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国際特許分類[C03C3/06]の内容

国際特許分類[C03C3/06]に分類される特許

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【課題】炭素、Cu又は燐光物質をドープすることなく、紫外線を照射したときの蛍光が白色蛍光であるノンドープ白色蛍光合成シリカガラスを提供する。
【解決手段】OH基含有量が1ppm以下であり、塩素の含有量が30ppm以下で、1280℃での粘度(Logη)が12.2poise以上であり、Cuの含有量が1ppm以下、Cの含有量が100ppm以下であり、紫外線を照射することで可視光領域に1秒以上の遅延蛍光を発生する合成シリカガラスであって、紫外線を照射したときの蛍光が白色蛍光であるようにした。 (もっと読む)


【課題】従来の火炎加水分解法や、新たなスート押圧法、ゾル・ゲル法などの方法で作製することが困難な、ドープされたシリカ・チタニアガラスを使用した、EUVLの投影光学系の大型部品を提供する。
【解決手段】5℃から35℃の温度範囲に亘ってCTEが0±30ppb/℃以下である材料から成る素子ブランク10が、ドープされたシリカ・チタニアガラスから成る、インサート14を備える。シリカ・チタニアガラスに加えられたドーパントは、酸化アルミニウムと選択された遷移金属酸化物とから成る群から選択されたものであり、また素子ブランク10の材料は、ガラスとガラスセラミックとから成る群から選択される。このインサート14は、フリットを用いて、またはフリットを用いることなく、ブランク10に融合接合される。 (もっと読む)


【課題】温度の影響による変形を低減する、EUVリソグラフィ用の光学機構、特に投影レンズと、光学素子を有する該光学機構を構成する方法とを提供する。
【解決手段】反射面31a及び第1ゼロ交差温度TZC1でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するTiOドープ石英ガラスから構成された基板32を備える第2ミラー22と、反射面及び第1ゼロ交差温度とは異なる第2ゼロ交差温度でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するTiOドープ石英ガラスから構成された第2基板を備える第2光学素子とを備え、第1ゼロ交差温度における第1基板32の熱膨張率の勾配(ΔCTE>)及び/又は第2ゼロ交差温度における第2基板の熱膨張率の勾配(ΔCTE)は負の符号を有する光学機構に関する。 (もっと読む)


【課題】面粗さの小さい基板として適当なTiO−SiOガラスの提供。
【解決手段】TiO濃度が1〜12質量%のシリカガラスであり、かつ、TiO濃度の最大値と最小値との差が、少なくとも一つの面内における30mm×30mmの範囲で0.06質量%以下であることを特徴とするTiOを含有するシリカガラス。 (もっと読む)


【課題】低レベルの偏光誘起複屈折、低レベルの光誘起波面歪曲及び高レベルの初期内部透過率を有する、合成石英材料及びその作成方法を提供する。
【解決手段】開示には約300nmより短波長におけるリソグラフィに用いるための光学素子に使用することができるODドープ合成石英ガラスが含まれる。ODドープ合成石英ガラスはOH濃度が同程度の無ODドープ石英ガラスよりもかなり小さい偏光誘起複屈折値を有することがわかった。ODドープ合成石英ガラス、そのようなガラスからなる光学部材及びそのような光学部材を備えるリソグラフィシステムも開示される。ガラスは、約193nmにおける偏光誘起複屈折値が極めて小さいことから、浸漬リソグラフィシステムに特に適する。 (もっと読む)


【課題】Tzcに対する許容値、CTE対温度の傾き、およびTzcの空間的均一性などの特定のパラメータに対して必要な改善がなされ、かつ25nm未満のノードのリソグラフィにシステムの素子として使用するのに適した、ドープされたシリカ・チタニアガラスを提供する。
【解決手段】選択された重量のシリカ・チタニア粉末と選択された重量のドーパント粉末とを検量して、このシリカ・チタニア粉末および選択されたドーパント粉末を混合し、さらに選択された流体を用いて、この混合された粉末のスラリーを形成する。このスラリーを噴霧乾燥して、およそ200μm以下の直径サイズを有する自由流動微粒子を含んだ粉末を形成する。この粉末を、一軸加圧成形を用いて、次いでさらに冷間静水圧加圧を用いて、成形品に成形し、この成形品をホットプレスにより固化してドープされたシリカ・チタニアガラスブランクとし、さらにガラスブランクをアニールする。 (もっと読む)


【課題】無欠陥かつ高い平坦性を有する低膨張のチタニアをドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素源原料ガス及びチタン源原料ガスを混合し、200〜400℃で加熱した後、可燃性ガス及び支燃性ガスにより酸化又は火炎加水分解させることを特徴とするチタニアドープ石英ガラスの製造方法。表面に体積30,000nm3以上の凹状欠陥がないEUVリソグラフィ用部材、特にEUVリソグラフィフォトマスク用基板として好適なチタニアドープ石英ガラスを得ることができる。 (もっと読む)


【課題】コアとクラッド内のアルカリ金属酸化物ドーパントの濃度を適切に選択することによって、低損失光ファイバおよびその製造方法と装置を提供する。
【解決手段】光ファイバを製造する方法であって、K2Oからなるアルカリ金属酸化物を20から1000ppmのピーク濃度で有してなる第1のガラスロッドを形成し、前記第1のガラスロッドを、光ファイバ・プリフォームの中心孔中に挿入して、複合プリフォームを形成することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】紫外線を照射することにより遅延蛍光を発生するシリカガラス及び遅延蛍光を利用したシリカガラス製紫外線センサーを提供する。
【解決手段】合成シリカガラスにおいて、OH基含有量が1ppm以下であり、塩素の含有量が30ppm以下で、厚さ2mmの波長190nmでの透過率が50%以下であり、1280℃での粘度(Logη)が12.0poise以上であり、低圧水銀ランプの254nmの紫外線を照射した場合に400nm〜650nmの可視光領域に0.01秒以上の遅延蛍光を発生するようにした。 (もっと読む)


【課題】半導体製造に用いられかつプラズマ耐食性に優れたドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】半導体製造に用いられるプラズマ反応用治具材料としてプラズマ耐食性に優れかつ2種以上のドープ元素を併せて0.1〜20質量%含有するドープ石英ガラスをベルヌイ法で石英粉から製造する方法であって、前記石英粉が、2種以上のドープ元素を併せて0.1〜20質量%含有し、前記ドープ元素が、N、C及びFからなる群から選択される1種以上の第1の元素と、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、Ti、Zr、Hf、ランタノイド及びアクチノイドからなる群から選択される1種以上の第2の元素とを含む混合石英粉であり、該混合石英粉を加熱溶融落下させ石英ガラスインゴットを作成する際、該石英ガラスインゴット表面温度を、1800℃以上に加熱するようにした。 (もっと読む)


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