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国際特許分類[C03B20/00]の内容

国際特許分類[C03B20/00]に分類される特許

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【課題】歪除去及び純化を効果的に行うことのできる合成シリカガラス体の熱処理方法を提供し、紫外線、特にArFエキシマレーザー光の照射に対して長期間、優れた光透過性を示す合成シリカガラス製光学部材の製造方法を提供する。
【解決手段】被処理物である合成シリカガラス体50の歪除去及び純化を行う熱処理方法であって、前記被処理物の外表面の全てをAl濃度10ppm〜30ppm、且つNa濃度50ppb未満のSiO質粉体20によって接触状態で被覆し、900℃〜1300℃の温度範囲で30分〜800時間の熱処理を行うようにした。 (もっと読む)


【課題】球状の不純物が少ない合成シリカガラス粉末を経済的に製造することができる方法、およびこの方法によって製造した球状の合成シリカガラス粉末を提供する。
【解決手段】合成したシリカ質のゲルをスプレー乾燥して球状化し、この球状乾燥粒子を焼成してガラス化することを特徴とする合成シリカガラス粉末の製造方法であり、好ましくは、球状乾燥粒子を1125℃以上に加熱焼成して、嵩比重1.0以上、比表面積0.1m2/g以下にする製造方法、および上記方法によって製造され、光透過性が焼成前の乾燥粒子より低いことを特徴とする合成シリカガラス粉末。 (もっと読む)


【課題】紫外線レーザと共に使用される光学部材等の材料として有用な合成石英ガラスの製造方法、並びにそれに用いる熱処理装置の提供。
【解決手段】ケイ素化合物と、酸素及び水素を含有する燃焼ガスと、をバーナから噴出させてケイ素化合物を酸水素火炎中で加水分解させることにより石英ガラス微粒子を生成させ、ターゲット上に堆積させるとともに透明化して合成石英ガラスインゴットを得る第一のステップと、第一のステップで得られた合成石英ガラスインゴット等を900℃以上の第一の保持温度まで加熱し、保持した後、500℃以下の温度まで10℃/h以下の降温速度で冷却する第二のステップと、第二のステップで得られた合成石英ガラスインゴット等を500℃以上1100℃以下の第二の保持温度まで加熱し、保持した後、第二の保持温度より100℃低い温度まで50℃/h以上の降温速度で冷却する第三のステップと、を含むものである。 (もっと読む)


【課題】耐失透性に優れ、各種合成シリカ材料に好適で、特に、放電灯用のバルブ材として好適に用いられる耐失透性合成シリカガラス及びその製造方法を提供することを目的とする。また、ランプ寿命を長く保持できる放電灯用合成シリカガラス製バルブ、該バルブを用いた放電灯装置、及び放電灯用合成シリカガラス製バルブの製造方法を提供する。
【解決手段】250nmでの酸素欠損型欠陥量が吸収係数で0.01〜2/cm、Cl含有量が10ppmを超え10000ppm以下、OH基含有量が10ppm以下、アルカリ金属の合計含有量が10ppm以下、水素分子濃度が1×1016分子/cm以下、及び1100℃での粘度が1014〜1016ポアズであるようにした。 (もっと読む)


【課題】比較的短時間の熱処理で脈理が抑制されたTiO2−SiO2ガラス体を得ることができるTiO2−SiO2ガラス体の製造方法の提供。
【解決手段】(a)TiO2−SiO2ガラス微粒子を基材に堆積、成長させて多孔質TiO2−SiO2ガラス体を得る工程、(b)前記多孔質TiO2−SiO2ガラス体を真空雰囲気下、または、不活性ガス雰囲気下で、1300℃以上で熱処理することにより、前記多孔質TiO2−SiO2ガラス体を緻密化する工程、(c)前記緻密化されたTiO2−SiO2ガラスを成型容器内に設置し、前記成型容器内で前記TiO2−SiO2ガラスを軟化点以上の温度で加圧成型する工程、および、(d)前記加圧成型後のTiO2−SiO2ガラスを1600℃以上の温度で10時間以上保持する工程を有する、TiO2−SiO2ガラス体の製造方法であって、前記(c)工程におけるTiO2−SiO2ガラスの加圧方向が、前記(a)工程におけるTiO2−SiO2ガラス微粒子の堆積方向と一致し、加圧成型後のTiO2−SiO2ガラスの厚みが、加圧成型前の該TiO2−SiO2ガラスの厚みの0.6倍未満であることを特徴とするTiO2−SiO2ガラス体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】露光装置にセットしたときの透光性基板の平坦度をシミュレーションにより高精度に算出してマスクブランク用基板を製造する。
【解決手段】シミュレーション工程S3において、主表面形状の情報とマスクステージの形状情報とに基づき、捩じれ変形を考慮した撓み微分方程式を用いて、透光性基板を露光装置にセットしたときの複数の測定点の高さ情報をシミュレーションして得て、このシミュレーションして得た高さ情報に基づき、平坦度算出工程S4にいて透光性基板を露光装置にセットしたときの当該透光性基板の平坦度を算出する。この平坦度が仕様に適合するか否かを選定工程S4で判定して、平坦度が仕様に適合する透光性基板をマスクブランク用基板として用いる。 (もっと読む)


【課題】広い温度範囲において熱膨張係数がほぼゼロとなるTiOを含有するシリカガラスの製造方法の提供。
【解決手段】TiOを含有するシリカガラスの製造法であって、(a)ガラス形成原料であるSi前駆体およびTi前駆体を火炎加水分解して得られる石英ガラス微粒子を基材に堆積、成長させて多孔質ガラス体を形成する工程と、(b)多孔質ガラス体を、透明ガラス化温度まで昇温して透明ガラス体を得る工程と、(c)透明ガラス体を、軟化点以上の温度に加熱して所望の形状に成形し、成形ガラス体を得る工程と、(d)成形ガラス体を500℃を超える温度にて5時間以上保持した後に500℃まで10℃/hr以下の平均降温速度で降温するアニール処理を行う工程と、を含む製造法。 (もっと読む)


【解決手段】ガラス形成原料から酸水素火炎によりシリカ微粒子を生成し、これを回転している耐熱性基体上に堆積させて多孔質シリカ焼結体を形成し、これを熱処理炉内で真空下又は雰囲気ガス下で加熱により透明ガラス化して、合成石英ガラス部材を製造する方法において、熱処理炉内に回転する複数本の回転軸を設け各回転軸上に耐熱性の円筒管を据えた中に耐熱性基体及びこれに堆積された多孔質シリカ焼結体を仕込み、各々の回転軸を独立に又は同期に回転させながら、複数本の円筒管の全体を囲繞し、且つ、円筒管の高さよりも低いヒーターで加熱して、複数の多孔質シリカ焼結体を同時に透明ガラス化することを特徴とする合成石英ガラス部材の製造方法。
【効果】本発明により、透過性が高い合成石英ガラス部材を効率よく製造することができる。 (もっと読む)


【課題】広い温度範囲において熱膨張係数がほぼゼロとなるTiOを含有するシリカガラスの製造方法の提供。
【解決手段】TiOを含有するシリカガラスの製造方法であって、(a)ガラス形成原料を火炎加水分解して得られる石英ガラス微粒子を基材に堆積、成長させて多孔質ガラス体を形成する工程と、(b)多孔質ガラス体をフッ素含有雰囲気下にて保持し、フッ素を含有した多孔質ガラス体を得る工程と、(c)フッ素を含有した多孔質ガラス体を、透明ガラス化温度まで昇温して、フッ素を含有した透明ガラス体を得る工程と、(d)フッ素を含有した透明ガラス体を、軟化点以上の温度に加熱して所望の形状に成形し、フッ素を含有した成形ガラス体を得る工程と、(e)成形ガラス体を500℃を超える温度にて5時間以上保持した後に500℃まで10℃/hr以下の平均降温速度で降温するアニール処理を行う工程、を含む製造方法。 (もっと読む)


【課題】脈理の発生を抑えることができる、EUVL用光学部材に好適なTiO2−SiO2ガラスの製造方法の提供。
【解決手段】平均粒子径0.5mm以下、かつ、D90=1.2mm以下に分級されたTiO2−SiO2ガラス微粒子を加熱成型用の型に充填した後、1MPa以上の荷重をかけながら、大気雰囲気下、1100℃〜1300℃で熱処理を行い多孔質TiO2−SiO2ガラス成型体を得る工程、および、真空雰囲気下、または、ヘリウムガス雰囲気下で、1300℃以上で熱処理することにより、該多孔質TiO2−SiO2ガラス成型体を緻密化する工程を含む、TiO2−SiO2ガラス体の製造方法。 (もっと読む)


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