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国際特許分類[C03B33/00]の内容

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【課題】マザー基板の透明導電膜が形成されている側の主面に、透明導電膜にキズをつけることなくスクライブラインを形成でき、部材の汚染を抑制できる、透明導電膜を有するガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のガラス基板の製造方法は、光学ガラス基板であるマザー基板1の一主面を少なくとも2つの領域1a、1bに分割する未塗布部1cが形成されるように、マザー基板1の一主面上に導電性無機粒子、樹脂、及び溶剤を含むコーティング組成物を塗布し、乾燥させることにより、マザー基板1の一主面上に透明導電膜3を形成する工程と、未塗布部1cにスクライブライン1dを形成する工程と、スクライブライン1dに沿ってマザー基板1を切断し、一主面に透明導電膜3を有するガラス基板4を得る工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】ガラス加工において、高い加工性を有し、かつ泡立ちを少なく抑え、加えてpH上昇を抑制し、更に十分な防錆性を発現する組成物を提供する
【解決手段】(A)式:R−(AO)−H
[式中、Rは水素又は炭素数1〜8の炭化水素基であり、AOはオキシエチレン基、オキシプロピレン基及びオキシブチレン基からなる群から選択され、nは総分子量が500〜10000である数である、ランダム型、ブロック型、リバース型及びこれらの複合型重合物である。]
で表される非イオン界面活性剤、
(B1)式:RO−(CHCHO)−SO
もしくは、
(B2)式:R−SO
[式中、R及びRは、炭素数2〜11の炭化水素基を表す。mは0〜5の整数である。]
またはその塩で表される陰イオン界面活性剤、
(C)含リンキレート剤
(D)式:R
[式中、Rは、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基もしくはヒドロキシブチル基を示し、R、Rは、同一又は異なって、水素、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基、ヒドロキシエトキシエチル基及び炭素数1〜8の炭化水素基からなる群から選択される基を表す。]
で表されるアミン、
を含有する水溶性ガラス加工液組成物。 (もっと読む)


【課題】厚みが均一でないガラス成形体を容易かつ簡便に切断するための手段を提供する。
【解決手段】対向する2つの面の少なくとも一方に曲面形状を有するガラス成形体の切断方法であって、前記対向する2つの面の一方の面に筋状の溝を形成すること、所定温度に加熱された加熱治具表面と前記ガラス成形体表面の前記溝を含む局部領域とを直接接触させることにより、および/または、所定温度に加熱された加熱治具先端を前記溝内全域に嵌入することにより、該溝をガラス成形体の厚み方向に進行させること、により、前記ガラス成形体を前記溝を境界として分割切断方法。 (もっと読む)


【課題】 硝子に微小な穴あけをする際、穴の周縁にギザギザが形成されない優れた方法及び装置を提供する。
【解決手段】 硝子より成る対象物1の表面を保護層4で覆い、保護層4の穴あけ箇所の部分に穴あけ用開口40を形成する。硝子を溶出することが可能な溶出液2をノズル3から噴射させ、穴あけ用開口40を通して対象物1の表面に当てて5×10−2N/cm以上20×10−2N/cm以下の圧力で衝撃する。ノズル3から噴射される溶出液2は、穴あけ用開口40よりも小さい直径20μm以上400μm以下の粒状である。溶出液2による衝撃を継続することで対象物1に貫通穴10が形成される。 (もっと読む)


【課題】切断加工の際のアライメント作業に必要な時間を短縮し、ビーム整形素子等の光学素子を高精度且つ高い生産性で製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも1つの光学面と側面とを有するガラス成形体を固定治具に固定した状態で切断して光学素子を得る。側面の少なくとも1つは成形転写面を有し、固定治具は複数のガラス成形体の成形転写面を当接するための配列基準面を有する。ガラス成形体の成形転写面を固定治具の配列基準面に当接し、複数のガラス成形体を直線上に配列して固定した状態で切断する。 (もっと読む)


【課題】 所定の処理が施された大型矩形のガラス基板を複数枚の小型矩形のガラス基板に分割した場合に、直角度や直線性等の適正性の管理を容易化しつつ、分割後のガラス基板に対する後続処理を正確に行わせるようにする。
【解決手段】 複数箇所の分割前支持ポイントA1〜A3で位置決め支持された矩形をなすガラス基板1に所定の処理Sa〜Sfを施した後、そのガラス基板1を複数枚の矩形をなすガラス基板に分割し、分割後のガラス基板を複数箇所の分割後支持ポイントで位置決め支持して所定の後続処理を施すガラス基板の製造方法であって、位置決め支持された状態にある分割前のガラス基板1における長辺2および/または短辺3に対して、分割後のガラス基板における分割後支持ポイントとなるべき箇所B1〜B4のみの適正性管理を行う。 (もっと読む)


【課題】薄いガラスシートを巻芯に巻き取ったガラスロールを用いて、所定寸法の機能性膜付きガラス基板を連続的に製造することを可能にする。
【解決手段】連続するガラスシート(1)に切断用のスクライブライン(2)を形成し、その後、巻芯(6)に巻き取ってガラスロール(100)を作製する。このガラスロールから供給されるガラスシートのスクライブラインが形成されていない面に機能性膜を形成し、その後、スクライブラインに沿ってガラスシートを切断することにより、所定寸法の機能性膜付きガラス基板を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】基板上に薄膜層が形成されてなる薄膜デバイスにおいて、基板薄型化が進行しても、基板分断の際に意図せぬ割れが発生したり、分断後の強度低下が著しくなってしまうのを抑制する。
【解決手段】基板上に薄膜層が形成されてなる薄膜デバイスを、前記基板となる板材101で当該基板の所望厚さよりも大きな厚さを有するものに対して、前記所望厚さよりも深いスクライブ溝102を形成する工程と、前記板材101の前記スクライブ溝102の形成面側に当該板材の厚さが前記所望厚さとなるまでエッチングを行う工程と、を経て製造する。 (もっと読む)


【課題】 ガラスレンズの破損を防ぐと共に取り扱いし易く、しかも光軸と外径形状との位置精度が極めて高い、光学性能の優れたガラスレンズの製造方法及びガラスレンズを提供する。
【解決手段】 ガラス素材を成形して、複数個のガラスレンズが格子状に形成されたガラスレンズシート10の接続部11の表面に、複数個のガラスレンズに分離するための断面形状がV形に凹むカット溝12を形成し、カット溝12に対面した位置の裏面に、台形に凹むカット溝13を形成し、ブレードがガラスレンズシート10の表面に形成されたカット溝12をガイドラインとして、カット溝12に沿って、ガラスレンズシート10を切断する。 (もっと読む)


【課題】 加工中の泡立ちを抑制すると共に、高脆性材料の加工時に発生する切り屑の被加工材料への付着を抑制しすることができる高脆性材料の切削又は研削加工を提供する。
【解決手段】 本発明の高脆性材料の切削又は研削加工は、重量平均分子量500〜50000のポリアクリル酸又はα−オレフィンとマレイン酸との共重合体である高分子量ポリカルボン酸のアンモニウム塩、アルカリ金属塩、及びアミン塩の1種又は2種以上を1〜10000ppm含有し、pHが6〜9である高脆性材料加工用剤を用いて高脆性材料の切削又は研削加工を行うことを特徴とする。本発明の高脆性材料の切削又は研削加工は、特にガラス、セラミックス又はシリコンを含む高脆性材料の切削又は研削加工、特に切断加工、精密研磨加工、又はダイシング加工に好適に使用できる。 (もっと読む)


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