【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分、および露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分が、一般式（ｂ１−１１）で表される化合物からなる酸発生剤を含むことを特徴とするレジスト組成物。式（ｂ１−１１）中、Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち少なくとも１つは、置換基として式（Ｉ）で表される基を有する置換アリール基であり、式（Ｉ）中のＷは２価の連結基である。Ｘ⁻は、式（ｂ−３）または（ｂ−４）で表されるアニオンである。
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【課題】化合物の製造方法、および新規化合物の提供。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物（Ｉ）と、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物（ＩＩ）とを反応させることを特徴とする下記一般式（ｂ１−１）で表される化合物（Ｂ１）の製造方法。［下記式中、Ｘは二価の連結基又は単結合であり；Ｒは水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化アルキル基であり；Ｒ’は脂肪族基であり；ｎは１〜１０の整数であり；Ｍ^＋は、アルカリ金属イオンである。Ａ^＋は有機カチオンであり、Ｚ⁻は臭素イオン、塩素イオン、化合物（Ｉ）よりも酸性度が低い酸になりうるイオン、ＢＦ_４⁻、ＡｓＦ_６⁻、ＳｂＦ_６⁻、ＰＦ_６⁻またはＣｌＯ_４⁻である。］
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【課題】副作用の少ない、安全でかつ高い免疫抑制効果を示す薬剤を提供すること。
【解決手段】一般式（Ｉ）で示される化合物、その塩、そのＮ−オキシド体、その溶媒和物、またはそれらのプロドラッグ、ならびにそれらを含有してなる薬剤。


［式中、環Ａ、環Ｄは置換基を有していてもよい環状基、Ｅ、Ｇは結合手、主鎖の原子数１〜８のスペーサー、Ｌは水素原子、置換基、Ｘは置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよい少なくとも１個の窒素原子を含む複素環、ｎは０〜３を表し、ｎが２以上のとき複数の環Ａは同じでも異なっていてもよい。］
一般式（Ｉ）で示される化合物はＳ１Ｐ受容体（特にＥＤＧ−１および／またはＥＤＧ−６）結合能を有し、移植に対する拒絶反応、自己免疫性疾患、アレルギー性疾患等の予防および／または治療に有用である。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式（ｂ１）で表される化合物；該酸発生剤；酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分及び露光により酸を発生する酸発生剤成分が一般式（ｂ１）で表される化合物であるレジスト組成物。式中、Ｒ¹は、水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキル基、又は、複素環式基を示し；Ｒ^２は、炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を示し；ｘは０〜６の整数であり；ｎは０〜３の整数であり；Ｘ⁻はアニオンを示す。
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【課題】少ない反応工程数で工業的規模の方法に適用できるアシルスルファモイルベンズアミド化合物の製造方法、および該化合物を合成するための中間体の提供。
【解決手段】式（IV）で表される中間体化合物をアミン化合物と反応させることでアシルスルファモイルベンズアミド化合物を製造する。


［式中、R³及びR⁵は、それぞれハロゲン、(C₁-C₆)-アルキル、(C₁-C₆)-アルキルカルボニル、-CO-アリール、シアノ又はニトロなどであり;R⁴は、水素、(C₁-C₄)-アルキル、(C₂-C₄)-アルケニル又は(C₂-C₄)-アルキニルであり;ｎは０から４の整数であり、ｍは０から５の整数である］ （もっと読む）

本発明は、特定のビスアシル化ヒドロキシルアミン誘導体化合物、そのような化合物を含む医薬組成物およびキット、ならびにそのような化合物または医薬組成物を使用する方法を提供する。特に、本発明は、そのような化合物または医薬組成物を、疾患または状態の発病および／または発症を処置し、防止し、または遅延させるために使用する方法を提供する。いくつかの態様において、疾患または状態は、心血管疾患、虚血、再灌流傷害、癌性疾患、肺高血圧症およびニトロキシル療法に応答する状態から選択される。 （もっと読む）

本発明は、特定のＮ−アシルオキシスルホンアミドおよびＮ−ヒドロキシ−Ｎ−アシルスルホンアミド誘導体化合物、そのような化合物を含む医薬組成物およびキット、ならびにそのような化合物または医薬組成物を使用する方法を提供する。特に、本発明は、そのような化合物または医薬組成物を、疾患または状態の発病および／または発症を処置し、防止し、または遅延させるために使用する方法を提供する。いくつかの態様において、疾患または状態は、心血管疾患、虚血、再灌流傷害、癌性疾患、肺高血圧症およびニトロキシル療法に応答する状態から選択される。 （もっと読む）

【課題】活性光線若しくは放射線又は熱に対する感度に優れた組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法及びインクジェット記録方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る組成物は、式Ａ−ＬＧにより表される化合物であって、前記Ａは、下記一般式（Ａ−１）により表される残基であり、前記ＬＧは、酸の作用により脱離して式Ａ−Ｈにより表される酸を発生させる基である化合物と、活性光線若しくは放射線の照射により酸を発生する化合物、及び／又は、加熱により酸を発生する化合物とを含んでいる。
【化１】
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糖尿病、特にＩ型糖尿病を予防する医薬の調製のための、式（Ｉ）のスルホンアミド（式中のＲおよびＲ^１は明細書中に定めるものである）の使用を本明細書に開示する。
【化１】
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【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、疎密依存性、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルに優れ、且つＥＵＶ光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、当該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により特定構造の化合物を発生するスルホニウム塩又はヨードニウム塩化合物を含有する感光性組成物、当該感光性組成物を用いたパターン形成方法及。 （もっと読む）