【課題】 耐熱性に優れ、ヘリウムの透過性及び選択性に優れるヘリウム分離材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のヘリウム分離材１は、連通孔を有し且つ無機材料からなる基体１１と、該基体１１の表面層を被覆し且つ非晶質物質を含む非晶質物質含有膜１２と、上記表面層における連通孔内に内接した非晶質物質含有膜１２の表面に配設され且つ結晶質物質を含む結晶質物質含有膜１３とを備え、該結晶質物質含有膜に包囲された細孔１４（平均径０．２６１〜０．２８８ｎｍ）を有する。 （もっと読む）

【課題】半導体製造装置からの排ガスに含まれるＸｅなどを高濃度、高回収率で回収するに際し、ＸｅなどをＮ_２などと同時に高濃度に濃縮できるようにする。
【解決手段】ＸｅとＮ_２を含むガスを原料ガス貯留槽１から加圧して活性炭が充填された下部筒１０Ｂ、上部筒１０Ｕに流し、Ｎ_２を難吸着成分貯留槽３に回収する工程１、易吸着成分低圧貯留槽２からのガスを加圧して下部筒１０Ｂ、上部筒１０Ｕに流し、上部筒１０ＵからのＮ_２を回収する工程２、下部筒１１ＢからのＸｅを易吸着成分高圧貯留槽５に回収し、ついで易吸着成分低圧貯留槽２に回収する工程３、上部筒１１Ｕ、下部筒１１Ｂからのガスを原料ガス貯留槽１に回収する工程４、難吸着成分貯留槽３からのＮ_２を上部筒１１Ｕ、下部筒１１Ｂを経て原料ガス貯留槽１に回収する工程５および工程２でのＮ_２を上部筒１１Ｕと下部筒１１Ｂに充填する工程６を順次繰り返して行う。 （もっと読む）

【課題】 大型または複雑な装置を用いることなく、粗水素ガスまたは粗希ガスに含まれている微量の窒素、酸素、一酸化炭素、二酸化炭素、水、メタン等の不純物を、全て１ｐｐｂ以下の超低濃度まで効率よく除去できるガスの精製方法及び装置を提供する。
【解決手段】 粗水素ガスまたは粗希ガスを、パラジウム触媒、合成ゼオライト、及びゲッター剤とこの順に接触させて、該ガスに含まれる不純物を除去する。また、パラジウム触媒の充填筒、合成ゼオライトの充填筒、及びゲッター剤の充填筒が備えられ、ガスがこの順で流通するように該充填筒が接続されてなる精製装置、あるいは、パラジウム触媒及び合成ゼオライトの充填筒、及びゲッター剤の充填筒が備えられ、ガスがこの順で流通するように該充填筒が接続されてなる精製装置とする。 （もっと読む）

【課題】 深冷空気分離によるクリプトン及び／又はキセノンの製造に際して、ハロゲン化合物の除去を特に経済的な方式で実現する。
【解決手段】 冷空気分離によるクリプトン及び／又はキセノンの製造方法及び装置において、クリプトンとキセノンを富化してクリプトン／キセノン濃縮留分を形成し、このクリプトン／キセノン濃縮留分から蒸留によりクリプトン／又はキセノンを得る。蒸留の前に、TiO₂及び／又はZrO₂を含有する触媒床にクリプトン／キセノン濃縮留分を通流し、この触媒床においてクリプトン／キセノン濃縮留分に含まれる少なくとも１種のハロゲン化合物を反応させる。 （もっと読む）

【課題】従来の吸着材を用いる気体分離方法は、目的の気体のみを選択的に吸着するか、分離すべき構成成分気体の吸着圧力が他の構成成分気体の吸着圧力と十分離れていることが必要であったが、これらを解決できる構成成分を選択的に吸着する吸着材を用いない気体分離方法を提供すること。
【解決手段】吸着材を用いて、混合気体から特定の成分気体を分離する気体分離方法であって、
（１）混合気体を、特定の成分気体に対する脱吸着特性がヒステリシスを示す吸着材を備えた気密容器内に導入し、第１の圧力で該吸着材に接触させる工程、
（２）該気密容器内の気体を、第１の圧力より低く、かつ該ヒステリシスの範囲内にある第２の圧力にする工程、
（３）該気密容器内の気体を、該ヒステリシスの範囲内にある第２の圧力より低くかつ該ヒステリシスの範囲外にある第３の圧力にして又は該吸着材を加熱して、吸着物を脱離させる工程、
を有する気体分離方法。 （もっと読む）

【課題】 粗アルゴン圧縮機等の付帯設備を設けるまでもなく、高圧の粗アルゴンをアルゴン精製装置、精製アルゴン塔に供給することを可能ならしめる深冷空気分離装置によるアルゴン製造方法を提供する。
【解決手段】 粗アルゴン塔８から抜出した粗アルゴンをアルゴン精製装置１０に導入するに際して、前記粗アルゴン塔８の粗アルゴン抜出し口８ｂから液体粗アルゴンを抜出すと共に、粗アルゴン抜出しライン９を介して主熱交換器２に導入して蒸発させ、蒸発した粗アルゴンを常温になるまで加温する。 （もっと読む）

ガス・ストリーム（１２）を、それから酸素を分離する電気的に駆動される一連の酸素分離ゾーン（１６、１８、２０）に導入して酸素を分離する同ガス・ストリーム（１２）の精製方法。これらのゾーン（１６、１８、２０）の各々は電解質（３４）を有し、これはそれを挟む電極（２２、２４；２６、２８；３０、３２）に対して電源（３８、３９、４０）から電圧を印加すると酸素イオンを伝導する。酸素分離ゾーン（１６、１８、２０）での電極（２２、２４；２６、２８；３０、３２）に対して電源（３８、３９、４０）から印加される電圧は、特定の酸素分離ゾーン（１６、１８、２０）の電解質（３４）に流入するイオン電流を限界電流値以下にする値から選ばれる。電源（３８、３９、４０）から上記の方法で電圧を印加することにより、消費電力を全ての酸素分離ゾーン（１６、１８、２０）に同一の電圧を印加した際に消費される電力に比べて削減できる。同ガス・ストリーム（１２）は、粗アルゴン塔により得られる粗アルゴン・ストリーム（６０）あるいは圧力スイング装置あるいは高分子膜装置から得られる粗窒素ストリーム（９０）であってよい。
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【課題】 本発明は、緻密層と多孔質層とを有するポリイミド非対称膜であって、フッ素原子含有ポリイミドを含む多成分のポリイミドからなり、緻密層におけるフッ素原子含有ポリイミドの割合を制御して得られたポリイミド非対称膜、及び前記ポリイミド非対称膜からなる実用的な高性能ガス分離膜を提供することを目的とする。
【解決手段】 Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）で測定した緻密層のフッ素原子濃度（φ_Ｓ）と膜全体のフッ素原子濃度（ｆ）との比（φ_Ｓ／ｆ）が１．１〜１．８であることを特徴とするポリイミド非対称膜、及び前記ポリイミド非対称膜からなる実用的な高性能ガス分離膜に関する。 （もっと読む）

【課題】不純物含有アルゴンガスを精製する際、装置構成を簡略化でき、設備費用、運転費用を低減することができる精製方法および精製装置を得る。
【解決手段】一酸化炭素、水素、酸素、窒素を不純物として含む不純物含有アルゴンガス中の一酸化炭素および水素を酸素と反応させて二酸化炭素と水に変換する触媒筒７と、この触媒筒７で生成したガス中の水を除去する第１吸着層と、この第１吸着層からのガス中の二酸化炭素を除去する第２吸着層と、この第２吸着層からのガス中の一酸化炭素と窒素を除去する第３吸着層とが同一筒内に設けられた吸着筒９ａ、９ｂを用い、第１ないし第３吸着層での吸着温度、再生温度を同一として、不純物含有アルゴンガスを精製する。 （もっと読む）

【課題】半導体製造装置等からの原料ガスからＫｒ、Ｘｅなどを高濃度、高回収率で回収する。
【解決手段】２種以上の成分を含む原料ガスを、１成分に易吸着性で、他成分に難吸着性の吸着剤を充填した下部筒１０Ｂと上部筒１０Ｕとに流し、易吸着分を吸着し、難吸着分を回収する工程、易吸着成分貯留槽２のガスを下部筒１０Ｂに導入し、これの空隙に残る難吸着分を上部筒１０Ｕに導出し、筒１０Ｕにおいて易吸着分を吸着し、筒１０Ｕより難吸着分を回収する工程、下部筒１０Ｂを減圧し、易吸着分を易吸着成分貯留槽２に回収する工程、上部筒１０Ｕを減圧し、吸着ガスを脱着して下部筒１０Ｂに導入し、筒１０Ｂの流出ガスを原料ガス貯留槽１に回収する工程、先に回収した難吸着分を減圧し、パージガスとして上部筒１０Ｕ、下部筒１０Ｂに導入し、易吸着分を脱着して下部筒１０Ｂの流出ガスを回収する工程をシーケンスに従って行う。 （もっと読む）