【課題】従来の方法では排気工程を高温にできないため、低コストでかつ信頼性の高いプラズマディスプレイパネルを得られなかった。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネルの封着材は、前面板と、背面板とを対向配置して周囲を封着するためのプラズマディスプレイパネルの封着材であって、フィラー、フリットガラス、樹脂および有機溶剤を含み、前記フリットガラスは、酸化ビスマスを含む硼珪酸系ガラスであり、粒径が１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、前記フィラーは、コージライト、フォルステライト、β−ユークリプタイト、ジルコン、ムライト、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、酸化チタン、酸化モリブデン、酸化スズ、酸化アルミニウム、石英ガラスの少なくともいずれかであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】４８０℃以上で一次焼成しても、失透することがなく、その後に供される二次焼成で良好な流動性および封着強度を確保することが可能なビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料を提供すること。
【解決手段】本発明のビスマス系ガラス組成物は、下記酸化物換算のモル％で、Ｂｉ_２Ｏ_３ ３０〜５０％、Ｂ_２Ｏ_３ ２０〜３５％、ＺｎＯ １０〜２５％、ＢａＯ １〜１５％、ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＭｇＯ＋ＣａＯ ３〜１５％のガラス組成を含有し、且つモル分率でＢｉ_２Ｏ_３／Ｂ_２Ｏ_３ １．０〜１．７５（但し、１．７５は含まない）、ＺｎＯ／（ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＭｇＯ＋ＣａＯ） １．０〜３．５の関係を満たすことに特徴付けられる。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、鉛、アンチモン、テルル、ビスマスの酸化物を含有しないガラス粉末であり、軟化点が400℃以下で、熱的に安定で、かつ耐水性に優れた低軟化点ガラス粉末を提供することである。
【解決手段】本発明に係るガラス粉末は、実質的に鉛、アンチモン、テルル、ビスマスの酸化物を含有しないガラス粉末において、重量％でV₂O₅を45〜65%、BaOを25〜45%、ZnOを0〜6%、SrOを0〜7%、P₂O₅を0〜20%含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬデバイス等の内部にガス成分を吸着する材料を設けなくても、長期信頼性の得られるレーザー封着方法。
【解決手段】レーザー封着により電子デバイスを製造する方法において、（１）ガラス基板を用意する工程と、（２）ガラス粉末を含む封着材料と、有機バインダーを含むビークルとを混合して、封着材料ペーストを作製する工程と、（３）ガラス基板に封着材料ペーストを塗布して、塗布層を形成する工程と、（４）塗布層を焼成して、封着材料層付きガラス基板を得る工程と、（５）封着材料層を介して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを重ね合わせる工程と、（６）レーザー封着温度が焼成温度以下になるように、レーザー光を照射して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを気密封着する工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】熱処理後に高い熱膨張係数を示すとともに、流動性に優れ、また、長期間に亘って高温に晒されても、接着箇所の気密性や接着性の低下や、ガラス成分の揮発が発生しにくい結晶性ガラス組成物を提供する。
【解決手段】熱処理によって、主結晶としてＭｇＯ系結晶を析出する結晶性ガラス組成物であって、ガラス組成としてモル％で、Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋Ｙ_２Ｏ_３＋Ｔａ_２Ｏ_５＋Ｙｂ_２Ｏ_３ ０．１〜３０％を含有し、かつ、Ｒ_２Ｏ（ＲはＬｉ、ＮａまたはＫを示す）およびＰ_２Ｏ_５を実質的に含有しないことを特徴とする結晶性ガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ＥＬデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板を用意する工程と、第一の封着材料ペーストを前記ガラス基板上に塗布した後、第一の封着材料膜を形成する工程と、第二の封着材料ペーストを前記第一の封着材料膜上に塗布した後、第二の封着材料膜を形成する工程と、得られた積層膜を焼成して、前記ガラス基板上に封着材料層を形成する工程とを有すると共に、前記第一の封着材料ペーストが第一のガラス粉末を含み、且つ前記第二の封着材料ペーストが第二のガラス粉末を含み、前記第二のガラス粉末の軟化点が、前記第一のガラス粉末の軟化点より低いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低出力のレーザでレーザ封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を提案する。
【解決手段】ガラス基板１１を用意する工程と、第一の封着材料ペーストを前記ガラス基板１１上に塗布した後、第一の封着材料膜１２を形成する工程と、第二の封着材料ペーストを前記第一の封着材料膜１２上に塗布した後、第二の封着材料膜１３を形成する工程と、得られた積層膜を焼成して、前記ガラス基板１１上に封着材料層１４を形成する工程とを有すると共に、前記第一の封着材料ペーストが第一の封着材料を含み、且つ前記第二の封着材料ペーストが第二の封着材料を含み、前記第二の封着材料中の耐火性フィラーの含有量が、前記第一の封着材料中の耐火性フィラーの含有量より少ないことを特徴とする封着材料層付きガラス基板１の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ＥＬデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板は、封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、封着材料が無機粉末と顔料を含み、無機粉末がガラス粉末と耐火性フィラーを含み、無機粉末中の耐火性フィラーの含有量が１０〜３５体積％であり、封着材料層の表面粗さＲａが０．５μｍ未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラー粉末を含有する封着材料において、平面表示装置等の排気温度を上昇させるべく、熱処理工程でガラスに十分な量の結晶が析出すると共に、流動性と低熱膨張特性（結晶化後）が良好な封着材料を提供する。
【解決手段】本発明の封着材料は、ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラー粉末を含有する封着材料において、（１）ビスマス系ガラス粉末４０〜１００体積％と、耐火性フィラー粉末０〜６０体積％とを含有し、（２）ビスマス系ガラス粉末が、ガラス組成として、質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３ ７４〜８５％、Ｂ_２Ｏ_３ ４．５〜９．５％、ＺｎＯ ８〜１６．５％、ＣｕＯ １．２〜８％含有し、（３）ビスマス系ガラス粉末が、ガラス組成として、質量分率で、ＺｎＯ／ＣｕＯの値が１〜１０、ＺｎＯ／Ｂ_２Ｏ_３の値が０．９〜３であり、（４）実質的にＰｂＯを含有しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、封着材料付きガラス基板を作製する際に、有機バインダーを完全に焼却除去し得る方法を創案することにより、有機ＥＬデバイスの長期信頼性を高めることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板を用意する工程と、ガラス粉末を含む封着材料と、有機バインダーを含むビークルとを混合して、封着材料ペーストを作製する工程と、前記ガラス基板に前記封着材料ペーストを塗布して、塗布層を形成する工程と、前記塗布層を前記ガラス粉末のガラス転移点より高く、且つ前記封着材料のガラス転移点未満の温度で熱処理して、前記有機バインダーを焼却除去する工程と、前記有機バインダーを焼却除去した前記塗布層を熱処理して、封着材料層を形成する工程とを具備することを特徴とする。 （もっと読む）