【課題】優れたＣＤ均一性でレジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥発生数が少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）、式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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【課題】精製２，２−ジメチル−３−ホルミルシクロプロパンカルボン酸エステルの工業的な製造方法の提供。
【解決手段】粗製の２，２−ジメチル−３−ホルミルシクロプロパンカルボン酸エステルとアルカリ金属亜硫酸水素塩とを反応させることにより、式（２）


で示される置換ヒドロキシメタンスルホン酸塩を得る。式（２）で示される置換ヒドロキシメタンスルホン酸塩と、酸、塩基および水溶性アルデヒドからなる群から選ばれる少なくとも一つの化合物とを反応させることにより、精製２，２−ジメチル−３−ホルミルシクロプロパンカルボン酸エステルを得る。 （もっと読む）

【課題】製造上の困難性を解決し、効率的且つ安価に、様々な分子構造を有する含フッ素スルホニルフルオリド化合物を得る方法を提供する。
【解決手段】Ｒ^B−Ｅ−Ｒ^A−Ｓ−Ｓ−Ｒ^A−Ｅ−Ｒ^B を酸化してＸＳＯ₂−Ｒ^A−Ｅ−Ｒ^B （２）とし、液相中でフッ素と反応させてＦＳＯ₂−Ｒ^AF−Ｅ^F−Ｒ^BFとし、さらに、分解してＦＳＯ₂−Ｒ^AF−ＣＯＦを得る含フッ素スルホニルフルオリド化合物の製造方法。ただし、Ｒ^Aは２価有機基；Ｒ^AFは２価有機基等；Ｒ^Bは１価有機基；Ｒ^BFは１価有機基等；Ｅは−ＣＯＯＣＨ₂−；Ｅ^Fは−ＣＯＯＣＦ₂−；Ｘはハロゲン原子を示す。 （もっと読む）