【課題】新規化合物、高分子化合物、レジスト組成物、酸発生剤及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】式（１−１）で表される化合物［式中、Ｒ^１、Ｒ^３はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基であり、Ａは２価の連結基であり、Ｒ^２、Ｒ^４はそれぞれ独立に、水酸基、置換基を有していてもよい炭化水素基、又は式（１−ａｎ１）、（１−ａｎ２）又は（１−ａｎ３）で表される基である。n０は０又は１である。Ｙ¹は単結合又は−ＳＯ_２−であり、Ｒ^５はフッ素原子で置換されていてもよい、炭素数１〜１０の１価の炭化水素基、炭素数３〜２０の環状の１価の炭化水素基、又は炭素数３〜２０の環状の部分構造を有する１価の炭化水素基である。Ｍ^＋は有機カチオン又は金属カチオンである］。
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【課題】新規なスルホン酸基含有ジアミン化合物を提供する。
【解決手段】以下の式（１）に示すスルホン酸基含有ジアミン化合物とする。式（１）におけるＡは、例えば、置換基を有していてもよい２価の脂肪族基（炭素数１０以下）、芳香族基（環の数４以下）である。
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【課題】着色成分の含有量が僅少であり、保存による着色劣化が軽減されたナフトヒドロキノン化合物の水溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】ナフトキノンを溶解し且つ水に実質的に不溶である有機溶媒にナフトキノンを溶解して得た溶液（Ａ）と亜硫酸水素塩または炭酸水素塩の水溶液（Ｂ）とを混合する付加反応工程、ナフトヒドロキノン化合物含有水相を有機溶媒相から分離する分離工程、分離回収されたナフトヒドロキノン化合物の水溶液中に存在する溶剤を除去する脱溶剤工程を順次に含み、更に、付加反応工程より後の任意の位置においてナフトヒドロキノン化合物の水溶液を吸着剤で処理する脱色工程を含み、そして、付加反応工程、分離工程および脱溶剤工程における各溶液および水溶液における溶存酸素濃度を５ｐｐｍ以下に維持し、且つ、前記の何れかの工程にて安定剤として酸化防止剤または還元剤を添加する。 （もっと読む）

【課題】遷移金属を含まず、水溶性で且つ疎水性有機溶媒に難溶であり、さらに、酸素不存在下でもラジカル捕捉効果を有し、特にモノマーに対して優れた重合禁止効果を有するラジカル捕捉剤の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるナフタレン誘導体を有効成分とするモノマー用のラジカル捕捉剤。


｛一般式（１）中、Ｘはスルホナート基またはカルボキシラート基を示し、Ｙは、水素原子、アルカリ金属またはアンモニウム基を表す。｝ （もっと読む）

本発明は、アリールスルホネート基、スペーサーおよび基Ｙを含み、ここでＹが、ＣＦ_３−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−、ＳＦ_５−、ＣＦ_３−（ＣＨ_２）_ａ−Ｓ−、ＣＦ_３ＣＦ_２Ｓ−、［ＣＦ_３−（ＣＨ_２）_ａ］_２Ｎ−もしくは［ＣＦ_３−（ＣＨ_２）_ａ］ＮＨ−（式中、ａは０〜５の範囲から選択される整数を表す）、または式（Ｉ）（式中ＲｆがＣＦ_３−（ＣＨ_２）_ｒ−、ＣＦ_３−（ＣＨ_２）_ｒ−Ｏ−、ＣＦ_３-（ＣＨ_２）_ｒ−Ｓ−、ＣＦ_３ＣＦ_２−Ｓ−、ＳＦ_５−（ＣＨ_２）_ｒ−もしくは［ＣＦ_３−（ＣＨ_２）_ｒ］_２Ｎ−、［ＣＦ_３−（ＣＨ_２）_ｒ］ＮＨ−もしくは（ＣＦ_３）_２Ｎ−（ＣＨ_２）_ｒ−を表し、Ｂが単結合、Ｏ、ＮＨ、ＮＲ、ＣＨ_２、Ｃ（Ｏ）−Ｏ、Ｃ（Ｏ）、Ｓ、ＣＨ_２−Ｏ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）、Ｎ−Ｃ（Ｏ）、Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｎ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−ＳＯ_２もしくはＳＯ_２−Ｏを表し、Ｒが１〜４個のＣ原子を有するアルキルを表し、ｂが０もしくは１を表し、ｃが０もしくは１を表し、ｑが０もしくは１を表し、ここでｂおよびｑからの少なくとも１つのラジカルが１を表し、ｒが０、１、２、３、４もしくは５を表す）を表す化合物、これらの化合物の製造方法、ならびにこれらの界面活性化合物の使用に関する。


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【課題】高い吸光係数を有し、溶剤溶解性が良好であり、フッ化水素酸等の有害な分解物を生ぜず、且つ分解温度の高い赤外線吸収剤を提供すること。
【解決手段】例えば、下記式で表されるメチン化合物。
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