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国際特許分類[C01B21/082]の内容

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【課題】 樹脂に対して優れた帯電防止性能を付与できる新規なポリオキシアルキレンアンモニウム塩及びそれを含有する帯電防止剤を提供すること。
【解決手段】 式(1):
【化1】


(式中、R及びRは炭素数1〜18のアルキル基を表す。m及びnは1以上の整数であり、m+nは15である。)で示されるポリオキシアルキレンアンモニウム塩。 (もっと読む)


【課題】ナノサイズの粒径をもった高純度サイアロン微粉末を効率的に合成するための技術を提供すること。
【解決手段】珪素、二酸化珪素、及びアルミニウムを原料として、窒素雰囲気下で燃焼合成反応させてサイアロンを合成する。このとき、周期表の第1族または第2族に属する金属元素の無機塩を反応補助剤(希釈剤)として用いる。燃焼合成反応により反応系の温度は上昇するが、無機塩の昇華反応が吸熱反応であるために反応系の温度が低下して珪素の融着反応が遅延し、しかも、発熱反応には支障のない温度にすることができる。その結果、燃焼合成反応によるサイアロンの合成の効率を向上させることができる。このような無機金属塩の添加は、燃焼合成工程において、原料として投入した粒子の融着及び凝集を抑制するため、ナノメートル粒径のサイアロン微粉末を容易に得ることができる。 (もっと読む)


【課題】h−BNと新規な高結晶性h−BCNの混合物及びそれを高い反応率で効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】黒鉛化指数(GI)が7.0以下である、六方晶窒化ホウ素及び六方晶炭窒化ホウ素の混合物。六方晶窒化ホウ素及び炭化ホウ素の混合物を窒素雰囲気下、1950〜2500℃で加熱することを特徴とする、六方晶窒化ホウ素及び六方晶炭窒化ホウ素の混合物の製造方法。樹脂及び/又はゴムに六方晶窒化ホウ素及び六方晶炭窒化ホウ素の混合物を含有させてなることを特徴とする組成物。 (もっと読む)


【課題】優れた熱伝導性を有する新規な高結晶性の六方晶炭窒化ホウ素及びそれを高い反応率で効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】黒鉛化指数(GI)が7.0以下である六方晶炭窒化ホウ素が提供される。また、炭化ホウ素を、窒素を含む雰囲気中2300℃以上2500℃以下で加熱する六方晶炭窒化ホウ素の製造方法が提供される。また、窒素を含む雰囲気の圧力が、0.1MPa以上1MPa以下である六方晶炭窒化ホウ素の製造方法。樹脂及び/又はゴムに六方晶炭窒化ホウ素を含有させてなる組成物が提供される。 (もっと読む)


【課題】 高い電子伝導性を有するリチウムケイ素窒化物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 電子伝導性を有するリチウムケイ素窒化物であって、主相が組成式LiSi2−xAl3−xで表され、xの値が0.2〜0.7であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】シリコン系ガスとアミン系ガスとを使用してSiC等のSiC系の膜を低温で成膜できる半導体装置の製造方法、基板処理方法、基板処理装置およびプログラムを提供する。
【解決手段】基板200を処理室201内に収容する工程と、加熱された処理室201内へシリコン系ガスとアミン系ガスとを供給して基板200上にシリコンおよび炭素を含む膜を形成する工程と、を有し、シリコンおよび炭素を含む膜を形成する工程は、処理室201内へシリコン系ガスとアミン系ガスとを供給して、シリコン系ガスとアミン系ガスとを処理室201内に封じ込める工程と、シリコン系ガスとアミン系ガスとを処理室201内に封じ込めた状態を維持する工程と、処理室201内を排気する工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】ケイ素の融着を防ぎ、燃焼合成反応によるサイアロンの合成の効率を向上させる合成方法及び高純度のサイアロンを提供する。
【解決手段】窒素雰囲気下で燃焼合成反応によりケイ素及びアルミニウムを原料としてサイアロンを合成する方法において、さらに含水アルミナケイ酸塩を原料として前記燃焼合成反応を行う。燃焼合成反応により反応系の温度は上昇するが、含水アルミナケイ酸塩の脱水反応が吸熱反応であるために反応系の温度が低下するので、ケイ素の融解反応を遅延させつつも反応の継続には支障のない温度に保つことができるので、燃焼合成反応によるサイアロンの合成の効率を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】水蒸気等の酸化剤中における焼成工程での収縮が小さく、シリカ膜の亀裂や半導体基板との剥離が発生しにくい無機ポリシラザン及び無機ポリシラザンを含有するシリカ膜形成用塗布液を提供すること。
【解決手段】1H―NMRスペクトルにおいて、4.75ppm以上で5.4ppm未満の範囲のピーク面積をAとし、4.5ppm以上で4.75ppm未満の範囲のピーク面積をBとし、4.2ppm以上で4.5ppm未満の範囲のピーク面積をCとしたとき、A/(B+C)の値が0.9〜1.5であり、(A+B)/Cの値が4.2〜50であり、ポリスチレン換算値による質量平均分子量が2000〜20000である無機ポリシラザンをシリカ膜形成用塗布液に含有させる。 (もっと読む)


【課題】 マクロ細孔とメソ細孔とを有するバイモーダルな多孔性窒化炭素膜、その製造方法、および、それを用いた用途を提供すること。
【解決手段】 本発明による多孔性窒化炭素膜は、窒化炭素からなるフレーム構造によって形成され、フレーム構造は、マクロ細孔と、マクロ細孔の細孔径よりも小さな細孔径を有するメソ細孔とを有し、マクロ細孔は、多孔性窒化炭素膜の表面方向に規則的に配列しており、マクロ細孔は、多孔性窒化炭素膜の表面に開口部を有する。 (もっと読む)


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