説明

国際特許分類[C03B11/00]の内容

国際特許分類[C03B11/00]の下位に属する分類

国際特許分類[C03B11/00]に分類される特許

31 - 40 / 1,005


【課題】開角の大きな複数の光学素子成形用型に対して、成形用型の周辺部において、離型不良、融着不良、成膜剥れ不良が発生のない、ガラスプレス用テトラヘドラルアモルファスカーボン膜成膜方法を提供する。
【解決手段】成形面が凸状の型母材3の内部に磁石4を配置し、前記各型母材3の外側にはリング状磁石5を配置し、複数の型母材3を同心円状に配置した状態で、前記磁石4とリング状磁石5により形成される磁場が、前記型母材3の頂点部の法線方向の磁束密度が最も高くし、前記各型母材3に電圧を印加しながら、フィルタードカソ−ディックバキュームアーク法によって、前記型母材3の成形面にテトラヘドラルアモルファスカーボン膜を成膜する。 (もっと読む)


【課題】真円度に優れた磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造方法を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材Gであって、溶融したガラスLGの塊を落下させる落下工程と、ゴブGGの落下経路の両側から、互いに対向する一対の型121,122の面でゴブGGを挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Gを成形するプレス工程と、を有し、一対の型121,122の少なくとも一方は、ゴブGGの落下経路側が凹形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材Gの製造方法。 (もっと読む)


【課題】主表面の表面凹凸(表面粗さやうねりや平坦度)及び端部のダレを抑制した磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で塊を挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、を有し、一対の型の少なくとも一方は、前記塊の落下経路に向かって凸形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法。 (もっと読む)


【課題】少量多品種生産に好適な電子機器用カバーガラスブランクの製造方法および電子機器用カバーガラスの製造方法を提供すること。
【解決手段】溶融ガラスの塊を一対の金型を用いてプレス成型する成型工程を含む電子機器用カバーガラスブランクの製造方法であって、上記溶融ガラスをプレス成型する際の一対の金型の対向位置における温度差と、プレス成型後に得られたガラスブランクの平坦度との間の関係に基づいて、電子機器用カバーガラスに要求される平坦度を実現できる上記一対の金型の温度差を求め、一対の金型の温度を上記求められた温度差以内になるように上記一対の金型温度を制御しながら、プレス成型を行う。 (もっと読む)


【課題】カバーガラス板の外形枠加工やカバーガラス板表面の後加工を行わずに、任意の外枠形状及び表面形状を有するカバーガラス板を容易に製造することを可能とする、カバーガラス板の製造方法を提供する。
【解決手段】滴下工程(A)では、下金型1の平面部1aに一定量の溶融ガラス3を滴下する。プレス工程(C)では、平面部1a上の溶融ガラス3を上金型2でプレスすることにより、溶融ガラス3を上金型2の成形用の凹部2aに充填し、更に凹部2aから上金型2と下金型1との間にはみ出させて、そのはみ出し部分7bを有する予備成形体7を形成する。加工工程(D)〜(G)では、平面研削又は平面研磨によりはみ出し部分7bを予備成形体7からすべて取り除く。 (もっと読む)


【課題】使用する下型の数を2つにしてバラツキによる影響を最小限に抑え、且つ、成形時間を短縮した光学素子成形装置を提案する。
【解決手段】レンズ成形装置は、2つの下型34,35に装填された光学素材13を1つの上型で交互に加圧してレンズを成形する。2つの下型34,35は移動ステージ36に形成された載置孔38に嵌合して位置決めされ支持される。下型34,35にはフランジ部39が形成され、これが載置孔38の縁に当接する。移動ステージ36には加熱位置Aとプレス位置Bとが設定され、加熱位置Aでは光学素材13を加熱し、プレス位置Bでは光学素材13を加圧してレンズ14を形成する。移動ステージ36は、加熱位置Aとプレス位置Bの中間が回転装置の回転軸45に固定され、回転軸45を中心にして180°回転で往復運動して、下型34と35を加熱位置Aとプレス位置Bの間で交互に移動させる。 (もっと読む)


【課題】高温成形性に優れ、精密プレス成形に好適なプレス成形予備体を与えることができる高屈折率・低分散特性を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】必須成分として、B23、La23、Gd23およびZnOを含むとともに、鉛およびフッ素を実質上含まず、かつ屈折率が1.72〜1.83、アッベ数が45〜55、ガラス転移温度が630℃以下および液相温度における粘度が0.6Pa・s以上である光学ガラス、並びにモル%表示で、B23 45〜65%、La23 5〜22%、Gd23 1〜20%(ただし、La23とGd23の合計含有量が14〜30%)、ZnO 5〜30%、SiO2 0〜10%、ZrO2 0〜6.5%およびSb23 0〜1%を含むとともに、鉛およびフッ素を実質上含まず、かつ屈折率が1.72〜1.83およびアッベ数が45〜55の光学ガラスである。 (もっと読む)


【課題】材料であるカルコゲナイドガラスに無駄が生じないようにするとともに、プリフォームを簡単な型で形成しても成形時にガス残りすることのないようにする。
【解決手段】本発明による赤外用レンズの製造方法は、円形断面の棒状に形成されたカルコゲナイドガラス棒を作製する工程と、前記カルコゲナイドガラス棒を円盤状に切断して光学チップを切り出す工程と、プリフォーム成形用金型を用いて前記光学チップからプリフォームを作製する工程と、前記プリフォームをプレスして赤外用レンズを形成する工程と、からなることを特徴とする。前記円盤状に切り出される光学チップは、その光学チップから形成される前記赤外用レンズの体積と略等しいようにする。前記赤外用レンズは凸の光学面を有し、前記プリフォームは前記赤外用レンズの前記凸の光学面より曲率半径の小さい凸の曲面を有するようにする。 (もっと読む)


【課題】ガラス光学素子の製造方法において、ガラス光学素子を高精度に製造する。
【解決手段】ガラス光学素子の製造方法は、ガラス素材を加熱する加熱工程と、加熱された上記ガラス素材を第1の成形型及び第2の成形型により加圧する加圧工程と、上記ガラス素材を上記第1の成形型及び上記第2の成形型により加圧した状態で冷却する冷却工程と、を含み、上記冷却工程の少なくとも一部は、上記第1の成形型及び上記第2の成形型によりガラス素材を加圧する圧力を加圧側(C11,C12,C13)及び減圧側(T11,T12,T13)のうち一方へ変化させた後に連続的に他方へ変化させる圧力変動を1セット以上行う離型促進工程からなる。 (もっと読む)


【課題】一度に複数個の光学素子の成形を行うとともに、成形される光学素子のバラツキを最小限に抑えた光学素子成形装置を提案する。
【解決手段】一対の転写面31,61を有する上型60と下型30とが、8個づつ等間隔で円環状に配置される。前記一対の転写面が同一軸上で対向する位置に形成された複数の下型装着孔とその中心位置に形成された第1ヒータ装着孔とが形成された胴型と、前記第1ヒータ装着孔に挿入された第1ヒータと、前記胴型の外周を取り囲むように設けられる第2ヒータとを備え、前記胴型の中心側と外周側の両方から上型60と下型30とを加熱することで、均一な加熱を行う。更に、8組の中の少なくとも1組の上型60及び下型30の温度を測定するとともに、隣合う2つの下型の中間位置に温度センサを挿入して場所によるバラツキがないことを確認した後に成形を行う。 (もっと読む)


31 - 40 / 1,005