【課題】ポジ型、ネガ型のいずれのフォトレジスト組成物においても使用することができる新規な光感応性酸発生剤化合物、およびそれらの化合物を含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】組成物の露光されたコーティング層を現像させるのに充分な量で樹脂バインダおよび光感応性酸発生剤化合物を含み、その光感応性酸発生剤が放射線で露光されることによりα，α−ジフルオロアルキルスルホン酸を発生させる、フォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。［式（Ｉ）中、Ｒ^１及びＲ^２は、互いに独立に、フッ素原子又はＣ₁〜Ｃ₆ペルフルオロアルキル基を表す。Ｒ^３は、水素原子又はメチル基を表す。Ｘ^１は、２価のＣ₁〜Ｃ₁₇飽和炭化水素基を表し、前記２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよく、前記２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。Ｚ^１＋は、有機対イオンを表す。］
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【課題】解像力に優れ、露光ラチチュード（ＥＬ）が広く、また線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さいパターンを形成できるパターン形成方法、これに用いる化学増幅レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、該膜を露光する工程、及び、有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、を含むパターン形成方法であり、前記化学増幅型レジスト組成物が、（Ａ）樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により下記一般式（Ｉ）で表される酸を発生する化合物、（Ｃ）架橋剤、及び、（Ｄ）溶剤、を含有することを特徴とするパターン形成方法。式（Ｉ）中、Ａは、環状の有機基を表す。その他の各符号は所定の構造を表す。
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【課題】 露光ラチチュード（ＥＬ）及び現像欠陥性能に優れたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るパターン形成方法は、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂（Ａ）と、活性光線又は放射線の照射により下記一般式（ＬＤ）により表される部分構造を備えた酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、前記膜を露光することと、前記露光された膜を、濃度が２．３８質量％未満であるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて現像することとを含んでいる。
【化１】
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【課題】キラルな化学的試薬、あるいは円偏光等のキラルな物理力を用いることなく、一般的な化合物を用いた、水溶液中での絶対不斉合成反応を提供する。
【解決手段】亜硫酸水素ナトリウムとベンツアルデヒドとを、特定の時間に、室温、撹拌下、水溶液中で反応させて、下記で表される光学活性α−ヒドロキシベンゼンメタンスルホン酸ナトリウムを得る。
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【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物およびその製造方法、該化合物の前駆体として有用な化合物およびその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（ｂ１−１）で表される化合物。Ａは、当該Ａが結合した硫黄原子とともに３〜７員環構造の環を形成する２価の基であり、前記環は置換基を有していてもよい。Ｒ^２は置換基を有していてもよい芳香族基、置換基を有していてもよい炭素数１〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、または置換基を有していてもよい炭素数２〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルケニル基であり、ｎは０または１であり、Ｙ^１はフッ素置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキレン基である。
［化１］
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【課題】感熱性の酸発生剤から発生するスルホン酸、並びにその原料化合物の提供。
【解決手段】


で代表される化合物。 （もっと読む）

【課題】放射線で露光されることにより１，１−ジフルオロアルキルスルホン酸を発生させる光感応性酸発生剤化合物の提供。
【解決手段】１，１−ジフルオロアルキルスルホン酸の合成方法としては例えば１，１−ジフルオロ−２−（１−ナフチル）エチニレンと亜硫酸ナトリウムを反応させて１，１−ジフルオロ−１−スルホン酸−２−（１−ナフチル）エチレンを得る方法である。更に、１，１−ジフルオロ−１−スルホン酸−２−（１−ナフチル）エチレンをジ（４−ｔ−ブチルフェニル）−ヨードニウム硫酸塩と反応させて光感応性酸発生剤化合物を得ることができる。 （もっと読む）

本発明は、殺菌、抗バクテリア、抗感染、抗菌、殺胞子、消毒、抗真菌および抗ウイルス化合物および組成物、並びに治療へのかかる組成物の新規な使用に関する。本明細書は、かかる新規な化合物および組成物の使用方法についても記載する。更に本明細書は、かかる化合物の調製方法も記載する。 （もっと読む）

本発明は、医薬の調製における中間体として有用な、式：Ａｒ−（Ｒ）ｚ−ＳＯ_２−ＮＲ^４Ｒ^５の式：Ａｒ−（Ｒ）ｚ−ＳＯ_２−Ｘ（可変基は明細書の記載と同意義である）のスルホニルハライドおよびスルホンアミドを調製するための合成方法を提供する。 （もっと読む）