【課題】優れたマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基；ｎは１〜３の整数；Ａ¹は式（ａ−ｇ１）で表される基；ｓは０〜２の整数；Ａ^１０は脂肪族炭化水素基；Ａ^１１は、単結合又は脂肪族炭化水素基、但し、ｓ＝０の時、Ａ^１１は単結合ではない；Ｘ^１０は、酸素原子を含む基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクターを有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；ｒは１又は２；Ａ¹は、式（ａ−ｇ１）で表される基；ｓは０〜２の整数；Ａ^１０は脂肪族炭化水素基；Ａ^１１は、単結合又は脂肪族炭化水素基；Ｘ^１０は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基又はオキシカルボニルオキシ基、但し、Ａ^１１が単結合の時、ｓ＝１かつＸ^１０は酸素原子である；Ｒ^２は、酸に不安定な基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーエンハンスメントファクター（ＭＥＥＦ）を有するパターンを形成することができる化合物及びレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物及びこの化合物に由来する構造単位を有する重合体。


［式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ｒ^２及びＲ^３は、互いに独立に、炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基又はシアノ基で置換されていてもよく、Ｒ^２およびＲ^３は互いに結合してこれらが結合する炭素原子とともに環を形成してもよい。］ （もっと読む）

【課題】高感度で解像度であることに加え、ナノエッジラフネスに優れたレジストパターンを形成可能なレジスト被膜を形成できる感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物と溶剤とを含有する感放射線性組成物。但し、前記一般式（１）中、Ａは単結合など、Ｒ^１は水素原子など、Ｒ^２は炭素数は１１〜２５のアルキル基など、Ｒ^３はアルキル基である。
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【課題】耐酸化性が高く且つ吸水性が低い燃料電池用電解質組成物の提供。
【解決手段】下記一般式（１）に記載の構造をもつ高分子電解質材料を含有することを特徴とする燃料電池用電解質組成物。


（式（１）中、ＢＰは炭素系骨格を有する重合体から構成される基材を意味する。；Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立して構造が決定される水素又はアルキル基；Ｒ³は炭素数がｍである直鎖状又は分枝状のアルキレン基；ｐは０以上の整数；ｍ、ｎ及びｑはそれぞれ正の整数から選択される。） （もっと読む）

【化１】


式（Ｉ）の置換されたフェニルアルキンを製造する方法。
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