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国際特許分類[C07C317/04]の内容

国際特許分類[C07C317/04]に分類される特許

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【課題】安定的かつ容易に薄膜を形成、あるいは有機薄膜層の多層化を容易に行うことができ、有機エレクトロニクス素子、特に高分子型有機EL素子の生産性を向上させる上で有用な電子受容性化合物を提供する。
【解決手段】第1の電荷輸送性化合物のカチオン及び/又はカチオンラジカルと、下記一般式(1b)〜(5b)で表されるアニオンのうちの1種とからなる電子受容性化合物。


(式中、Y〜Yは、それぞれ独立に二価の連結基、R〜R16は、それぞれ独立に電子求引性の有機置換基(これらの構造中にさらに置換基、ヘテロ原子をもっていてもよい。)を表す。Eは酸素原子、Eは窒素原子、Eは炭素原子、Eはホウ素原子又はガリウム原子、Eはリン原子又はアンチモン原子を表す。) (もっと読む)


【課題】電気化学デバイス用電解液に好適に用いられる含フッ素アルキルスルホン化合物を高収率で製造する方法、および該化合物を含有する電気化学デバイス用電解液を提供する。
【解決手段】下式(1)で示される含フッ素アルキルスルフィド化合物を、タングステン酸塩触媒の存在下、酸化剤を用いて酸化する下式(2)で示される含フッ素アルキルスルホン化合物の製造方法。




(式中、Rは炭素数0〜3の直鎖状または分岐状のアルキレン基を示し、Rは炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルキル基を表す。) (もっと読む)


【課題】従来の連続式結晶精製装置よりも、構造が簡素で堅牢でありながら、従来の装置よりも同等以上の効率を持ち、適用範囲の広い連続式結晶精製装置を提供する。
【解決手段】粗結晶や懸濁液中の結晶を外筒とスクリーン製の内筒からなる二重筒体で被覆された中空円錐軸スクリューより構成される装置により圧搾濾過を行う。中空円錐軸内に結晶の融点に近い流体を通すことより結晶は部分溶融し、その融液も順次圧搾濾過され結晶の純度を向上させる。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィー特性が良好なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、該レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物及び酸発生剤の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)として、一般式(b1−1)で表される基をカチオン部に有する酸発生剤(B1)を含有するレジスト組成物。
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【課題】エネルギー貯蔵デバイスの電解液に好適に使用可能な、新規な含フッ素スルホンを提供する。
【解決手段】下記式(1):
[化1]


(式中、Rは酸素原子が挿入されていてもよい炭素数1〜7のアルキル基又は炭素数1〜7のフルオロアルキル基である。Rは、−CFCXYH(式中、XおよびYは、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原、臭素原子、ヨウ素原子、炭素数1〜5のフルオロアルキル基又は炭素数1〜5のフルオロアルコキシ基である。)で表わされる基である。)で表されることを特徴とする含フッ素スルホンである。 (もっと読む)


【課題】 スルホラン系化合物を液状物として取扱うことができて取扱いの利便性を向上することができるとともに、スルホラン系化合物の溶媒としての特性の低下を抑制することができる、スルホラン系化合物の取扱方法を提供する。
【解決手段】 スルホラン系化合物と、特定のスルホン化合物とを混合して液状混合物を調製し、スルホラン系化合物を前記液状混合物として取扱う。 (もっと読む)


【課題】 感度及びラフネス特性に優れた半導体用レジスト組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る半導体用レジスト組成物は、下記一般式(I)により表される化合物を含有している。
【化1】
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【課題】アンチモンや砒素を含有せず、優れた安定性、特に耐熱性、耐光性、耐湿熱性を有する近赤外線吸収性化合物、さらにその近赤外線性吸収化合物を用いて作製した耐光性、耐熱性等の耐性に優れた近赤外線吸収フィルター、光学フィルター、光記録媒体を提供する。
【解決手段】下記式(2)で示されるジイモニウム化合物、及びこれを用いて得られる近赤外線吸収フィルター。特にこのジイモニウム化合物を含有する粘着層を透明支持体上に有する近赤外線吸収フィルターさらにはこれを用いた光学フィルター。


(式(2)中、R〜Rはエチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基又はn−アミル基を、R〜R11はトリフルオロメチル基をそれぞれ表す。) (もっと読む)


本発明は、抗レトロウイルス薬の製造中に発生する製薬工業廃水中に存在するジメチルスルホキシド(DMSO)溶媒の回収のための、衝撃感受性であり有害なアジ化ナトリウム(NaN3)塩ならびに塩化アンモニウム(NH4Cl)の除去に関するものである。下水はNaN3
存在下では爆発を引き起こし得るので、DMSO回収のために直接蒸留できない。さらにDMSOの廃棄は、廃水処理プラント(ETP)に対する化学的酸素要求量(COD)負荷を上昇させる。開発されたプロセスは、コロイド状不純物および懸濁固体の除去のための廃水の前処理と、これに続く塩濃度をppmレベルまで低減するために交互に重ねられたカチオンおよび
アニオン交換膜を使用する電気透析を含む。脱塩された液体は次に、純DMSO溶媒を回収する2つの真空蒸留ステップを受ける。 (もっと読む)


【課題】新規な化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材、および光酸発生剤を含有するレジスト組成物であって、光酸発生剤が一般式(b1−1)で表される化合物;式(b1−1)中、Y10は炭素数5以上の環状の炭化水素基であって酸解離性基を表し;RおよびRは水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、互いに結合して環を形成してもよく;Y11およびY12はアルキル基又はアリール基を表し、互いに結合して環を形成してもよい。Xはアニオンである。
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