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国際特許分類[C07C59/13]の内容

国際特許分類[C07C59/13]に分類される特許

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【課題】化学修飾が容易であるとともに、特徴的な立体構造を有し、且つ、包摂化合物等としての利用が期待される新規なカリックスアレーン系化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表されるカリックスアレーン系化合物である。(X及びYは、それぞれ独立に、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基等を示し、Rは、それぞれ独立に、水素原子、重合性官能基を有する基、アルカリ可溶性基を有する基、炭素数1〜8の置換若しくは非置換のアルキル基、酸解離性基を有する基等を示し、a、m、及びnは、それぞれ独立に、0又は1の整数を示す。)
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【課題】光学活性アダマンチルオキシプロピオン酸の実用的な製造方法を提供すること。
【解決手段】2−(1−アダマンチルオキシ)プロピオン酸と下記(A−1)〜(A−4)よりなる群から選ばれたアミンとを反応させてジアステレオマー塩を形成する工程、得られたジアステレオマー塩の少なくとも一部を析出させ精製ジアステレオマー塩を得る工程、及び、精製ジアステレオマー塩より光学活性2−(1−アダマンチルオキシ)プロピオン酸を得る工程を含むことを特徴とする光学活性アダマンチルオキシプロピオン酸の製造方法。
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【課題】自然環境下での分解が容易で、且つ人体に対する安全性の高い植物生長抑制効果を有する、新規な化合物を提供する。
【解決手段】6員芳香環にハロゲン、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基等の置換基を有する、新規なシス桂皮酸誘導体。該化合物は植物生長調節を有する。 (もっと読む)


本発明は、キラルカルボン酸の製造方法、詳しくは、キラルP−N配位子とのイリジウム錯体を触媒として用いる三置換α,β−不飽和カルボン酸の触媒的不斉水素化反応に関し、触媒的不斉水素化において高活性及び高エナンチオ選択性(最大99.8%eeに達する)を示し、非常に有用なキラルカルボン酸を得ることができる。また、キラルカルボン酸類の触媒的不斉水素化のためのより高効率かつ高エナンチオ選択的な方法を提供する。α,β−不飽和カルボン酸の触媒的不斉水素化反応に対して重要な応用価値を有するものである。 (もっと読む)


本発明は一種のスピロホスフィン−オキサゾリン配位子、そのイリジウム錯体、その合成、及びα−置換アクリル酸の触媒的不斉水素化反応におけるイリジウム錯体の応用に関する。その製造方法は、置換された7−ジアリールホスフィノ−7’−カルボキシ1,1'−スピロインデンを出発原料として用い、2段階の反応を経てスピロホスフィン−オキサゾリン配位子を形成する工程と、上記配位子をイリジウム前駆体と錯形成反応させる工程と、必要に応じて、イオン交換により異なるイオンを備えるスピロホスフィン−オキサゾリンのイリジウム錯体を得る工程と、を有する。 (もっと読む)


極性非プロトン性溶媒(場合によっては相間移動触媒を含む)中、塩基を使って、2−(4−ヒドロキシフェノキシ)−プロピオン酸を3,4−ジフルオロベンゾニトリルとカップリングさせ、アルキルハライドでアルキル化し、極性非プロトン性溶媒を除去し(場合によってはシハロホップエステルをフラックスとして使用する)、溶媒を含まない融解シハロホップエステルの水抽出によって塩を除去し、減圧下での加熱で残存する水を除去することによって、シハロホップエステルが製造される。 (もっと読む)


本発明は、例えば対象の代謝性疾患を治療するために有用な化合物を提供する。このような化合物は、一般式I


(式中、変数の定義は本明細書で与えられる。)を有する。本発明はまた、この化合物を含む組成物、並びに薬剤を調製においてこの化合物を用いる方法、及び例えば2型糖尿病のような代謝障害を治療する方法を提供する。
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本明細書で提供されるのは、式(I)の化合物:ならびに薬学的に許容されるその塩である(式中、置換基は本明細書に定義されたとおりである)。これらの化合物及びこれらを含む医薬組成物は例えばCOPDなどの疾患の処置に有用である。
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【課題】入手容易な原料物質から製造が可能で、その分子内にヨードフェニル基またはブロモフェニル基を有する、新規な含フッ素酸フルオリド化合物を提供する。
【解決手段】一般式


(ここで、Rfは炭素数2〜4の直鎖状または分岐状のパーフルオロアルキレン基であり、Xはヨウ素原子または臭素原子であり、nは0〜130の整数である)で表わされる含フッ素酸フルオリド化合物。この含フッ素酸フルオリド化合物は、エラストマー性高分子化合物の主要原料として好適に利用することができる。また、含フッ素ビニルエーテル化合物の中間体としても利用できる。 (もっと読む)


【課題】レジスト組成物中の酸発生剤濃度を高くしても、高い解像性が得られるポジ型レジスト組成物および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する基材成分(A)、及び放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有し、基材成分(A)が、下記一般式(I)で表されるフェノール化合物またはその水酸基の水素原子の一部が炭素数1〜10のアルキル基で置換された置換フェノール化合物の水酸基の水素原子の一部または全部が酸解離性溶解抑制基で置換された化合物(A1)を含有し、基材成分(A)に対する前記酸発生剤成分(B)の含有量が10質量%を超えることを特徴とするポジ型レジスト組成物。
[化1]
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