１７の開口面積を、中央部に位置するセル１７の開口面積より小さくする。 （もっと読む）

【目的】 レーザー放射を用いて、迅速に且つ効果的に結像することができるリトグラフ印刷版を提供することを目的とする。
【構成】 リトグラフ印刷版部材は、最頂部の表面層１００、該表面層１００の下の放射線吸収層１０２、該吸収層１０２の下の第２のアブレーション（溶融除去）層１０４及び基体１０６からなる。表面層１００と第２のアブレーション層１０４とは、インクあるいは撥インク性流体に対する親和性が異なる。放射線吸収層１０２は、レーザー放射を吸収して溶融除去される。第２のアブレーション層１０４及び基体１０６の間には両者の接着を促進するための接着促進層１０８を含む。 （もっと読む）