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国際特許分類[B65G49/00]の内容

処理操作;運輸 (1,245,546) | 運搬;包装;貯蔵;薄板状または線条材料の取扱い (154,615) | 運搬または貯蔵装置,例.荷積みまたは荷あげ用コンベヤ;工場コンベヤシステム;空気管コンベヤ (20,388) | 他の分類に属せず,特殊な目的に適用されることを特徴とする移送装置 (2,620)

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【課題】
ファンフィルタユニットの風量を上げることなくダウンフローの流れを維持し、異物の巻き上げ等を抑えて高い局所クリーン性能を発揮する局所クリーン化搬送装置の提供。
【解決手段】
基板搬送ロボット103は往復移動することができ、実線202の位置へ移動した場合、局所クリーン化搬送装置101の側面に設けられた開口量調節機構Aの開口量調節板402を作動して開口部402を開ことで、基板搬送ロボット103により押された空気が側面にぶつかって巻き上がらないようし、矢印403、404、405、406の様に外部へ排出する。
また、基板搬送ロボット103が遠ざかる場合は、開口部401が閉じ、外部からの空気の流入を防ぐ。 (もっと読む)


【課題】直径300mmの第1ウエハを収容可能な第1カセット用のロードポートに対してカセットアダプタを使用して、直径200mmの第2ウエハを収容可能な第2カセットをセットする際に、第2カセットの全体を覆うカセットカバーの提供。
【解決手段】正面、背面及び底面の3面が開口されていて、アダプタ本体及び第2カセットK2の全体を覆うことができると共に、正面開口を通してアダプタ本体を手前側に傾転させられるように、アダプタベースVに一体に取付けられ、ロードポートPのキャリアベース5の前進により、カセットカバーCで覆われた第2カセットK2が前進端位置である第2ウエハの搬入・搬出位置に達した状態で、カセットカバーCの前端周縁が、ロードポート本体1のウエハ移載窓1aの周縁に密着又は近接可能なように、カセットカバーCの前端には、左右の両方向に向けて閉塞用フランジ部46が一体に設けられた構成とする。 (もっと読む)


【課題】複数の処理領域において各々基板に対して真空処理を行うにあたり、装置全体のフットプリントを抑えながら、基板の移載に要する時間を短く抑えること。
【解決手段】ロードロック室2a、2b間に、上流側から下流側に向かって一列に3つの処理ユニット11及び搬送モジュール12をこの順番で気密に配列する。また、各々の処理ユニット11内に上流側からウエハWを移載するためのウエハ搬送装置24を配置すると共に、下流端の処理ユニット11からロードロック室2bにウエハWの移載を行うためのウエハ搬送装置24を搬送モジュール12内に設ける。そして、ロードロック室2aから上流端の処理ユニット11へのウエハWの移載と、下流端の処理ユニット11からロードロック室2bへのウエハWの移載と、上流側の処理ユニット11aから下流側の処理ユニット11へのウエハWの移載とを同時に行う。 (もっと読む)


【課題】基板を鉛直方向に向けて搬送する場合にも安定した高速搬送が可能な基板搬送装置及び真空処理装置を提供する。
【解決手段】基板3a、3bを保持するトレイ4a、4b、軸受(案内部材)6を介して搬送路7の上を移動するキャリア20、キャリア20を搬送路7に沿って移動させる駆動手段を具備する。駆動手段の駆動により搬送路に沿って基板を搬送路を含む面に対して鉛直方向に向けて搬送する。その際、駆動手段は搬送路に沿って取り付けられたラックギア16を有し、キャリア20とラックギア16との間に搬送路7に沿って防振材8を配置し、キヤリア20の搬送時の振動を抑制する。 (もっと読む)


【課題】基板を鉛直方向に向けて搬送する場合にも安定した高速搬送が可能な基板搬送装置及び真空処理装置を提供する。
【解決手段】基板3a、3bを保持するトレイ4a、4b、軸受(案内部材)6を介して搬送路7の上を移動するキャリア20、キャリア20を搬送路7に沿って移動させる駆動手段を具備する。駆動手段の駆動により搬送路に沿って基板を搬送路を含む面に対して鉛直方向に向けて搬送する。その際、搬送路7の床面との接触部分に搬送路7に沿って防振材8を配置し、キヤリア20の搬送時の振動を抑制する。 (もっと読む)


【解決手段】導電性ペーストを塗布した基板を搬送するための搬送部材、該基板を加熱して該導電性ペーストを焼成するための加熱部、及び加熱した基板を冷却する冷却部を具備する焼成炉であって、上記搬送部材を加熱するための加熱手段を設けた太陽電池素子の電極焼成用焼成炉。
【効果】特にワイヤー式焼成炉を用いて電極ペーストの焼成を行う際、加熱部雰囲気温度やアルミニウムペースト層の温度に近づけるために、ワイヤーを加熱部雰囲気温度とほぼ等しい温度に焼成している。これにより、ワイヤー上の導電性ペーストの金属成分の堆積物に電極が傷つけられることによる歩留まり低下を抑え、ワイヤー式焼成炉の連続使用が可能となる。更に、ワイヤーの温度が低いことによる基板面内の焼成むらを小さくすることで、特性低下も抑えることができる。また、メッシュベルト式焼成炉などと比較してスループットを大きくすることができる。 (もっと読む)


【課題】搬送室の排気装置の排気能力に拘わらず、搬送室に接続可能な真空処理装置を提供する。
【解決手段】処理室1がターボ分子ポンプ11を含む排気装置50によって排気され、搬送室31がターボ分子ポンプ37を含む排気装置70によって排気されている状態で仕切弁22を開けて基板を搬送室31と処理室1との間で搬送する。また、搬送室31がメカニカルブースタポンプ44およびロータリーポンプ46によって数Paに排気されているとき、処理室1を排気装置50によって排気しながら仕切弁22を開けて基板を搬送室31と処理室1との間で搬送する。 (もっと読む)


【課題】移載室内が高温状態である場合に該移載室の扉が開くことを抑止し、作業者の安全を確保する。
【解決手段】基板10の処理を行う処理炉21に連設される移載室13を備えた基板処理装置1であって、移載室内の温度を測定する温度測定手段34と、移載室の扉19の施錠及び解錠を行うロック機構20と、温度測定手段34で測定された温度に基づいてロック機構20を制御する制御手段とを具備する。 (もっと読む)


【課題】 外気と隔絶された空間を画成してこの空間内で被搬送物を搬送する搬送装置を、アイソレータ自体の解体や組立が不要で、かつ、簡単に処理装置前方に所定の作業空間をつくることができるようにする。
【解決手段】 搬送装置TMは、上流側搬送部1aと、下流側搬送部1bと、両搬送部間で被搬送物の搬送方向に対して直交する方向に進退自在な可動搬送部1cとを備える。各搬送部のアイソレータを画成する隔壁のうち相互に対向するものは進退方向前側に向かって幅狭となる斜面として形成され、開口を有する。進入位置で、各搬送部のアイソレータの内部空間を外気と隔絶された一体の空間として連通するシール手段を備え、この進入位置で、中央コンベア3cが、上流側コンベア3a及び下流側コンベア3bより進退方向後方にオフセットされ、各コンベアの端部が進退方向で重なるように構成されている。 (もっと読む)


【課題】 多様なイオンビーム照射特性を実現することができ、しかも装置の大型化、スループットの低下および基板へのパーティクル付着を抑えることができるイオンビーム照射装置を提供する。
【解決手段】 このイオンビーム照射装置は、互いに直列に接続された複数の処理室10と、その一端側に接続された入口側真空予備室6と、他端側に接続された出口側真空予備室と、1枚以上の基板2を、大気中から入口側真空予備室6、複数の処理室10および出口側真空予備室を経て大気中へと搬送する基板搬送装置とを備えている。更に、各処理室10にリボン状のイオンビーム54をそれぞれ供給して、基板2の搬送と協働して、各基板2の全面にイオンビーム54をそれぞれ照射する複数のイオンビーム供給装置50を備えていて、各基板2の全面に対して複数のイオンビーム供給装置50による複数のイオンビーム照射をそれぞれ行うよう構成されている。 (もっと読む)


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