【課題】パーフルオロアルキルスルホン酸の金属塩の着色の少ない有機溶媒溶液を安価で効率的に製造する方法を提供すること。
【解決手段】金属酸化物と、パーフルオロアルキルスルホン酸を、パーフルオロアルキルスルホン酸の金属塩が溶解するプロトン性極性有機溶媒中で反応させることを特徴とする、下記一般式(１)で表されるパーフルオロアルキルスルホン酸の金属塩の製造方法。
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【課題】アルカリ土類金属ホウ酸化スルホネートを製造する方法を提供する。
【解決手段】下記工程からなるアルカリ土類金属ホウ酸化スルホネートを製造する方法：（ａ）：（ｉ）少なくとも一種の油溶性スルホン酸もしくはアルカリ土類金属スルホン酸塩またはこれらの混合物；（ｉｉ）少なくとも一種のアルカリ土類金属源；および（ｉｉｉ）少なくとも一種のホウ素源を、（ｉｖ）少なくとも一種の炭化水素溶媒；（ｖ）少なくとも一種の低分子量アルコール；および（ｖｉ）ホウ素源に対して０から１０モル％未満の、ホウ素源以外の過塩基化酸を含む混合液の存在下で反応させる工程、そして
（ｂ）：上記（ａ）の反応生成物を、（ｉｖ）および（ｖ）の蒸留温度より高い温度に加熱して、（ｉｖ）、（ｖ）そして反応により生成する水（但し、水は添加しない）を留去する工程。 （もっと読む）

【課題】 アニオン部位の原料とカチオン部位の原料を効率よく使用でき、かつアニオン部位の原料とカチオン部位の原料の反応速度の制御が可能なイオン性化合物の製造方法により、高純度のイオン性化合物を提供することを目的とする。
【解決手段】 特定のペルフルオロアルキルスルホン酸エステルまたはＮ−アルキルペルフルオロアルキルスルホニルイミドであるアニオンと、特定のアミンであるカチオンとからなるイオン性化合物であって、原料のアニオンと、原料のカチオンと、をマイクロリアクタにより形成された反応流路で連続的に接触させて製造され、原料のアニオンの含有量：Ａ（ｐｐｍ）と原料のカチオンの含有量：Ｂ（ｐｐｍ）との和：（Ａ＋Ｂ）が、５００（ｐｐｍ）以下であることを特徴とする、イオン性化合物である。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物およびその製造方法、該化合物の前駆体として有用な化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（ｂ１−１）で表される化合物。Ａは、当該Ａが結合した硫黄原子とともに３〜７員環構造の環を形成する２価の基であり、前記環は置換基を有していてもよい。Ｒ^２はＲ^５３−Ｒ^５４−（式中、Ｒ^５３は炭素数２〜１０のアルケニル基またはアリール基であり、Ｒ^５４は炭素数１〜５の直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基である。）で表される基であり、ｎは０であり、Ｙ^１はフッ素置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキレン基である。
［化１］
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【課題】
パターン形成後にラフネスが発生したり、パターン自体をうまく描けないなどの欠陥を防止するために、樹脂中に光酸発生機能を組み込んだレジスト樹脂であって、「酸の作用によって現像液への溶解性が変化する部位」と「光酸発生機能を有する部位」が規則正しく配置されたレジスト樹脂を提供する。
【解決手段】
下記一般式（３）で表される繰り返し単位を有する含フッ素スルホン酸塩樹脂。
【化１】


（式中、Ａはそれぞれ独立に水素原子、フッ素原子またはトリフルオロメチル基を表す。ｎは１〜１０の整数を表す。Ｗは２価の連結基を表す。Ｒ^１は酸不安定基を表す。M⁺は、１価のカチオンを表す。） （もっと読む）

【課題】酸発生剤として有用なスルホニウム塩の収率の良い製造方法を提供する。
【解決手段】チタニウム（ＩＶ）アルコキシドの存在下、下式（ＩＩ）で示されるスルホニウム塩と式ＨＯ−Ｘ^１−Ｗで示される化合物とを反応させる下式（Ｉ）で示されるスルホニウム塩の製造方法。




［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、フッ素原子等を表し、Ｒ^１は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｚ^＋は有機カチオンを表し、Ｗは、炭素数３〜３６の脂環式炭化水素基を表し、Ｘ^１は、単結合又は炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】短工程で重合性光酸発生モノマーを製造する方法の提供。
【解決手段】式（Ｉ）のスルトンを、重合性基を有する求核試薬と反応させて得たカチオン塩を第２のカチオンと交換する。


（式中、各Ｒは独立してＦ、Ｃ_１−１０アルキル、フッ素置換Ｃ_１−１０アルキル、Ｃ_１−１０シクロアルキル、もしくはフッ素置換Ｃ_１−１０シクロアルキルであって、ただしＲの少なくとも１つはＦであり；ｎは０〜１０の整数であり、並びにｍは１〜４＋２ｎの整数である。） （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で示されるスルホン酸塩。


（Ｒ¹はＣ１〜２０のアルキル基、又はＣ６〜１５のアリール基又はＣ４〜１５のヘテロアリール基。Ｍ⁺はリチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオン、又はテトラメチルアンモニウムイオン。）
【効果】本発明のスルホン酸は、α，β−位がフッ素で部分置換されているため強い酸性度を示す上、様々な置換基の導入が容易であり、分子設計の幅が大きい。更に、これらスルホン酸を発生する光酸発生剤は、デバイス作製工程での各種工程に問題なく使用でき、ＡｒＦ液浸露光の際の水への溶出も抑え、ウエハー上に残る水の影響も少ない。また、エステル部位が塩基性条件下で加水分解されるため、レジスト廃液を適切に処理することで、低分子量の低蓄積性化合物へと変換可能で、燃焼廃棄時の燃焼性も高い。 （もっと読む）

【課題】高純度かつ良好な重合性を有する不飽和二重結合基を有するスルホン酸基含有エーテル化合物を含む組成物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物の製造方法は、下記一般式（１）で表される化合物と亜硫酸塩を反応する方法であって、ｐＨを１０以上に調整したアルカリ水に、下記一般式（１）で表される化合物と亜硫酸塩水溶液を滴下することを特徴とする。
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【課題】スルホン酸ホスホニウム帯電防止剤の一段と効率的な製造方法（特に一段階法）、並びにこれらの帯電防止剤を配合した熱可塑性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】以下の一般式（１）のスルホン酸ホスホニウム塩の製造方法であって、水性媒質中で一般式（４）の化合物を、ホスホニウムヒドロキシドと混合する段階、及び媒質から式（１）の生成物を分離する段階を含んでなる方法。（式中、各Ｘは、ハロゲン／水素のモル比が約０．９０超であることを条件として、独立にハロゲン又は水素である。）


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