【課題】ガラス成形体への気泡の混入や、成形体の平坦度の低下を抑制でき、また成形型のリサイクル性を向上させることのできる石英ガラスの成形方法を提供する。
【解決手段】底板６と側壁３と天板５とで囲まれた成形型１内に石英ガラス８を載置し、石英ガラス８を軟化点以上に加熱、溶融して成形する石英ガラスの成形方法において、底板６が、二以上のカーボン製の板からなり、当該板は互いに隣接する端面が接合するように敷設されてなり、板の接合面から、成形型１の最も近い側壁３の内壁面３１までの距離が、この内壁面３１と対向する内壁面３１までの距離の１５％以下の距離である石英ガラスの成形方法。 （もっと読む）

【課題】断面内の屈折率を均等化できる合成シリカガラス及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】合成シリカガラスは、１００ｐｐｍ以上のＦ元素と、１ｐｐｍ以上でありかつＦ元素の含有量の−β／α（式中、αはＣｌ元素１ｐｐｍあたり変化する屈折率の値、βはＦ元素１ｐｐｍあたり変化する屈折率の値）倍以下であるＣｌ元素とを含み、屈折率（ｎｄ）１．４５８５０をリファレンスとしたときの断面内の比屈折率差が０．０１％以下である。合成シリカガラスは、多孔質シリカ原料にフッ素をドープし、透明化されてなり、ドープは、多孔質シリカ原料を、フッ化塩素ガスを含む所定温度の雰囲気に配置することで行うことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】失透コーティングに形成されるピンホールの直径を小さく抑えることができるシリコン結晶成長用石英坩堝のコーティング方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るコーティング方法では、シリコン結晶成長用石英坩堝の内面に厚さ８０μｍ以上４ｍｍ以下の無気泡石英層を形成し、前記無気泡石英層の表面をアルカリ土類水酸化物で被覆した後、前記表面に失透が発生する温度以上に加熱する。前記被覆は、前記内面を前記アルカリ土類水酸化物の溶液に浸漬させて行なってもよい。また、前記加熱は、前記シリコン結晶成長用石英坩堝に、溶融原料の固体原料を充填する前に行なってもよい。 （もっと読む）

【課題】半導体製造に用いられかつプラズマ耐食性に優れたドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】半導体製造に用いられるプラズマ反応用治具材料としてプラズマ耐食性に優れかつ２種以上のドープ元素を併せて０．１〜２０質量％含有するドープ石英ガラスをベルヌイ法で石英粉から製造する方法であって、前記石英粉が、２種以上のドープ元素を併せて０．１〜２０質量％含有し、前記ドープ元素が、Ｎ、Ｃ及びＦからなる群から選択される１種以上の第１の元素と、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、ランタノイド及びアクチノイドからなる群から選択される１種以上の第２の元素とを含む混合石英粉であり、該混合石英粉を加熱溶融落下させ石英ガラスインゴットを作成する際、該石英ガラスインゴット表面温度を、１８００℃以上に加熱するようにした。 （もっと読む）

【課題】 シリコン単結晶を製造する際のシリコン単結晶の有転位化を回避し、かつ、高い耐熱性を有し、生産性、歩留まりの低下を抑制することができる石英ガラスルツボ及びその製造方法、並びにそのような石英ガラスルツボを用いたシリコン単結晶の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 少なくとも、直接法又はスート法により合成石英ガラス材を作製する工程と、前記合成石英ガラス材を、粉砕することなくルツボ形状に加工する工程と、前記ルツボ形状に加工された合成石英ガラス材の外壁にシリカ粉末を溶着させる工程と、を含むことを特徴とする石英ガラスルツボの製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】ＥＵＶ光の反射面において、反射面の中心に位置する原点（Ｏ）及び複屈折測定点（Ａ）を結ぶ直線と、測定点（Ａ）における複屈折の進相軸とによりなす角度（θ）の平均値が４５°より大きいチタニアドープ石英ガラス。
【効果】複屈折の進相軸が同心円状に分布しており、高い平坦性を有し、ＥＵＶリソグラフィ用、特にＥＵＶリソグラフィフォトマスク用として有用なチタニアドープ石英ガラスを提供することができる。 （もっと読む）

【課題】 シリコン単結晶を製造する際のシリコン単結晶の有転位化を回避し、かつ、高い耐熱性を有し、生産性、歩留まりの低下を抑制することができる石英ガラスルツボ及びその製造方法、並びにそのような石英ガラスルツボを用いたシリコン単結晶の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 少なくとも、石英ガラスからなり、ルツボ形状を有するルツボ基材を準備する工程と、直接法又はスート法により合成石英ガラス材を作製する工程と、前記合成石英ガラス材を、粉砕することなくルツボ形状に加工する工程と、前記ルツボ基材の内壁と、前記ルツボ形状に加工された合成石英ガラス材の外壁とをシリカ粉末を介して熱処理を行って接着させる工程と、を含むことを特徴とする石英ガラスルツボの製造方法。 （もっと読む）

【課題】溶融シリカ本体に硝子質状の内層を生成する装置及びその動作方法を提供する。
【解決手段】溶融シリカ本体１０２の内面の少なくとも一部分に隣接して硝子質状のシリカの層１１２を生成する装置は、内面の前記少なくとも一部の層を硝子質化させるのに十分な熱を内面の少なくとも一部へ与えるために配置された熱源１０４を具備している。ある実施形態では、熱源１０４は内面の比較的小さい面積１１４を一度に加熱するように構成されており、装置は内面に関して熱源を移動するための位置付け機構を具備する。ある実施形態では、熱源はプログラムされたＣＮＣ運動制御システムの制御下で、本体１０２の内面に関して螺旋状に移動される水素−酸素表面ミックス燃料のトーチ１０４である。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントリソグラフィ用モールド基材として使用した場合に、寸法のばらつきが±１０％以内の凹凸パターンを形成することができるＴｉＯ2含有石英ガラス基板の提供。
【解決手段】１５〜３５℃における熱膨張係数が±２００ｐｐｂ／℃以内であり、ＴｉＯ₂濃度が４〜９ｗｔ％であり、転写パターンを形成する側の基板表面から深さ５０μｍまでの表面近傍領域におけるＴｉＯ₂濃度分布が、±１ｗｔ％以内であることを特徴とするＴｉＯ₂含有石英ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】湿度の浸透が防止できる溶融シリカ本体を提供する。
【解決手段】溶融シリカ本体１０２は、少なくとも１つの凹状の内部空洞１０４を具備し、該空洞が幾つかまたはその全ての内部層にわたって硝子質状シリカ１０６で覆われる構成とする。硝子質状のシリカ層は、溶融シリカ本体の内面の少なくとも一部を硝子質化点まで加熱するステップを含み、ある実施形態では、線形形状に対して直交する螺旋状のような特定の方法で内面にわたって線形の局部熱源を通過し、本体の内面上に、一時的に溶融されたシリカ材料のオーバーラップするスワスを生成する。 （もっと読む）