【課題】 短時間での合成が可能で、合成後に含フッ素Ｎ−アルキルスルホニルイミド化合物の回収が容易な含フッ素Ｎ−アルキルスルホニルイミド化合物の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 一般式（１）：（ＲｆＳＯ_２）_２ＮＨ（式中、Ｒｆは、Ｆ又は炭素数１〜４のペルフルオロアルキル基である）で表される含フッ素スルホニルイミド酸、又は一般式（２）：（ＲｆＳＯ_２）_２Ｎ・Ｍ（式中、Ｍは、Ｌｉ、Ｎａ又はＫである）で表される含フッ素スルホニルイミド酸塩を、一般式（３）：Ｒｆ’ＳＯ_３Ｒ（式中、Ｒｆ’は、炭素数１〜４のペルフルオロアルキル基であり、Ｒは、炭素数１〜４のアルキル基である）で表されるペルフルオロアルキルスルホン酸エステルと反応させることを特徴とする、一般式（４）：（ＲｆＳＯ_２）_２ＮＲで表される含フッ素Ｎ−アルキルスルホニルイミド化合物の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、シリコーン樹脂と相溶性がよく、帯電防止が可能な導電性を有するシリコーン化合物を提供することを目的とする。
【解決手段】 ―（ＣＨ_２）_ｍＷ（ＣＨ_２）_ｐＮＲＲ’Ｒ”^＋・Ａ⁻（式中、Ｒ、Ｒ’及びＲ”は、同一又は異なってもよく、水素、メチル基、エチル基又はプロピル基であり、Ａは、炭素数が１〜４のペルフルオロアルキル基を有するペルフルオロアルカンスルホン酸若しくはビス（ペルフルオロアルカンスルホン）イミド、又はビス（フルオロスルホン）イミドを表し、Ｗは、ＮＨ、Ｏ又は単結合であり、ｍ及びｐは１から１０の整数である）で表されるアンモニウム基を少なくとも一つ含む特定のシリコーン化合物塩である。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分、および露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分が、一般式（ｂ１−１１）で表される化合物からなる酸発生剤を含むことを特徴とするレジスト組成物。式（ｂ１−１１）中、Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち少なくとも１つは、置換基として式（Ｉ）で表される基を有する置換アリール基であり、式（Ｉ）中のＷは２価の連結基である。Ｘ⁻は、式（ｂ−３）または（ｂ−４）で表されるアニオンである。
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【課題】加水分解を起こさないような環境下でフッ素原子を含むイオン性化合物を保存または移送することのできる包装体を見出す。
【解決手段】フッ素原子を含むイオン性化合物、またはフッ素原子を含むイオン性化合物を含有する組成物を包装材料で包装してなる包装体であって、前記包装材料が少なくとも１層の金属層を含むことを特徴とするイオン性化合物の包装体である。 （もっと読む）

【課題】安定的かつ容易に薄膜を形成、あるいは有機薄膜層の多層化を容易に行うことができ、有機エレクトロニクス素子、特に高分子型有機ＥＬ素子の生産性を向上させる上で有用な電子受容性化合物を提供する。
【解決手段】第１の電荷輸送性化合物のカチオン及び／又はカチオンラジカルと、下記一般式（１ｂ）〜（５ｂ）で表されるアニオンのうちの１種とからなる電子受容性化合物。


（式中、Ｙ^１〜Ｙ^６は、それぞれ独立に二価の連結基、Ｒ^１〜Ｒ^１６は、それぞれ独立に電子求引性の有機置換基（これらの構造中にさらに置換基、ヘテロ原子をもっていてもよい。）を表す。Ｅ^１は酸素原子、Ｅ^２は窒素原子、Ｅ^３は炭素原子、Ｅ^４はホウ素原子又はガリウム原子、Ｅ^５はリン原子又はアンチモン原子を表す。） （もっと読む）

【課題】樹脂や有機溶媒との相溶性が良好であり、金属イオン及び有機溶媒と水が含有しない、高純度のイオン性ビニルモノマー、及び該モノマーからなる帯電防止剤又は帯電防止性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）（式中、Ｒ_１は水素原子又はメチル基を、Ｒ_２及びＲ_３は各々独立に炭素数１〜３のアルキル基で互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｒ４は炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルケニル基又はベンジル基を表し、Ｙは酸素原子又はＮＨ−を表し、Ｚは炭素数１〜３のアルキレン基を表し、Ｒｆ^１及びＲｆ^２は同じであっても異なっていてもよく、炭素数１〜４のペルフルオロアルキル基又は炭素数０のフルオロ基を表す。）で示されるイオン性ビニルモノマーを高純度、高収率で合成し、該イオン性ビニルモノマーからなるポリマー等を帯電防止の有効成分として用いる。
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【課題】 アニオン部位の原料とカチオン部位の原料を効率よく使用でき、かつアニオン部位の原料とカチオン部位の原料の反応速度の制御が可能なイオン性化合物の製造方法により、高純度のイオン性化合物を提供することを目的とする。
【解決手段】 特定のペルフルオロアルキルスルホン酸エステルまたはＮ−アルキルペルフルオロアルキルスルホニルイミドであるアニオンと、特定のアミンであるカチオンとからなるイオン性化合物であって、原料のアニオンと、原料のカチオンと、をマイクロリアクタにより形成された反応流路で連続的に接触させて製造され、原料のアニオンの含有量：Ａ（ｐｐｍ）と原料のカチオンの含有量：Ｂ（ｐｐｍ）との和：（Ａ＋Ｂ）が、５００（ｐｐｍ）以下であることを特徴とする、イオン性化合物である。 （もっと読む）

【課題】低加湿条件下においても優れたプロトン伝導性を有し、機械強度および化学的安定性に優れ、固体高分子型燃料電池としたときに高出力、優れた物理的耐久性を達成することができる高分子電解質材料、ならびにそれを用いた高分子電解質成型体および固体高分子型燃料電池を提供する。
【解決手段】式（Ｐ１）で表される構成単位を含有するポリマーからなる高分子電解質材料、ならびにそれを用いた高分子電解質成型体および固体高分子型燃料電池。


（Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立して、パーフルオロアルキル基からなる群、またはイオン性基を含有する芳香族基からなる群より選択される置換基を表す。Ｍ１、Ｍ２は水素、金属カチオン、アンモニウムカチオンから選択されるカチオン種を表す。） （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、現像時間依存性が小さく、かつ現像により形成されるパターン部の膜べりを抑制する。
【解決手段】（ア）酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂（Ｐ）、及び、活性光線又は放射線の照射により下記一般式（Ｉ）によって表される酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程、を含む、パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。
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【課題】高感度、優れた露光ラチチュード、及び、優れたラインエッジラフネス性能を高次元で鼎立可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及び、パターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１−１）により表される化合物を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。


式中、Ｒ_１は、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、脂肪族環式基、芳香族炭化水素基、又は複素環式基を表す。Ｒ_２は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、脂肪族環式基、芳香族炭化水素基、複素環式基、シアノ基、又は、アルコキシカルボニル基を表す。Ｒ_３は、１つ以上の−ＣＨ_２−基が、エーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、ウレタン基、又は、ウレア基により置換されていても良い、アルキレン基を表す。 （もっと読む）