国際特許分類[C07C309/42]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 非環式化合物または炭素環式化合物 (64,036) | スルホン酸;そのハライド,エステルまたは無水物 (1,275) | スルホン酸 (891) | スルホン酸基が炭素骨格の6員芳香環の炭素原子に結合しているもの (248) | 炭素骨格に結合している単結合の酸素原子を含有するもの (27) | 非縮合6員芳香環環の炭素原子に結合しているスルホン酸基をもつもの (20)
国際特許分類[C07C309/42]に分類される特許
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化合物、高分子化合物、酸発生剤、レジスト組成物、レジストパターン形成方法
【課題】新規化合物、高分子化合物、レジスト組成物、酸発生剤及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】式(1−1)で表される化合物[式中、R1、R3はそれぞれ独立に、単結合又は2価の連結基であり、Aは2価の連結基であり、R2、R4はそれぞれ独立に、水酸基、置換基を有していてもよい炭化水素基、又は式(1−an1)、(1−an2)又は(1−an3)で表される基である。n0は0又は1である。Y1は単結合又は−SO2−であり、R5はフッ素原子で置換されていてもよい、炭素数1〜10の1価の炭化水素基、炭素数3〜20の環状の1価の炭化水素基、又は炭素数3〜20の環状の部分構造を有する1価の炭化水素基である。M+は有機カチオン又は金属カチオンである]。
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芳香族スルホン酸誘導体およびその製造方法
【課題】プロトン伝導性に優れる芳香族系高分子材料、および該高分子材料を得るためのモノマーを提供すること。
【解決手段】以下のフェニレン結合を有する芳香族スルホン酸誘導体をモノマー成分として用いることにより、上記課題を解決できる。
【化1】
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架橋剤およびその製造方法
【課題】燃料電池に用いることのできる高分子電解質のイオン交換容量を低下させずに、耐水性、耐溶剤性を向上させることのできる架橋剤、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】プロトン酸基と反応性の架橋部位とを有する下式で示される架橋剤。
[式中、Aは、スルホン酸基、ホスホン酸基、ヒドロキシル基、カルボキシル基から選択されるプロトン酸基を表し、X1およびX2は、それぞれヒドロキシル基、アルコキシ基、トシル基、ハロゲン元素から選択される脱離基を表し、R1およびR2は、それぞれ−(CH2)n−、−O−(CH2)n−、−S−(CH2)n−、−NH−(CH2)n−から選択される連結基を表し、nは1以上の整数を表す。]
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シベレスタットの合成方法
【課題】全身性炎症反応症候群を伴う急性肺炎症の治療に適応されるヒト好中球エラスターゼ阻害薬であるシベレスタットを利用し易い方法により合成する方法を提供する。
【解決手段】4-ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウムおよび無水イサト酸から出発して、シベレスタット(1)、すなわち2-(2-(4-(ピバロイルオキシ)フェニルスルホンアミド)ベンズアミド)酢酸を調製する方法。
シベレスタット前記方法は、大部分の中間体を単離することなく行われ、収率および生産性において特に有利である。さらに、得られるシベレスタットは純度が高く、シベレスタットナトリウム四水和物に利用し易い方法により変換することができる。
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感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法
【課題】遠紫外光、EUV、電子線等、特にArFエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、通常露光更には液浸露光によるパターニングにおいても、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)ラクトン構造を有する特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び(D)酸の作用により脱離する基を有する低分子化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。
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スルホン酸誘導体及び光酸発生剤
【課題】光酸発生剤とフォトレジスト組成物の主成分である酸解離基を有するポリマーとの相溶性が悪いという問題点を伴うことがなく、光酸発生剤としての機能を有するスルホン酸誘導体を提供する。
【解決手段】例えばトリフェニルスルホニウム4−ビニロキシエトキシフェニルスルホン酸塩、トリ(tert−ブチルベンゼン)スルホニル4−ビニロキシエトキシフェニルスルホン酸塩及びトリフェニルスルホニウム4−ビニロキシオクトキシフェニルスルホン酸塩のようなスルホン酸誘導体。
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有機スルホン酸のアルカリ金属塩の処理方法、金属イオン濃度を低減した有機スルホン酸及び有機スルホン酸アンモニウム塩型界面活性剤
【課題】電子、半導体及び精密加工分野等で使用可能なレベルにまで金属イオン濃度を低減することができる有機スルホン酸のアルカリ金属塩の処理方法、該処理方法によって得られる金属イオン濃度を低減した有機スルホン酸及びかかる有機スルホン酸を用いることにより同様に金属イオン濃度を低減した有機スルホン酸アンモニウム塩型界面活性剤を提供する。
【解決手段】特定の有機スルホン酸のアルカリ金属塩を、強酸性カチオン交換樹脂を用いたイオン交換法に供し、該有機スルホン酸に対する金属イオン濃度を各金属イオン毎で200ppb以下となるように処理した。またかかる金属イオン濃度を低減した有機スルホン酸を、特定の塩基性化合物で中和し、同様に金属イオン濃度を低減した有機スルホン酸アンモニウム塩型界面活性剤とした。
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フッ素系界面活性剤
本発明は、アリールスルホネート基、スペーサーおよび基Yを含み、ここでYが、CF3−(CH2)a−O−、SF5−、CF3−(CH2)a−S−、CF3CF2S−、[CF3−(CH2)a]2N−もしくは[CF3−(CH2)a]NH−(式中、aは0〜5の範囲から選択される整数を表す)、または式(I)(式中RfがCF3−(CH2)r−、CF3−(CH2)r−O−、CF3-(CH2)r−S−、CF3CF2−S−、SF5−(CH2)r−もしくは[CF3−(CH2)r]2N−、[CF3−(CH2)r]NH−もしくは(CF3)2N−(CH2)r−を表し、Bが単結合、O、NH、NR、CH2、C(O)−O、C(O)、S、CH2−O、O−C(O)、N−C(O)、C(O)−N、O−C(O)−N、N−C(O)−N、O−SO2もしくはSO2−Oを表し、Rが1〜4個のC原子を有するアルキルを表し、bが0もしくは1を表し、cが0もしくは1を表し、qが0もしくは1を表し、ここでbおよびqからの少なくとも1つのラジカルが1を表し、rが0、1、2、3、4もしくは5を表す)を表す化合物、これらの化合物の製造方法、ならびにこれらの界面活性化合物の使用に関する。
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ジヒドロキシベンゼンジスルホン酸金属塩を調製するための方法
本発明の主題は、好ましくはアルカリ金属からのジヒドロキシベンゼンジスルホン酸金属塩を、対応するジヒドロキシベンゼンジスルホン酸から調製するための方法である。本発明によれば、ジヒドロキシベンゼンジスルホン酸金属塩を対応するジヒドロキシベンゼンジスルホン酸から調製するためのこの方法は、硫酸媒質に存在するジヒドロキシベンゼンジスルホン酸と、硫酸アニオンまたは硫酸水素アニオンを含む十分な量の塩との反応を含むという事実により特徴づけられる。 (もっと読む)
成長ホルモン分泌促進因子受容体アゴニストとしてのアリールおよびヘテロアリールスルホンアミド類
本発明は、式(I)で示される化合物またはその医薬上許容される塩、それらの製造方法、それらを含有する医薬組成物、および胃腸障害および他の障害の治療におけるそれらの使用を提供する。
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