国際特許分類[C03C3/00]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | ガラス;鉱物またはスラグウール (20,277) | ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着 (12,070) | ガラスの組成物 (4,759)
国際特許分類[C03C3/00]の下位に属する分類
シリカを含むもの (3,673)
シリカを含まない酸化物ガラス組成物 (1,058)
非酸化物ガラス組成物,例.ゲルマニウム,セレンまたはテルルの二元または三元ハロゲン化物,硫化物または窒化物 (25)
国際特許分類[C03C3/00]に分類される特許
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ガラス成形体の製造方法、及びガラス成形体の曇り低減方法
【課題】プレス成形を行った後において、ガラス成形体の表面の凹凸や曇りを低減することのできるガラス成形体の製造方法、及びガラス成形体の曇り低減方法を提供する。
【解決手段】ガラス成形体の製造方法は、軟化したガラスに対して金型内でプレス成形を行うガラス成形体の製造方法において、Sb成分を実質的に含有しないガラスを用いるものである。また、ガラス成形体の曇り低減方法は、軟化したガラスに対する金型内でのプレス成形によって作製されるガラス成形体の曇り低減方法であって、プレス成形前のガラスに含まれるSb成分を低減するものである。
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結晶性ビスマス系ガラス組成物および結晶性ビスマス系材料
【課題】結晶化後の熱処理工程、例えば真空排気工程で再流動することがなく、しかも結晶化後に熱膨張係数が不当に上昇しない結晶性ビスマス系ガラス組成物を得ること。
【解決手段】本発明の結晶性ビスマス系ガラス組成物は、ガラス組成として、Bi2O3、B2O3およびZnOを含む結晶性ビスマス系ガラス組成物であって、450〜550℃のいずれかの温度で30分間焼成したときに、熱膨張係数が100×10-7/℃以下の結晶が析出することを特徴とする。
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低温磁化率補償
【課題】構造材料それ自体としてまたは接着材料として使用できかつ極低温かつNMR装置が有する磁場の大きさにおいてほぼゼロの磁気モーメントを有する、エポキシまたは類似のアモルファス組成物の磁化率特性を改変する。
【解決手段】NMR装置の部品の製造に使用できる、所望の値の磁化率を示す組成物およびその製造方法であって、前記組成物は、Gd+3、Fe+3およびMn+2からなる群から選択される金属イオンと、アモルファス材料とを含み、リガンドまたはキレート剤を用いて前記金属イオンをアモルファス材料に溶解させる。前記組成物の磁化率は、77゜K以下においてほぼゼロの磁化率のように、極低温において所望の値を示す。
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