【課題】（１）絶縁性があり、（２）耐熱性があり、（３）金属などの基材に塗布および熱処理して用いることができ、（４）基材との熱膨張係数差が大きくても剥離および破壊しない膜状の材料を得ること。
【解決手段】Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｂｅのいずれかからなる金属アルコキシドが加水分解および脱水重合されて形成される無機物質中にフィラーを分散した材料で、フィラーの粒子は結晶面の一つが完全なへき開面を有する無機物を含んだものとし、さらにフィラーの粒子のへき開面は膜の面方向に対して並行に略整列とすることにより解決した。 （もっと読む）

【課題】耐酸性、耐水性を改善し、電気・電子分野における放熱性の材料として好適に使用することができる被覆酸化マグネシウム粒子を提供する。
【解決手段】酸化マグネシウム粒子、エポキシ樹脂及びエポキシ樹脂硬化剤を含有するスラリーを噴霧乾燥させる事により、エポキシ樹脂を硬化させて得られた表面被膜を有する酸化マグネシウム粒子。 （もっと読む）

【課題】Ｘｅガスのガス放電により生成した紫外光により励起されると、高い効率で波長２５０ｎｍ付近の紫外光を放出する酸化マグネシウム粉末を提供する。
【解決手段】塩素を０．００５〜１０質量％の範囲にて含有する、塩素を除いた総量中の酸化マグネシウム純度が９９．８質量％以上で、かつＢＥＴ比表面積が０．１〜３０ｍ²
／ｇの範囲にある塩素含有酸化マグネシウム粉末。 （もっと読む）

【課題】放電開始電圧が低く、かつ各製品間での放電開始電圧のばらつきが小さいプラズマディスプレイパネルを生産するのに有用な前面板を提供する。
【解決手段】プラズマディスプレイパネルの前面板１０の誘電体保護層１６の表面に、Ｍｇ１モルに対してＳ、Ｓｅ及びＴｅからなる群より選ばれるカルコゲン元素を０．０００１５〜０．００７５モルの範囲の量にて含有するカルコゲン元素含有酸化マグネシウム粉末１７を点在させる。 （もっと読む）

【課題】鋼板をコイル状に巻き取った際にコイル内径部に発生するバックリングを抑制する焼鈍分離剤を提供する。
【解決手段】マグネシアを含む焼鈍分離剤であって、該マグネシアとして、粒径が２５μｍ以上７５μｍ未満のマグネシア：０．０５質量％以上２０質量％以下を少なくとも含有し、かつ粒径７５μｍ以上のマグネシアを０．０１質量％以下に抑制し、体積収縮率が２０％以上８０％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来のシランカップリング剤で表面処理された酸化マグネシウム粉末よりも吸湿性が抑制され、さらに樹脂材料への分散性に優れた酸化マグネシウム粉末を提供する。
【解決手段】酸化マグネシウム粉末の表面をオリゴマー状反応性シロキサンで処理する。 （もっと読む）

【課題】吸湿性を小さく改善した酸化マグネシウム粉末を簡易な方法で製造する。また、この酸化マグネシウム粉末を含み、耐湿特性、加工性に優れかつ熱伝導性が良好な電気絶縁層のための熱硬化性樹脂組成物を製造する。
【解決手段】酸化マグネシウム粉末は、シリカ含有量が１〜６質量％である酸化マグネシウムを原料として使用し、これを１６５０℃〜１８００℃で焼成することにより、表面にシリカ膜を形成する。熱硬化性樹脂組成物は、前記酸化マグネシウム粉末の平均粒径ｄ１を、１０μｍ≦ｄ１≦８０μｍの範囲とし、熱硬化性樹脂固形分と酸化マグネシウム粉末を合わせた体積中に、前記酸化マグネシウム粉末の含有量が２０〜８０体積％となるように混合する。酸化マグネシウム粉末の一部を他の無機充填材に置換えることができる。無機充填材の平均粒径は、０．１〜５０μｍ、含有量は１５〜３０体積％が好ましい。 （もっと読む）

【課題】交流型プラズマディスプレイパネルの前面板の放電開始電圧を低減させる。
【解決手段】誘電体保護層１６の表面に、酸化マグネシウム１ｇに対してリチウムを７〜１００００μｇの範囲にて含有し、かつ電子線で励起させたときに発光する光のうち、２００〜３００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度が、７００〜８００ｎｍの波長範囲にある光の最大発光ピーク強度の１／１００以下であるリチウム含有酸化マグネシウム粉末１７を点在させる。 （もっと読む）

【課題】有害物質を取り込んだ浄化処理材の沈降性に優れ、短時間に浄化処理材が沈降して有害物質を除去することができる浄化処理材を提供する。
【解決手段】酸化マグネシウムの表面にハイドロタルサイトが形成されてなる浄化処理材であって、有害物質含有水に添加されて該ハイドロタルサイトに有害物質を取り込み、有害物質を取り込んだ状態で固液分離されることにより有害物質を系外に除去することを特徴とする有害物質含有水の浄化処理材とその製造方法。 （もっと読む）

【課題】結晶性及び透明性に優れた酸化マグネシウム薄膜を低温、非真空下で形成することが可能な、酸化マグネシウム薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】酸化マグネシウム粒子の分散液を基材上に塗布し、５０〜５００℃で加熱することで乾燥させ、酸化マグネシウム粒子を基材上に堆積させる。別途準備したマグネシウム溶液を、酸化マグネシウム粒子が堆積した基材上に塗布し、１００〜６００℃で焼成することで、酸化マグネシウム薄膜を得る。 （もっと読む）