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国際特許分類[C01G19/00]の内容

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【課題】 導電性が高く、白色の針状酸化錫微粉末であって、この針状導電性酸化錫微粉末を用い、少量の添加であっても表面抵抗率が低く、薄い白色の塗膜を形成できる針状導電性粉末を提供する。
【解決手段】 短軸平均粒子径が20〜200nmで、アスペクト比が3以上であり、かつセリウムを錫に対して質量基準で0.1〜10%含有することを特徴とする針状酸化錫微粉末であって、好ましくは、粉体体積抵抗値が、1×10Ω・cm以下である。 (もっと読む)


【課題】従来の針状粉末より微細であって比表面積が大きく、熱線遮蔽性に優れた棒状ないし針状の酸化錫インジウム粉末とその製造方法を提供する。
【解決手段】三塩化インジウム水溶液と四塩化錫水溶液とを混合し、この混合液にアルカリ水溶液を添加してpH5.0〜8.5に調整し、液温5℃以上で反応させ、生成した沈澱物を固液分離して回収し、乾燥後、大気下で焼成することを特徴とする棒状酸化錫インジウム粉末の製造方法、および比表面積(BET)22〜100m2/g、短径5〜50nm、長径30〜150nm、アスペクト比3以上の棒状酸化錫インジウム粉末。 (もっと読む)


【課題】従来の針状粉末より微細であって比表面積が大きく、熱線遮蔽性に優れた棒状ないし針状の酸化錫インジウム粉末とその製造方法を提供する。
【解決手段】三塩化インジウム水溶液と四塩化錫水溶液とを混合し、この混合液にアルカリ水溶液を添加してpH5.0〜8.5に調整し、液温5℃以上で反応させ、生成した沈澱物を固液分離して回収し、乾燥後、大気下で焼成することを特徴とする棒状酸化錫インジウム粉末の製造方法、および比表面積(BET)22〜100m2/g、短径5〜50nm、長径30〜150nm、アスペクト比3以上の棒状酸化錫インジウム粉末。 (もっと読む)


本発明は次の式(A):(Cu+1a−u;Ag+1;Zn+2b−v−(y/2);Cd+2;Sn+4c−w−(y/2)+4+3;S−2d−x;Se−2)の固体材料であって、15nmから400nmの平均相当直径を有する粒子の形態の微粉状態にあり;X線回折による上記固体材料の分析によって、単結晶構造を示し;8より大きいδ値と5より大きいδ値を有する少なくとも一の化合物から形成された、分散液と呼ばれる液体中の式(A)の少なくとも一の固体材料の安定な分散物を形成可能なように適合化されている固体材料に関する。
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【課題】 本発明は分散安定性が高いコアシェル型複合酸化物微粒子の分散液および該分散液の製造方法、該コアシェル型複合酸化物微粒子を含む塗料組成物、硬化性塗膜および硬化性塗膜付き基材に関するものである。
【解決手段】 ケイ素および/またはアルミニウムを主成分として含まない酸化物微粒子または複合酸化物微粒子をコア粒子として、その表面をケイ素とアルミニウムとを主成分として含む複合酸化物からなるシェルで被覆したコアシェル型複合酸化物微粒子の、シェルに含まれるケイ素とアルミニウムの含有量が酸化物換算基準の重量比でSiO2/Al23=2.0〜30.0の範囲にあることによって、表面負電荷量およびコアに対するシェルの被覆率が高く、超安定なコアシェル型複合酸化物微粒子の分散液が得られる。 (もっと読む)


【課題】Snめっき金属材料からSnを分離させる化学的処理に伴って二次廃棄物や廃棄物ができてしまうのを抑える。
【解決手段】水酸化ナトリウムの溶融塩を収容した反応槽1にSnめっき廃材Wを浸漬することで、短時間にSnめっき層のSnが溶融塩中に溶出する。反応槽1の中の溶融塩には酸素が供給される。酸素を供給して酸素雰囲気で処理することで、溶融塩中に溶出したSnの化合物はSn酸化物が主体となって沈殿すると共に反応によって生成されるH2Oで、溶融塩中の酸化ナトリウムが水酸化ナトリウムに再生される。 (もっと読む)


【課題】 簡易な処理により、インジウム、ガリウムまたはスズを含む金属含有物から、効率的にこれらの金属を回収する方法を提供する。
【解決手段】 本発明の金属の回収方法は、インジウム、ガリウムまたはスズを含む金属含有物を、鉄還元細菌で処理することにより、インジウム、ガリウムまたはスズを回収する。この方法により回収されるインジウム、ガリウムまたはスズは、高濃度に濃縮されており、工業的に再利用するのが容易である。 (もっと読む)


試薬溶液から固体膜を基材上に堆積するための装置は、試薬溶液内における均一反応を阻害するのに十分低い温度に保った試薬溶液の貯槽を備える。冷却した溶液は、シャワーヘッドにより、一度に、基材上に分注される。シャワーヘッドの1つが試薬溶液を微細ミストとして送達するようにネブライザーを含むのに対して、他のシャワーヘッドは試薬を流れるストリームとして送達する。基材の下に配置されたヒータは、試薬溶液からの所望の固体相の堆積が開始され得る温度に基材を昇温して保つ。各試薬溶液は、少なくとも1種の金属およびSもしくはSeのいずれかまたは両方を含有する。試薬溶液の少なくとも1つは、Cuを含有する。該装置およびそれに関連する使用方法は、Cu含有化合物半導体の膜を形成するために特に適する。
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【課題】高純度のITOを、低コストで効率よく得ることができるITOの製造方法を提供する。
【解決手段】フラットパネルディスプレイのガラス基板などのITOが付着しているガラス基板を、400℃以上、ガラス基板の溶融温度未満で、30秒乃至1時間、加熱処理する。加熱処理後、水または冷えた雰囲気中で急冷処理を行うことにより、ガラス基板の熱膨張率とITOの熱膨張率との差により、ガラス基板からITOを分離させる。さらに、ガラス基板から分離した急冷処理後のITOを、再度400℃以上で加熱してもよい。 (もっと読む)


【課題】粒子凝集が少なく、透明度が高く、ヘイズの値が小さく、粒子表面の酸化が抑えられ、高い赤外線遮蔽率を有する赤外線遮蔽膜を成膜することの出来る赤外線遮蔽材料、当該赤外線遮蔽材料を含む赤外線遮蔽用塗料、当該赤外線遮蔽用塗料を用いて成膜された赤外線遮蔽膜、並びに、透明基材に当該赤外線遮蔽膜が設けられた赤外線遮蔽基材を提供する。
【解決手段】 表面が有機物で被覆された赤外線遮蔽材料粒子を含む赤外線遮蔽材料であって、当該赤外線遮蔽材料粒子を被覆している有機物の炭素含有量が、当該赤外線遮蔽材料の0.2質量%以上、5質量%以下である赤外線遮蔽材料、当該赤外線遮蔽材料を含む赤外線遮蔽用塗料、当該赤外線遮蔽用塗料を用いて成膜された赤外線遮蔽膜、並びに、透明基材に当該赤外線遮蔽膜が設けられた赤外線遮蔽基材を提供する。 (もっと読む)


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