【課題】酸増幅型非高分子系レジスト材料として有用な、特定の化学構造式で示される環状化合物、これを含む感放射線性組成物及び該感放射線性組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】分子量５００〜５０００の、式（１）で示される化合物である。


（式中、Ｒ⁰は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、アルキル基、ヒドロキシアルキル基、シクロヘキシルフェニル基、アルキルフェニル基等を表す。） （もっと読む）

【課題】エッチング耐性に優れ、高硬度な炭素膜形成に適したフラーレン誘導体を提供。
【解決手段】式（Ｉ）で示されるフラーレン誘導体。


（丸はフラーレン骨格を表し、Ｒ¹は式（ＩＩ）で表される基、ｍは１〜２０の整数を表す。Ｒ²は水素原子、水酸基又は炭素数１〜３０の有機基、ｎは０〜２０の整数を表す。）


（Ａは置換基を有していてもよいアリーレン基、Ｂは炭素原子数１〜２０の二価鎖状炭化水素連結基、Ｒ³は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又はアリール基、もしくは置換基を有していてもよいヘテロ環状炭化水素基を表す。） （もっと読む）

【課題】高い解像度および低いＬＥＲを有し、かつ加工安定性を伴う、向上した解像度を有するカリックス［４］アレーンベースのフォトレジストの提供。
【解決手段】式（Ｉ）：Ｃ_６Ｒ^１_ｘ（ＯＲ^２）_ｙ（Ｉ）の芳香族化合物と、式（ＩＩ）：Ａｒ^１−ＣＨＯ（ＩＩ）の多環式もしくは縮合多環式芳香族アルデヒドとのテトラマー反応生成物；並びに芳香族化合物のヒドロキシ基、多環式もしくは縮合多環式芳香族アルデヒドのヒドロキシ基、または前記のものの少なくとも１種を含む組み合わせとの付加物としての、酸により除去可能な保護基；を含む分子性ガラス化合物、分子性ガラス化合物を含むフォトレジスト、並びにフォトレジスト組成物の層を含むコーティングされた基体。 （もっと読む）

【課題】エポキシ樹脂組成物にした際に溶解性が良好であり、かつ、エポキシ樹脂硬化物に高い耐熱性を付与できるエポキシ樹脂用硬化剤として用いることができる、新規なカリックスアレーン系化合物を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ−１）で示される特定構造を有するカリックスアレーン系化合物。
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【課題】耐熱性などに優れ、樹脂原料などとして有用な化合物を提供する。
【解決手段】前記化合物を、下記式（１）で表される新規なジベンゾフルオレン化合物（例えば、９，９−ビス（ヒドロキシフェニル）−２，３：６，７−ジベンゾフルオレンなど）で構成する。


（式中、環Ｚは芳香族炭化水素環を示し、Ｅは酸素原子又は硫黄原子、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は同一又は異なって置換基を示し、Ｒ^４はアルキレン基を示す。ｋは０〜２の整数、ｌは０〜３の整数、ｍは０以上の整数、ｎは０以上の整数である。） （もっと読む）

【課題】高耐熱性、高架橋性、高屈折率、高透明性、低線膨張率などの優れた特性を効率よく付与するのに有用な化合物を提供する。
【解決手段】酸触媒の存在下で、フルオレノン類と、ヒドロキシル基を有する縮合多環式炭化水素とを反応させ、下記式（１）で表されるフルオレン骨格を有する化合物を得る。


（式中、環Ｚ^１およびＺ^２は縮合多環式炭化水素環、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂおよびＲ^２は同一又は異なって置換基を示す。ｋ１およびｋ２は同一又は異なって０〜４の整数を示し、ｍは０又は１以上の整数、ｎは１以上の整数を示す。）
上記式（１）で表される代表的な化合物には、９，９−ビス［（ポリ）ヒドロキシナフチル］フルオレン類などが含まれる。 （もっと読む）

【課題】ネガ型レジストのパターン形成に際し、ラフネスが小さく、レジストパターンの倒壊やブリッジ形成を招くことなく安定的に微細パターンを形成することができるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】
（ア）架橋反応によりネガ化する化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、
（イ）該膜を露光する工程、および
（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程
を含むレジストパターン形成方法であって、前記レジスト組成物が、
（Ａ）分子量５００〜５０００の低分子量化合物、
（Ｂ）可視光線、紫外線、エキシマレーザー、電子線、極端紫外線（ＥＵＶ）、Ｘ線およびイオンビームからなる群から選ばれるいずれかの放射線の照射により直接的または間接的に酸を発生する酸発生剤、
（Ｃ）酸架橋剤、および
（Ｄ）溶剤
を含有することを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】優れたエッチング耐性、高い耐熱性等を有するレジスト下層膜を形成する。
【解決手段】一般式（１）で表されるビフェニル誘導体。


（Ａｒ１、Ａｒ２はベンゼン環又はナフタレン環を表す。ｘ、ｚはそれぞれ独立に０又は１を表す。） （もっと読む）

【課題】取扱性、作業性などに優れた６，６−（９−フルオレニリデン）−ジ（２−ナフトール）の新規な結晶多形体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】６，６−（９−フルオレニリデン）−ジ（２−ナフトール）の結晶多形体であって、粉末Ｘ線回折パターンにおいて、（１）１６．７８°、１９．１８°、１９．５８°に回折ピークを有する結晶多形体α、及び（２）１７．８４°、１９．９２°、２２．９２°に回折ピークを有する結晶多形体βは、嵩密度が高く、滑り性に優れるため、取扱性や作業性が向上する。 （もっと読む）

【課題】工業的に安定して高選択率、高収率にて１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンを製造することができる方法を提供する。
【解決手段】本発明によれば、フェノールと３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンを酸触媒の存在下に反応させて、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンを製造する方法において、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンのフェノールアダクト結晶と含水フェノールよりなるスラリー中で酸触媒の存在下にフェノールと３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンとの反応を開始させ、引続き、反応をスラリー中で行わせることを特徴とする１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンの製造方法が提供される。 （もっと読む）