【課題】新規なパーフルオロアルキルマグネシウム−ジルコニウムアート錯体を提案する。
【解決手段】パーフルオロマグネシウムハライドと、下記一般式（２）


（式中Ｍはチタン原子またはジルコニウム原子を示し、Ｘはハロゲン原子を示す）で表されるメタロセンジハライド及びパーフルオロアルキルアイオダイドを反応させることにより調製されるパーフルオロアルキル化剤及びそれを用い各種パーフルオロアルキル基含有化合物を調製する。 （もっと読む）

【課題】ジシクロヘキシルテトラフルオロエチレン骨格を有する化合物の汎用性が高く簡便かつ効率的な製造法に関する。また、該化合物の製造に有用な中間体化合物および含フッ素液晶化合物の提供。
【解決手段】一般式Ｃｙ^a−ＣＦ₂ＣＦ₂Ｘ（Ｉ）で表される化合物を反応原料とする、一般式Ｃｙ^a−ＣＦ₂ＣＦ₂−Ｃｙ^b（II）で表される１，２−ジシクロヘキシルテトラフルオロエチレン骨格を有する化合物の製造方法（各式中、Ｃｙ^aは置換基を有してもよいシクロヘキシル基であり、Ｃｙ^bは置換基を有してもよいシクロヘキシル基またはシクロヘキセニル基であり、Ｘはヨウ素原子、臭素原子である）。 （もっと読む）

【課題】新規な含フッ素化合物及びそれを用いた高分子化合物を用い、高いフッ素含量を有しながら、同一分子内に水酸基あるいはそれを修飾した官能基を持たせることで、真空紫外線から光通信波長域に至る波長領域で、高い透明性と低屈折率性を有し、かつ基板への密着性、高い成膜性、エッチング耐性、耐久性を併せ持つ反射防止膜材料またはレジスト材料を提供する。
【解決手段】一般式（２）または一般式（３）で表される含フッ素化合物。（式中、Ｒ¹はメチル基またはトリフルオロメチル基を表し、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は水素原子、炭素数１〜２５の直鎖状、分岐状もしくは環状の炭化水素基または芳香族炭化水素基を含む基であって、その一部にフッ素原子、酸素原子、カルボニル結合を含んでもよい。ｌは０、ｍは１、ｎは２、ｏは１〜８の任意の整数を表す。）
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