ジニトリルを、触媒と、第四級水酸化アンモニウム、第四級シアン化アンモニウム、第四級フッ化アンモニウム、および第四級チオシアン化アンモニウム；第四級水酸化ホスホニウム；一酸化炭素；およびシアン化水素からなる群より選択された調節剤との存在下で、水素と接触させ、ジニトリルを接触水素化してアミノカプロニトリルとヘキサメチレンジアミンの両方を製造する方法。 （もっと読む）

触媒の変性方法であって、１種以上の溶剤の存在下で炭素含有残分の堆積によって、その際、処理の間の触媒処理溶液上の気相が、空気又は不活性ガスであり、かつ／又は液相が、テンプレート剤及び／又は塩基を含有する方法。変性された触媒は、有機化合物の立体選択的、化学選択的及び位置選択的な変換のために使用することができる。
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本発明は、６−アミノカプロニトリル（ＡＣＮ）およびヘキサメチレンジアミン（ＨＭＤ）の、ＡＣＮ、ＨＭＤ、テトラヒドロアゼピン（ＴＨＡ）、アジポニトリル（ＡＤＮ）および低沸点物（ＬＢ）を含む混合物からの蒸留による分離の分野に関する。ＨＭＤを含む留出物流れ、ＡＣＮ、ＴＨＡならびに低レベルのＡＣＮおよびＨＭＤの二量体を含む側流流れ、そしてＡＣＮ、ＴＨＡ、ならびに側流流れに見いだされるより実質的に高いレベルのＡＣＮおよびＨＭＤの二量体を含む残滓流れを生成するための方法もまた開示される。側流流れは、低レベルのＡＣＮおよびＨＭＤの二量体がカプロラクタム製造プロセス中に触媒寿命に大きく影響を及ぼさないので、カプロラクタムの製造での使用に特に好適である。残滓流れはさらに蒸留されてＡＣＮおよびＴＨＡを含む残滓留出物流れを生成することができ、それは第１蒸留塔へリサイクルバックすることができ、供給流れからのＡＣＮの回収率をさらに高める。本発明の方法のプロセス条件は、２−シアノシクロペンチリデンイミン（ＣＰＩ）の生成に不利である。
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本発明は、６−アミノカプロニトリル（ＡＣＮ）およびヘキサメチレンジアミン（ＨＭＤ）の、ＡＣＮ、ＨＭＤ、テトラヒドロアゼピン（ＴＨＡ）、アジポニトリル（ＡＤＮ）および低沸点物（ＬＢ）を含む混合物からの蒸留による分離の分野に関する。ナイロン−６，６の製造に好適である、ＨＭＤを含む留出物流れを生成するための方法が開示される。混合物の蒸留からの残滓流れは、カプロラクタムおよびカプロラクタムからのナイロン−６の製造での使用に特に好適である、ＡＣＮおよびＴＨＡを含む留出物を生成するためにさらに蒸留することができる。本発明の方法のプロセス条件は２−シアノシクロペンチリデンイミン（ＣＰＩ）の生成に不利である。
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単蒸留によって容易に分離できるＨＭＤとＨＭＩとの混合物を生成するために水素化することができるＨＭＤとＴＨＡとの混合物の形成をもたらす蒸留の組み合わせを用いることによるＡＤＮの部分水素化からのＡＣＮおよびＨＭＤの両方の製造方法。

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本発明は、ジニトリルの水素化によって得られたジアミンの精製方法に関するものである。より具体的には、本発明は、アジポニトリルの水素化によって得られたヘキサメチレンジアミンの精製方法に関するものである。本発明の方法は、蒸留塔から回収されたヘキサメチレンジアミン流れの一部分を処理し、そしてこの処理された流れを前記塔に再注入することからなる。 （もっと読む）