【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分（Ｂ）は、式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有する［Ｚ^＋は有機カチオン；Ｑ^１及びＱ^２は、フッ素原子又は直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１〜６のフッ素化アルキル基；Ｘは−（ＣＨ_２）_ｍ１−；Ｙは単結合、−Ｏ−（ＣＨ_２）_Ｌ１−又は−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_Ｌ１−；Ｌ１、ｍ１は１〜６の整数；ＲｘはＣ＝Ｃ不飽和結合を有し、置換基を有していてもよい炭素数２〜３６の２価の脂肪族炭化水素基；Ｒｙは酸解離性基である。］。
［化１］
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【課題】優れたフォーカスマージンを有するレジストパターンを得ることができる塩、酸発生剤、レジスト組成物等の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩及びこの塩を含む酸発生剤とレジスト組成物。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、２価の炭素数１〜２０の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ｗは、式（Ｗ１）〜式（Ｗ５）から選ばれる式で表される基；Ｚ^１＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】より優れた解像度及びフォーカスマージン（ＤＯＦ）を有するパターンを形成することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、＊−ＣＯ−Ｏ−Ｌ^ａ−又は＊−ＣＨ_２−Ｏ−Ｌ^ｂ−を表す。＊は−Ｃ（Ｑ^１）（Ｑ^２）−との結合手を表す。Ｌ^ａ及びＬ^ｂは、互いに独立に、２価の炭素数１〜１５の飽和炭化水素基を表し、前記２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ｗ^１は、炭素数２〜３６の複素環を表し、該複素環に含まれる−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換わっていてもよい；Ｚ^１＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】欠陥が少なく、かつ優れた形状及びラインエッジラフネスを有するレジストパターンを得ることを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、それぞれ、Ｆ又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、単結合又は置換基を有していてもよい２価の飽和炭化水素基、該飽和炭化水素基の−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ｙ^１は、（ｍ＋１）価の飽和環状炭化水素基、該基の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯ−又は−ＳＯ_２−で置き換わっていてもよい；Ｘ^１は脂肪族炭化水素基、該基に含まれる少なくとも１つの水素原子はフッ素原子で置換されており、該基に含まれる少なくとも１つの水素原子は水酸基で置換されていてもよい；ｍは、１又は２の整数；Ｚ^＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】優れた解像度及び形状を有するレジストパターンを得ることを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、それぞれ独立に、フッ素原子又はＣ_1-6ペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ^１は、置換基を有していてもよい２価のＣ_1-17飽和炭化水素基を表し、前記２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。Ｒ^１は、フッ素原子を含むＣ_１−６アルキル基を表す。Ｚ⁺は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】ＬＷＲ及びＭＥＥＦが小さく、粗密バイアスにも優れ、保存安定性が良好な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、感放射線性の酸発生剤（Ｂ）と、酸拡散抑制剤（Ｃ）と、溶剤（Ｄ）とを含有し、前記酸発生剤（Ｂ）が下記一般式（Ｉ）で示される化合物であり、前記溶剤（Ｄ）がプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを全溶剤に対して５０〜９０質量％含有する感放射線性樹脂組成物。


（一般式（Ｉ）中、Ｍ^＋はスルホニウムカチオンまたはヨードニウムカチオンを示す。） （もっと読む）

【課題】 新規な光酸発生剤（ＰＡＧ）及びこれらのＰＡＧを用いたリソグラフィ像形成の改良された方法を提供すること。
【解決手段】
光酸発生剤化合物Ｐ^＋Ａ⁻は、光と相互作用するとプロトンを発生するカチオンを含むアンテナ基Ｐ^＋と、フッ素、又はホウ素のような半金属元素を含まない弱配位性のパーアクセプター置換芳香族アニオンを含むＡ⁻とを含む。１つの実施形態において、そのようなアニオンは、以下の化合物４、５、６及び７
【化１】


を含み、式中、Ｅは、電子吸引性基を含み、プロトンの除去により芳香族性を生じる。Ｐ^＋は、光子との相互作用でプロトンと他の成分とに分解するオニウムカチオンを含む。Ｐ^＋は、有機カルコゲンオニウムカチオン又はハロニウムカチオンを含むことができ、カルコゲンオニウムカチオンは、他の実施形態において、オキソニウム、スルホニウム、セレン、テルル、又はオニウムカチオンを含むことができ、ハロニウムカチオンは、ヨードニウム、塩素又は臭素オニウムカチオンを含むことができる。新規化合物は、ＴＰＳ ＣＮ５を含む。フォトリソグラフィ調合物は、光酸発生剤をフォトリソグラフィポリマーのようなフォトリソグラフィ組成物との組み合わせにおいて含む。調合物が基板上にあるときに、フォトリソグラフィ用放射光又はＡｒＦ（１９３ｎｍ）若しくはＫｒＦ（２４８ｎｍ）放射光に露光し、現像する。生成物は、本発明の方法により製造される製品を含む。 （もっと読む）

【課題】メンテナンス頻度を低減させ得る有機ハロゲン汚染物無害化処理設備ならびに処理効率の低下を抑制させ得る有機ハロゲン汚染物無害化処理方法の提供を課題としている。
【解決手段】有機ハロゲン化合物を含有する気体に曝露される作業空間を有し、前記作業空間を照明する光源を有しており、有機ハロゲン化合物に汚染された汚染物が前記作業空間において無害化処理される有機ハロゲン汚染物無害化処理設備であって、前記光源として、３８０ｎｍ以下の波長の光の強度が３８０ｎｍを超える可視光の強度に対して１％以下に低減されている光を発する光源が用いられていることを特徴とする有機ハロゲン汚染物無害化処理設備などを提供する。 （もっと読む）

【課題】ヨウ素化反応終了後に高度な分離操作を必要とすることのないヨウ素化剤として好適に用いられるヨウ素カチオンを製造し得るヨウ素化剤の製造方法およびこの製造方法に用いる電解液を実現する。
【解決手段】本発明のヨウ素化剤の製造方法は、酸を支持電解質として、溶液中でヨウ素分子を電気分解することを特徴とする。 （もっと読む）

本願は、ａ） 酸不安定性基を含むポリマー； ｂ） （ｉ）、（ｉｉ）及びこれらの混合物から選択される化合物［ここで（ｉ）はＡｉＸｉＢｉであり、そして（ｉｉ）はＡｉＸｉ１である］及びｃ） 式ＡｉＸｉ２の化合物の化合物を含む組成物に関する。ここで、Ａｉ、Ｂｉ、Ｘｉ、Ｘｉ１、及びＸｉ２は本明細書で定義される。該組成物は、半導体工業に有用である。 （もっと読む）