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国際特許分類[C07C211/12]の内容

国際特許分類[C07C211/12]に分類される特許

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【課題】カルバマートの分解によるアミン製造法の提供。
【解決手段】式Iのカルバマート分解によるアミンの製造方法であって、式IIの酸の存在下で実施し、その際、R1、R2、R3、R4及びR5の種類の置換基は同じか又は異なっていることを特徴とする。


[式中、R1=水素、アルキル基、アリール基又はフェニル基、R2=アルキル基、アリール基又はフェニル基、その際、R1及びR2の種類の置換基は置換されているか又は非置換である]


[式中、R3、R4及びR5=アルキル基又はフェニル基である] (もっと読む)


本発明は、触媒の存在下におけるニトリル化合物の水素添加によるアミン化合物の製造方法に関する。より詳細には、本発明は、ラネー金属をベースとする触媒の存在下におけるジニトリル化合物の連続水素添加によるジアミンの製造方法に関する。本発明の方法は、不純物の生成及び触媒活性の低下を最低限にするためにニトリル化合物のモル流量及び水素添加栓流反応器中の触媒の重量流量を調節することに関する。 (もっと読む)


【課題】有機溶媒及び金属系触媒を用いることなく、ジオール化合物からジアミド化合物及びジアミン化合物を製造する方法を提供する。
【解決手段】亜臨界または超臨界状態の水を反応溶媒として、ジオール化合物をカルボン酸アンモニウム塩と共存させて反応させることにより、有機溶媒及び金属系触媒を用いることなく、ジオール化合物からジアミド化合物を生成させることができる。また、当該ジアミド化合物から加水分解によりジアミン化合物を得ることができる。 (もっと読む)


本発明の主題は、少なくとも1種のアルコール−、ラクトン−、エーテル−、ラクタム−又はアミノ基を有する、水溶性水素化生成物を、水と混合できないか又は完全には水と混合できない100℃より低い融点を有する溶剤中に含有する、接触水素化法から生じる溶剤を含有する水素化搬出物から溶剤を分離する方法において、前記水素化搬出物に水を添加し、前記溶剤を含有する相を分離し、水素化に返送することを特徴とする、溶剤を含有する水素化搬出物から溶剤を分離する方法である。 (もっと読む)


本発明は、触媒の存在下でジニトリル化合物を水素添加することによって第1ジアミンを製造する方法に関する。より詳細には、本発明は、アジポニトリルを水素添加することによってヘキサメチレンジアミンを製造する方法に関する。本方法は、得られたジアミンを直列に配置された複数の蒸留塔中での蒸留によって回収することから成り、第2の蒸留からの重質不純物を分離することを含む。 (もっと読む)


a)コバルトと、b)アルカリ金属グループ、アルカリ土類金属グループ、希土類又は亜鉛のグループ又はこれらの混合物の1つ又はそれ以上の元素とを含有し、その際に元素a)及びb)は少なくとも一部がそれらの複合酸化物の形で存在する触媒前駆物質を還元することにより製造される触媒並びにこれらの触媒の製造方法及び不飽和有機化合物を水素化するためのそれらの使用。さらに、この触媒を、液体での触媒の処理により再生する方法が記載される。 (もっと読む)


水素化の開始前に、アルカリ金属カーボネート、アルカリ土類金属カーボネート、アンモニウムカーボネート、アルカリ金属水素カーボネート、アルカリ土類金属水素カーボネート、アンモニウム水素カーボネート、アルカリ土類金属オキソカーボネート、アルカリ金属カルボキシレート、アルカリ土類金属カルボキシレート、アンモニウムカルボキシレート、アルカリ金属二水素ホスフェート、アルカリ土類金属二水素ホスフェート、アルカリ金属水素ホスフェート、アルカリ土類金属水素ホスフェート、アルカリ金属ホスフェート、アルカリ土類金属ホスフェート及びアンモニウムホスフェート、アルカリ金属アセテート、アルカリ土類金属アセテート、アンモニウムアセテート、アルカリ金属ホルメート、アルカリ土類金属ホルメート、アンモニウムホルメート、アルカリ金属オキサレート、アルカリ土類金属オキサレート並びにアンモニウムオキサレートから選択される化合物Aと接触させることによって予備処理された触媒の存在下で、少なくとも2個のニトリル基を有するオリゴニトリルを水素化する方法。 (もっと読む)


本発明は、ヘキサメチレンジアミン及びアミノカプロニトリルの同時製造方法に関する。より詳細には、本発明は、アジポニトリルの半水素化によるヘキサメチレンジアミン及びアミノカプロニトリルの同時製造方法であって、ヘキサメチレンジアミンを蒸留することによって水素化生成物からヘキサメチレンジアミンを分離する工程を含む、前記方法に関する。このヘキサメチレンジアミンの蒸留は、遊離の酸及び/又は酸のアルカリ金属若しくはアンモニウム塩を含む水素化生成物から実施される。従って、ヘキサメチレンジアミンの蒸留工程の塔頂部において回収されるトップ留分Aは、少量のTHAを有する粗製ヘキサメチレンジアミンを本質的に含む。この粗製ヘキサメチレンジアミン中に存在するTHAの量は、水素化生成物中に存在するTHAに対して小さい割合を占める。 (もっと読む)


本発明は、触媒の存在下に、少なくとも2個のニトリル基を有するオリゴニトリルを水素化するための方法であって、この触媒は、水素化を開始する前に、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩、炭酸アンモニウム塩、アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ土類金属炭酸水素塩、アンモニウム炭酸水素塩、アルカリ土類金属オキソ炭酸塩、アルカリ金属カルボン酸塩、アルカリ土類金属カルボン酸塩、アンモニウムカルボン酸塩、アルカリ金属リン酸二水素塩、アルカリ土類金属リン酸二水素塩、アルカリ金属リン酸水素塩、アルカリ土類金属リン酸水素塩、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ土類金属リン酸塩、及びアンモニウムリン酸塩、アルカリ金属酢酸塩、アルカリ土類金属酢酸塩、アンモニウム酢酸塩、アルカリ金属ギ酸塩、アルカリ土類金属ギ酸塩、アンモニウムギ酸塩、アルカリ金属シュウ酸塩、アルカリ土類金属シュウ酸塩、及びアンモニウムシュウ酸塩から選ばれる化合物Aと接触させることにより前処理されていることを特徴とするオリゴニトリルを水素化するための方法に関する。 (もっと読む)


触媒を凝集剤で処理することによる、触媒または触媒の前駆体の懸濁液および沈降特性の調節方法 (もっと読む)


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