【課題】
酸性ガスの物理吸収能力の向上を達成できるイオン液体を提供すること。
【解決手段】
エーテル基及び又はエステル基を有するイオン液体において、カチオンが非環状若しくは環状のアンモニウム又は非環状若しくは環状のホスホニウムである、１種あるいは２種以上のカチオンであり、アニオンがアミド系アニオン又はカルボン酸系アニオンである、１種あるいは２種以上のアニオンであり、かつ、前記カチオンはエーテル基及び/又はエステル基を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ラフネスがより低減され、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】α位の炭素原子に水素原子以外の原子又は置換基が結合していてもよいアクリル酸エステルから誘導される、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）及び−ＳＯ_２−含有環式基を含む構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）と、一般式（ｃ１）で表される化合物（Ｃ１）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物。一般式（ｃ１）中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基；Ｙ^１は２価の脂肪族炭化水素基；Ｒ^１は水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化アルキル基である。ｐは１〜１０の整数、Ａ^＋は有機カチオンを表す。
［化１］
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【課題】簡便な操作により、高収率の精製が可能な含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ｒｆ^１ＳＯ_２）（Ｒｆ^２ＳＯ_２）ＮＨで示される含フッ素スルホニルイミド化合物と、ＲｆＳＯ_３Ｈで示されるスルホン酸化合物と、の混合物を水の存在下で蒸留することを特徴とする含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法を選択する。但し、上記Ｒｆ^１、Ｒｆ^２は、Ｒｆ^１とＲｆ^２がいずれもフッ素であることを除き、フッ素又は炭素数１〜４の直鎖状あるいは分岐状のペルフルオロアルキル基であり、Ｒｆは炭素数１〜４の直鎖状あるいは分岐状のペルフルオロアルキル基である。 （もっと読む）

フッ素化アリーレン含有化合物、及びフッ素化アリーレン含有化合物から形成されるフッ素化ポリマー、並びに方法が記述される。フッ素化アリーレン含有化合物から形成されるフッ素化ポリマーは、低エネルギー表面を提供するのに使用できる。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度及び形状を有するレジストパターンを得ることを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、それぞれ独立に、フッ素原子又はＣ_1-6ペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ^１は、置換基を有していてもよい２価のＣ_1-17飽和炭化水素基を表し、前記２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。Ｒ^１は、フッ素原子を含むＣ_１−６アルキル基を表す。Ｚ⁺は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

界面活性剤としておよび消火用調合物中で使用するために適した、
【化１】


という構造式（Ｉ）の化合物において、
Ｒ_aは、２個の炭素原子に各々結合された１〜６個のカテナリー酸素原子によって中断されている線状または分岐Ｆ（ＣＦ₂）_n（ＣＨ₂ＣＦ₂）ｍ−、または線状または分岐Ｆ（ＣＦ₂）_oであり、
ｍは１〜４、ｎが２〜６、ｏが２〜７であり、
ＡはＯまたは（ＣＨ₂）_k−ＣＯＯであり、
Ｒ¹は水素またはメチルであり、
Ｒ²およびＲ³は各々独立して、１〜６個の炭素原子を有するアルキルであり、
ｐ、ｑおよびｋは各々独立して、１〜１０の整数である、
化合物。
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【課題】スルホキシド化合物から１工程でジスルホニウム塩を得る製造方法を提供する。
【解決手段】特定構造のスルホキシド化合物（Ａ）と、特定構造の芳香族化合物（Ｂ）と、特定構造のスルホンイミド（Ｃ）とを脱水剤の存在下で接触させ及び混合することにより目的のジスルホニウム塩を形成する、ジスルホニウム塩の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】安全性及び生産性が高く、簡便なペルフルオロアルキルスルホンアミドの製造方法を提供する。
【解決手段】ペルフルオロアルキルスルホニルハライド又はペルフルオロアルキルスルホン酸無水物とアンモニア水とを反応させて、ペルフルオロアルキルスルホンアミドアンモニウム塩を含む反応液を得ることを特徴とするペルフルオロアルキルスルホンアミドの製造方法を採用する。 （もっと読む）