【課題】光学素子の製造方法及び製造装置において、高精度に光学素子を製造する。
【解決手段】光学素子の製造方法は、光学素子材料１００を加熱する加熱工程と、加熱された光学素子材料１００を光学素子成形用の型セット２の成形領域Ｓ内で加圧する加圧工程と、加圧された光学素子材料１００を冷却する冷却工程と、を含み、少なくとも加圧工程での成形領域Ｓ内の圧力を調整する圧力調整工程を更に含み、圧力調整工程では、光学素子材料１００のうち型セット２により成形される成形面以外の部分である非成形部分に加わる圧力を調整して光学素子材料１００の形状を制御する。 （もっと読む）

【課題】光学素子の製造方法及び製造装置において、光学素子材料を気体中で浮遊させて加熱し、加熱された光学素子材料を成形型へ供給する場合における成形条件の制約を低減する。
【解決手段】光学素子の製造方法は、光学素子材料２００を気体中で浮遊させて加熱する加熱工程と、加熱された光学素子材料２００を、第１の成形型（可動型２１）と第２の成形型（固定型３１）との中心同士を結ぶ中心軸Ａと交差する方向（軌跡Ｔ）から、第１の成形型（可動型２１）と第２の成形型（固定型３１）との間の空間である型間空間Ｓに非接触状態で供給する供給工程と、型間空間Ｓに供給された光学素子材料２００を第１の成形型（可動型２１）及び第２の成形型（固定型３１）により加圧する加圧工程と、加圧された光学素子材料２００を冷却する冷却工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】光学素子の製造方法及び製造装置において、加熱ガスにより浮遊状態で加熱された光学素子材料を非接触で精度良く加圧位置へ供給する方法の提供。
【解決手段】光学素子材料１００を浮遊させて加熱する加熱工程・成形型への供給工程と、供給された光学素子材料１００が第１の成形型２１及び第２の成形型３１のいずれか一方の成形型に接触する工程・加圧工程・冷却工程と、を含み、加熱工程が開始したとき以降に光学素子材料１００の位置を計測する位置計測工程と、位置計測工程で計測された前記光学素子材料１００の位置に基づき、加熱部１０と光学素子材料１００と第１の成形型２１と第２の成形型３１とのうち少なくとも１つの位置を、接触工程において光学素子材料１００が前記一方の成形型に接触する前までに制御する位置制御工程と、を更に含み、位置制御工程における位置の制御は、光学素子材料１００に対して非接触で行われる。 （もっと読む）

【課題】光学素子の製造方法及び製造装置において、加熱ガスにより加熱された光学素子材料を精度良く加圧位置へ供給する。
【解決手段】光学素子の製造方法は、加熱部１０の内部において加熱ガスにより光学素子材料１００を加熱する加熱工程と、加熱された光学素子材料１００を第１の成形型（可動型２１）と第２の成形型（可動型３１）との間に供給する供給工程と、供給された光学素子材料１００を第１の成形型（２１）及び第２の成形型（３１）により加圧する加圧工程と、加圧された光学素子材料１００を冷却する冷却工程と、を含み、位置決め部材８０を光学素子材料１００に当接させて光学素子材料１００を位置決めする位置決め工程を更に含み、加熱工程では、位置決め部材８０により位置決めされた状態の光学素子材料１００を加熱する。 （もっと読む）

【課題】光学素子および光学素子の製造方法において、酸化ビスマスを含むガラス材料で構成されていても、光学有効領域外への塗料の塗布が容易となり、塗料の剥がれを抑制することができるようにする。
【解決手段】酸化ビスマスを含むガラスＧで成形されたレンズ１であって、光学有効領域Ｅ_ａ、Ｅ_ｂ外のガラス表面に、金属ビスマスを含む変質層Ｔが形成された構成とする。 （もっと読む）

【課題】加工時間が短く、工具としての寿命が長く、像形成品質が高いパターン形成型及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係るパターン成形型は、被加工材の表面に、凹凸を有するパターンを転写するパターン成形型であって、基材１と、基材１に中間層２、３を介して接合されたＤＬＣパターン層４ｂとで構成され、基材１が、剛性を有する金属、セラミックス、又はガラスであり、中間層２、３が、基材１及びＤＬＣパターン層４ｂとの接合性を提供し、かつ、ＤＬＣパターン層４ｂに比べ、エッチングレートが小さい層であり、ＤＬＣパターン層４ｂに、被加工材の表面に転写するパターンが形成されている。 （もっと読む）

【課題】安定性が低い（結晶化しやすい）ガラス種や高比重高屈折率ガラス等を用いて、熔融ガラスを鋳型に連続的に流し込み、高品質なガラス素材を安定して製造可能とするためのガラス成形体の製造方法を提供する。
【解決手段】容器１内に蓄積した熔融ガラスを前記容器１に接続したガラス流出パイプ２により流下させ、該流出口の下方に配置した鋳型に連続して流し込んで成形するガラス成形体の製造方法において、前記ガラス流出パイプ２として、一端にガラス流出口を有する流出部と、熔融ガラスを前記流出部へと導くとともに、前記流出部の内径よりも小さい内径を有する絞り部４とを備えるパイプを使用し、更に該パイプ中を流れる熔融ガラス流の径を逆テーパ管部５で拡大してから流出すること、および、鋳型内における熔融ガラスの液位が前記パイプの流出口より低い状態を維持しながら熔融ガラスを鋳型に流し込むこと、を特徴とするガラス成形体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】外周端部まで主表面の平面度が良好であり、かつ取り代の大きい研削工程を省くことができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】溶融ガラスの塊を一対の金型を用いてプレス成形してガラスブランクを成形する成形工程と、成形されたガラスブランクをディスク形状のガラス基板に形状加工する形状加工工程と、上記ディスク形状のガラス基板の少なくとも外周端部に面取り面を形成する面取り面形成工程と、面取り面が形成されたガラス基板の主表面を研磨する研磨工程とを含む。成形工程では、一対の主表面の中央部が凹んでおり、かつ中心部から外周端部に向かって板厚が大きくなるガラスブランクを成形し、面取り面形成工程では、主表面と面取り面に隆起部が介在するガラス基板を形成し、研磨工程では、隆起部が主表面と同じ高さとなるようにガラス基板の研磨を行う。 （もっと読む）

【課題】本発明は、所定の超硬合金を基材とした光学素子用成形型について、より寿命の長い離型膜をその成形面に形成可能とした光学素子用成形型及びその製造方法を提供する。
【解決手段】タングステンカーバイドを主成分とする超硬合金（バインダレス超硬合金を除く）からなる基材２の成形面に、ダイヤモンドライクカーボンからなる離型膜４を形成した光学素子用成形型であって、基材２と離型膜４との間に、立方晶からなる結晶構造を有し、その表面粗さＲａが０．５ｎｍ以下であるタングステンカーバイド膜３を介在させた光学素子成形用成形型１。 （もっと読む）

【課題】光学素子の製造方法及び製造装置において、雰囲気によらず且つ光学素子の製造に悪影響を与えずに、型セットを確実に除電する。
【解決手段】光学素子の製造方法は、光学素子成形用の型セット１００内に収容された成形素材１２０を加熱する加熱工程と、加熱された成形素材１２０を加圧する加圧工程と、加圧された成形素材１２０を冷却する冷却工程と、を含み、イオン性液体Ｌによって型セット１００を除電する除電工程を更に含む。 （もっと読む）