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国際特許分類[C03B20/00]の内容

国際特許分類[C03B20/00]に分類される特許

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【課題】低レベルの偏光誘起複屈折、低レベルの光誘起波面歪曲及び高レベルの初期内部透過率を有する、合成石英材料及びその作成方法を提供する。
【解決手段】開示には約300nmより短波長におけるリソグラフィに用いるための光学素子に使用することができるODドープ合成石英ガラスが含まれる。ODドープ合成石英ガラスはOH濃度が同程度の無ODドープ石英ガラスよりもかなり小さい偏光誘起複屈折値を有することがわかった。ODドープ合成石英ガラス、そのようなガラスからなる光学部材及びそのような光学部材を備えるリソグラフィシステムも開示される。ガラスは、約193nmにおける偏光誘起複屈折値が極めて小さいことから、浸漬リソグラフィシステムに特に適する。 (もっと読む)


【課題】従来の貼り合せ工程で必要とされている面精度の向上を不要としかつ貼り合わせ用の設備を省略でき、コストも削減も実現することができる微細中空流路を有する石英ガラス物品の製造方法の提供。
【解決手段】平坦なシリカ基板10の上面に燃焼除去可能な物質からなる凸状微小流路パターン部12を形成する工程と、該微小流路パターン部を被覆するようにシリカ粉含有グリーン層14を設けシリカ基板及びシリカ粉含有グリーン層からなるシリカ複合体16を形成する工程と、該シリカ複合体を酸化性雰囲気で加熱保持して該微小流路パターン部を燃焼除去することにより微小中空流路12Aを形成し微小中空流路を有するシリカ複合体16Aを形成する工程と、該微小中空流路を有するシリカ複合体を高温に加熱して焼結透明化しかつ溶融一体化することにより微小中空流路を有する石英ガラス物品20を形成する工程と、を含むようにした製造方法。 (もっと読む)


【課題】Tzcに対する許容値、CTE対温度の傾き、およびTzcの空間的均一性などの特定のパラメータに対して必要な改善がなされ、かつ25nm未満のノードのリソグラフィにシステムの素子として使用するのに適した、ドープされたシリカ・チタニアガラスを提供する。
【解決手段】選択された重量のシリカ・チタニア粉末と選択された重量のドーパント粉末とを検量して、このシリカ・チタニア粉末および選択されたドーパント粉末を混合し、さらに選択された流体を用いて、この混合された粉末のスラリーを形成する。このスラリーを噴霧乾燥して、およそ200μm以下の直径サイズを有する自由流動微粒子を含んだ粉末を形成する。この粉末を、一軸加圧成形を用いて、次いでさらに冷間静水圧加圧を用いて、成形品に成形し、この成形品をホットプレスにより固化してドープされたシリカ・チタニアガラスブランクとし、さらにガラスブランクをアニールする。 (もっと読む)


【課題】表層からのガラス微粒子粉や堆積層の脱落を抑制できる多孔質ガラス管の製造方法を提供する。
【解決手段】ロッド20の周囲にCVD法によりガラス微粒子を堆積させてガラス微粒子堆積体13を作製し、ガラス微粒子堆積体13からロッド20を引き抜いて筒状の多孔質ガラス管11を製造する多孔質ガラス管の製造方法であって、ガラス微粒子堆積体13の作製後に、ガラス微粒子堆積体13の表面をガラス微粒子の原料を含まない火炎により加熱する加熱処理を行う。 (もっと読む)


【課題】無欠陥かつ高い平坦性を有する低膨張のチタニアをドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素源原料ガス及びチタン源原料ガスを混合し、200〜400℃で加熱した後、可燃性ガス及び支燃性ガスにより酸化又は火炎加水分解させることを特徴とするチタニアドープ石英ガラスの製造方法。表面に体積30,000nm3以上の凹状欠陥がないEUVリソグラフィ用部材、特にEUVリソグラフィフォトマスク用基板として好適なチタニアドープ石英ガラスを得ることができる。 (もっと読む)


【課題】ルツボの構成材料に含まれるアルカリ金属によってルツボ内のシリコン融液が汚染されるのを防止することができ、しかも、シリコン融液の保持のための十分な強度を備えており、シリコン単結晶引上げの歩留向上を図ることができるシリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボを提供する。
【解決手段】ルツボ内層が合成石英ガラスからなり、ルツボ外層が2〜10ppmの添加Alが固溶した天然石英ガラスからなる石英ガラスルツボを構成する。 (もっと読む)


【課題】
CZ工程において用いられる時、るつぼ壁にはほとんど体積変化が観察されず、そして溶融レベルにおいてはほとんど影響せず、減少した結晶欠陥でゆっくり引き上げられるシリコンインゴットに特に好適なるつぼを提供する。
【解決手段】
本発明のシリカガラスるつぼは、安定している無気泡内層及び不透明な外層を有し、この両方の層は、チョクラルスキー工程の操業中、減少した気泡成長を示す。本発明の溶融工程は、成形された粒子が緻密な溶融シリカに溶融される溶融前線において動力学的なガスバランスを制御している。 (もっと読む)


【課題】設備にかかわりなく合成石英ガラス母材の径方向のΔnの均質性を高める。
【解決手段】バーナ1による酸水素火炎中でシリカガラス原料を加水分解してシリカ微粒子を生成するとともに、前記シリカ微粒子を堆積することで多孔質シリカ母材3を生成し、多孔質シリカ母材3を焼結して中心部のOH基濃度が25ppm以上50ppm以下の合成石英ガラス母材4を製造する方法であって、多孔質シリカ母材3の径方向の平均かさ密度が0.6g/cm3以上となるように、堆積中の堆積面温度を調整することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】要求される種々の形状に対応して、必要な光遮蔽性と赤外域の放射率を満たす黒色部分を持ち、合成石英ガラスと同等の金属不純物の純度を保持し、天然石英ガラス並の高温粘度特性を有し、溶接などの高温加工が可能で、表面から炭素が放出しない透明層と、黒色石英中、及び、透明層と黒色石英ガラスの界面に泡や異物がない、透明層付き黒色合成石英ガラス及びその製造方法を容易に提供する。
【解決手段】黒色石英ガラス部分と透明層石英ガラス部分を含む透明層付き黒色合成石英ガラスの製造方法であって、水酸基を含むシリカ多孔質ガラス体を、揮発性有機珪素化合物雰囲気中、所定温度で気相反応させた後、所定温度にて焼成する黒色石英ガラス作成工程と、前記黒色石英ガラス部分に、特定のシリカスラリーである透明層材料を塗布し、所定の条件で加熱処理する透明層作成工程と、を含むようにした。 (もっと読む)


【課題】紫外線を照射することにより遅延蛍光を発生するシリカガラス及び遅延蛍光を利用したシリカガラス製紫外線センサーを提供する。
【解決手段】合成シリカガラスにおいて、OH基含有量が1ppm以下であり、塩素の含有量が30ppm以下で、厚さ2mmの波長190nmでの透過率が50%以下であり、1280℃での粘度(Logη)が12.0poise以上であり、低圧水銀ランプの254nmの紫外線を照射した場合に400nm〜650nmの可視光領域に0.01秒以上の遅延蛍光を発生するようにした。 (もっと読む)


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