説明

国際特許分類[C07C309/23]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 非環式化合物または炭素環式化合物 (64,036) | スルホン酸;そのハライド,エステルまたは無水物 (1,275) | スルホン酸 (891) | スルホン酸基が非環式炭素原子に結合しているもの (629) | 6員芳香環以外の環を含有する不飽和炭素骨格の (2)

国際特許分類[C07C309/23]に分類される特許

1 - 2 / 2


【課題】解像性を向上させることができるレジスト組成物に関わる技術を提供する。
【解決手段】一般式(K−1)で示されることを特徴とする化合物;テトラシクロドデセンアルコールに、塩基触媒下、R−SO−Cl(Rは炭素数1〜5のアルキル基、または炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基である。)を反応させ、一般式(K−1)で示される化合物を得ることを特徴とする化合物の製造方法;前記化合物を構成単位として含む高分子化合物[式中、R〜Rはそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜12のアルキル基を示し、Rは炭素数1〜5のアルキル基、又は炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基をし、aは1を示し、tは0又は1〜3の整数を示す。]。
[化1]
(もっと読む)


【課題】 燃焼性が比較的高く、人体蓄積性に問題がなく、発生する酸の酸性度および沸点が十分高く、レジスト被膜中での拡散長が適度に短く、またマスクパターン依存性が小さい新規な感放射線性酸発生剤、該酸発生剤に関連するスルホン酸(誘導体)、並びに該酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 感放射線性酸発生剤は、下記一般式(I)で表される構造を有する。
【化1】


〔但し、Rはフッ素含有率が50重量%以下である1価の有機基で、置換されてもよい直鎖状もしくは分岐状の1価の炭化水素基、または該置換されてもよい1価の炭化水素基が−CO−、−COO−、−S−、−SO−、−SO2 −等に結合した基を示し、Z1 およびZ2 はフッ素原子またはパーフルオロアルキル基を示す。〕
感放射線性樹脂組成物は、該酸発生剤以外に、ポジ型では酸解離性基含有樹脂を含有し、ネガ型ではアルカリ可溶性樹脂と架橋剤を含有する。 (もっと読む)


1 - 2 / 2