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国際特許分類[C03B11/00]の内容

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【課題】高温用途材の表面に耐熱性や耐高温摩耗性に優れ溶射皮膜を形成するのに有効に用いられる耐熱合金溶射粉末材料を得ること。
【解決手段】0.5〜10mass%のW、20mass%以下のCrを含有し、残部がNiであるNi−W−Cr耐熱合金、あるいはNi−W−Cr−(Pおよび/B)合金からなり、かつ粒径が6〜70μmの大きさである高温用途材被覆用の耐熱合金溶射粉末材料とそれを製造する方法。 (もっと読む)


【課題】離型性、耐熱性、加工性に優れ、大面積化が可能であり、製造コストが低廉であり、低環境負荷である成形金型用Ni−W電鋳液、成形金型の製造方法、成形金型および成形品の製造方法を提供する。また、環境負荷の小さい成分を含有する成形金型用Ni−W電鋳液およびこれを用いた成形金型の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】表面に凹凸状のパターンを有する成形品の成形加工に用いられる成形金型を電鋳によって作製する際に用いられる成形金型用Ni−W電鋳液であって、少なくともスルファミン酸ニッケルとタングステン酸ナトリウムを合計で0.40mol/l含み、かつ、スルファミン酸ニッケルを0.04mol/l〜0.20mol/l含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】プレス時にガラスがプレス面に融着するのを抑制し、厚み/直径のより小さい形ガラスブランクを作製すること。
【解決手段】表面温度が下式1、2を満たす下型プレス面中央に、軟化状態のガラスを供給し上型と下型でプレスする工程を経てガラスブランクを製造する方法。これに用いる下型およびプレス装置、ならびに、これを用いた情報記録媒体用基板および情報記録媒体製造方法。
・式1 Tg−200≦Tc<Te≦Tg+50
・式2 1.5≦ΔT≦6
式中、Tcはガラスブランクの中心点に対応する位置のプレス面におけるプレス成型直前の温度(℃)、Teはガラスブランクの最外周に対応する位置のプレス面におけるプレス成型直前の温度(℃)、Tgはガラスのガラス転位温度(℃)、ΔTはプレス成型直前のプレス面の温度勾配(℃/mm)を表す。 (もっと読む)


【課題】ガラス光学素子の製造方法及びガラス光学素子成形用型セットにおいて、光学素子の面精度のばらつきを抑える。
【解決手段】ガラス光学素子の製造方法は、ガラス素材100からなる光学素材を加熱する加熱工程と、スリーブ13により偏心を規制された第1の成形型(上型11)及び第2の成形型(下型12)により、加熱された光学素材(100)を加圧する加圧工程と、第1の成形型(11)及び第2の成形型(12)により光学素材(100)を加圧した状態でこの光学素材(100)を冷却する冷却工程と、を含み、上記冷却工程では、第1の成形型(11)及び第2の成形型(12)のうち少なくとも一方(下型12)に対するスリーブ13による偏心の規制を緩める。 (もっと読む)


【課題】光学素子にクモリ及び偏心が生じるのを抑えることができる光学素子の製造方法、光学素子成形用型セット及び光学素子の製造装置。
【解決手段】光学素子の製造方法は、上型2gの成形面2g−1の中心軸A1と下型11の成形面の中心軸A2と光学素材100の中心A3とを一致させるように上型2g、下型11、及び光学素材100を配置する中心合わせ工程と、上型2gの成形面2g−1及び下型11の成形面に非接触の状態の光学素材100を加熱する加熱工程と、加熱された光学素材100に上型2gを接近移動させることで上型2gの成形面2g−1を接触させる接触工程と、上型2gの成形面2g−1に接触した状態の光学素材100を、下型11を上型2gに接近移動させることで加圧する加圧工程と、加圧された光学素材100を冷却する冷却工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】光学素子の製造方法及び光学素子の製造装置において、光学素子の外周粗面を成形により確実に形成する。
【解決手段】光学素子の製造方法は、光学素子材料100を加熱する加熱工程と、光学素子材料100を挟んで対向して配置される第1の成形型(11)及び第2の成形型(12)と、光学素子200の外周部となる部分に粗面形状を転写する第3の成形型(13)とが、光学素子材料100に形状を転写するように、加熱された光学素子材料100を加圧する加圧工程と、加圧された光学素子材料100を冷却させる冷却工程と、を含み、上記加圧工程において光学素子材料100が第3の成形型(13)の成形面13aに到達した後に、光学素子材料100を第1の成形型(11)及び第2の成形型(12)により挟持した状態で振動させる。 (もっと読む)


【課題】ガラス素材をプレス成形して「クモリ」のない光学性能に優れる光学素子を安定して製造するためのガラス原料を溶解する方法及び装置を提供する。
【解決手段】光学素子の製造方法は、ガラス原料12を溶解してガラス素材を得る工程と、ガラス素材を加熱軟化し、成形型を用いてプレス成形する工程とを含み、ガラス原料12の溶解を、露点15℃以下の雰囲気で行う。また、製造装置は、ガラス原料を溶解する容器13(坩堝)と、前記容器13の周囲に露点を制御した雰囲気を形成する手段(ガス導入パイプ)15と、を備える。 (もっと読む)


【課題】熱間成形法を用いて、より所望の形状に近い近似形状プリフォームを成形するための手段を提供すること。
【解決手段】精密プレス成形用ガラスプリフォームの製造方法。下型凹部にキャストした熔融ガラスを、該下型凹部表面に設けられた複数のガス噴出口から噴出する浮上ガスにより浮上状態に保持した後、浮上ガスを噴出し続け上方から上型によりプレスすることによりガラス塊上面を所定形状に成形する。上型によるプレスを解除した後、上型および下型の少なくとも一方を移動させることでガラス塊上面の上方から上型を除去し、次いでガラス塊上面の上方にガス噴出ノズルを配置し、前記所望の形状に成形したガラス塊上面が固化する前に、上記ガス噴出ノズルからガラス塊上面に向けてガスを噴出し風圧を加えることで、ガラス塊が前記プレスにより成形した形状から中心肉厚が増加するように変形することを抑制する期間を設ける。 (もっと読む)


【課題】板厚のばらつきが小さい板状ガラス素材を製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で前記塊を同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、前記プレス工程時における前記塊の全体における位置による粘度差を低減すべく、前記プレス工程前に、前記塊の温度を調整する温度調整工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法。 (もっと読む)


【課題】炭化ケイ素(炭化ケイ素)を母材とする微細周期構造を有するモールドにおいて、ガラスの成型などの用途に適した傾斜した断面形状の微細周期構造を有するモールドを、比較的簡単な方法によって再現性良く形成出来る方法を提供する。
【解決手段】炭化ケイ素基板上に、開口部を有するタングステンシリサイドからなるドライエッチング用マスクを形成した後、エッチングガスとしてフッ素含有ガス単独又はフッ素含有ガスと酸素ガスとの混合ガスを用いて、反応性イオンエッチング法によって炭化ケイ素基板をドライエッチングすることを特徴とする炭化ケイ素製モールドの製造方法。 (もっと読む)


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