【課題】ポジ型、ネガ型のいずれのフォトレジスト組成物においても使用することができる新規な光感応性酸発生剤化合物、およびそれらの化合物を含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】組成物の露光されたコーティング層を現像させるのに充分な量で樹脂バインダおよび光感応性酸発生剤化合物を含み、その光感応性酸発生剤が放射線で露光されることによりα，α−ジフルオロアルキルスルホン酸を発生させる、フォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物およびその製造方法、該化合物の前駆体として有用な化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（ｂ１−１）で表される化合物。Ａは、当該Ａが結合した硫黄原子とともに３〜７員環構造の環を形成する２価の基であり、前記環は置換基を有していてもよい。Ｒ^２はＲ^５３−Ｒ^５４−（式中、Ｒ^５３は炭素数２〜１０のアルケニル基またはアリール基であり、Ｒ^５４は炭素数１〜５の直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基である。）で表される基であり、ｎは０であり、Ｙ^１はフッ素置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキレン基である。
［化１］
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【課題】四塩化炭素を用いることなく、１−ブロモ−３，５−置換ベンゼンを製造する方法の提供。
【解決手段】モノハロゲン化炭化水素(例えば、塩化n−ブチル)中、式（１）で示される化合物と臭素とを、ハロゲン化鉄の存在下で反応させ１−ブロモ−３，５−置換ベンゼンを製造する。


（式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜１２のシクロアルキル基を表し、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５はそれぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】従来から知られている塩を酸発生剤として含有するレジスト組成物では、得られるレジストパターンのマスクエラーファクターが必ずしも十分に満足できない場合があった。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。ｎは、０又は１を表す。Ｌ^１は、単結合又は炭素数１〜１０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。但し、ｎが０である場合、Ｌ^１は単結合ではない。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】高収率で芳香族ハロゲン化合物が得られる製造方法を提供する。
【解決手段】下記式（１）：


［式（１）中、Ａｒは芳香族基を表し、Ｒ⁴は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表す。複数個あるＲ⁴は、互いに結合して環を形成してもよい。ｎは１以上の整数である。］で表される化合物を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の化合物の存在下で、ハロゲン化剤と反応させることを含む、下記式（３）：


［式（３）中、Ｘはハロゲン原子を、ｍは１以上ｎ以下の整数を、Ａｒ及びＲ⁴は前記と同じ意味を表す。］で表される化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ＩＡ）で表されるアニオンを有するヨードニウム塩と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得るアクリル樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。［式（ＩＡ）中、Ｒ^１は、水素原子、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基又は炭素数７〜２１のアラルキル基を表す。Ｒ^２は、炭素数７〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数７〜２０の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基又は炭素数７〜２１のアラルキル基を表す。Ｒ^１及びＲ^２は互いに結合してＮとともに炭素数４〜２０の環を形成してもよい。］
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【課題】 照射した光を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚い膜厚の場合でも少エネルギー量で硬化可能な感光性組成物を提供する。
【解決手段】 下記（１）〜（３）を含有する感光性組成物であって、ラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）及び塩基発生剤（Ｃ）の内の少なくとも１つが活性光線の照射により活性種（Ｈ）を発生し、該活性種（Ｈ）がラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）又は塩基発生剤（Ｃ）と反応して新たな活性種（Ｉ）を生成して該新たな活性種（Ｉ）による重合性物質（Ｄ）の重合反応が進行し、該活性種（Ｈ）又は（Ｉ）が酸又は塩基であり、前記重合反応と並行して酸発生剤（Ｂ）に活性光線を照射することにより発生した酸により重合性物質（Ｄ）の重合反応が進行する感光性組成物。
（１）ラジカル開始剤（Ａ）、又はラジカル開始剤（Ａ）及び塩基発生剤（Ｃ）
（２）酸発生剤（Ｂ）
（３）重合性物質（Ｄ） （もっと読む）

【課題】除草効果がある置換された3-ヒドロキシ-4-アリール-5-オキソピラゾリン誘導体の調製方法において主要な中間体である置換されたベンゼン誘導体は、公知の方法よりも、高収率で、相当のコスト優位性で、調製され得る。
【解決手段】本発明は、式(I)の中間体化合物（ここでの置換基は本願で定義した通りである）を生産する方法を提供する。該方法は、置換されたアニリンを水性HXと反応させ、その後、共沸蒸留によって水を除去し、そして上昇させた温度で、銅触媒が存在しない中で、有機亜硝酸エステルによりジアゾ化しそして熱分解することを含んで成る。或いは、該方法において、水性HXの代わりに気体性のHXが使用され得る。その結果、共沸蒸留による水の除去工程は省くことができる。式Ｉの中間体化合物は、除草活性3-ヒドロキシ-4-アリール-5-オキシピラゾリン誘導体の調製における中間体として適している。 （もっと読む）

【課題】照射した超音波を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚い膜厚の場合でも少エネルギー量で硬化可能な超音波硬化型組成物の提供。
【解決手段】下記（１）〜（３）を含有する超音波硬化型組成物であって、ラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）及び塩基発生剤（Ｃ）の内の少なくとも１つが超音波の照射により活性種（Ｈ）を発生し、該活性種（Ｈ）がラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）及び／又は塩基発生剤（Ｃ）と反応して新たな活性種（Ｉ）を生成して該新たな活性種（Ｉ）による重合性物質（Ｄ）の重合反応が進行し、該活性種（Ｈ）又は（Ｉ）が酸又は塩基であることを特徴とする超音波硬化型組成物；（１）ラジカル開始剤（Ａ）、（２）酸発生剤（Ｂ）及び／又は塩基発生剤（Ｃ）、（３）重合性物質（Ｄ）。 （もっと読む）

【課題】置換または非置換のトリフルオロメチル化アリールおよびヘテロアリール化合物を製造するための銅触媒による方法を提供する。
【解決手段】本発明は、非置換または置換のハロゲン化アリールまたはハロゲン化ヘテロアリールを、式（Ｉ）または式（ＩＩ）


（式中、Ｒ^１は、水素またはＣ_１〜Ｃ_５アルキル基であり、Ｍは、アルカリ金属またはアンモニウムイオンである）
のトリフルオロアセテートと、活性化剤化合物として無機ハロゲン化物塩またはトリフルオロ酢酸塩、および銅塩と一座、二座または三座の芳香族または脂肪族のアミンまたはピリジンのリガンドとの触媒的組合せの存在下で反応させる工程を含む、トリフルオロメチル化された非置換または置換のアリールまたはヘテロアリール化合物を製造する方法に関する。 （もっと読む）