【課題】高い鏡像異性体過剰率の（３R）−３−ヒドロキシブタン酸−ｌ−メンチルを、安価で経済的に製造する方法を提供する。
【解決手段】ｌ−メントールと（３R）−３−ヒドロキシブタン酸エステルとのエステル交換反応を行うことにより、（３R）−３−ヒドロキシブタン酸−ｌ−メンチルをより高い鏡像異性体過剰で安価で経済的に、製造することを可能とした。 （もっと読む）

【課題】製造コストが安く、高解像度、高感度でパターンを形成できる組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）（式中、Ｒ^１、及びＲ^２は、それぞれ、アルキル基、アセチル基、又はアリル基であり、ｎは、０〜３の整数である。）と下記式（２）（式中、Ｒ^３は、Ｒ^２と同様の基を表す。）で示されるカリックス［４］アレーン誘導体を含む組成物。


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【課題】高純度のグリセリンコハク酸脂肪酸エステルの製造方法を提供する。
【解決手段】グリセリンと無水コハク酸またはコハク酸と脂肪酸とのエステル化生成物を炭化水素系溶剤（例えば、ヘキサンおよびトルエンなど）に溶解後冷却し、析出成分を回収することを特徴とするグリセリンコハク酸脂肪酸エステルの製造方法およびグリセリンと無水コハク酸またはコハク酸と脂肪酸とのエステル化生成物を炭化水素系溶剤とケトン系溶剤または低級アルコールとの混合溶液（例えば、ヘキサンとアセトンの混合溶液またはヘキサンとエタノールの混合溶液など）に溶解後冷却し、析出成分を回収することを特徴とするグリセリンコハク酸脂肪酸エステルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成するレジスト組成物、および液浸リソグラフィーにおけるトップコート組成物に使用する樹脂であって、撥水性、特に後退接触角の大きい樹脂を提供する。
【解決手段】 下記一般式（２）で示される繰り返し単位（ａ）を含む質量平均分子量１，０００〜１，０００，０００の含フッ素高分子化合物。
【化】


（式中、Ｒ¹は、重合性二重結合含有基を表し、
Ｒ²は、フッ素原子または含フッ素アルキル基を表し、
Ｒ⁸は、置換もしくは非置換のアルキル基などを表し、
Ｗ¹は、単結合、非置換もしくは置換メチレン基などを表す。 （もっと読む）

【課題】優れた形状、ラインエッジラフネス及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】酸発生剤と樹脂とを含有する化学増幅型フォトレジスト組成物であって、前記樹脂が、酸の作用によりカルボキシル基及びヒドロキシ基を生じかつラクトン環を有さないモノマーに由来する構造単位（ｂ１−３）を含む樹脂である化学増幅型フォトレジスト組成物及び化学増幅型フォトレジスト組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

本発明は、アミノ含有薬物と結合させてそのインビボ特性を向上させることができるポリマー誘導体に関する。ポリマー誘導体は、後で放出されて本来の形の薬物を生じさせることができる。これらのポリマー誘導体および薬物結合体を調製する方法および、用いる方法が記載される。また別の様相において、本発明は、本明細書に開示される薬物結合体と薬学的に許容される賦形剤との薬学的製剤を提供する。いくつかの実施態様において、製剤は、微粒子中にカプセル化された薬物結合体を含む。 （もっと読む）

【課題】優れたエッチング耐性を付与できるとともに、架橋反応等に有利に利用できるヒドロキシル基を有する不飽和カルボン酸アダマンチルエステルを提供する。
【解決手段】下記式（１）


（式中、Ｒ¹は水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を示す。ｐは０又は１以上の整数を示し、ｍ、ｎはそれぞれ１以上の整数を示す。ｍが２以上の場合、ｍ個のｎはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。アダマンタン環は式中に示される置換基以外の置換基を有していてもよい）で表される不飽和カルボン酸アダマンチルエステル。 （もっと読む）

【課題】DMAPを使用したより効率の良いエステルの製造法を提供することを目的とする。
【解決手段】無溶媒もしくは非極性溶媒中、触媒量の化学式（１）で表される４−（Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ）ピリジン系化合物存在下、触媒量の化学式（１）で表される４−（Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ）ピリジン系化合物以外の塩基を全く使用することなく酸無水物とアルコールとを反応させ、エステルを製造する。 （もっと読む）

【課題】容易に再現可能で、かつ、大規模な生産に耐えられる過程を使用する少ないステップで、安定したカルシウム・スタチン塩を提供することを目的とする。
【解決手段】水酸化カルシウムを使用することによって、そのスタチンのエステル誘導体又は保護されたエステル誘導体からスタチンのカルシウム塩を製造する方法が提供される。前記エステル又は保護されたエステル誘導体を、水酸化カルシウムと接触させて、カルシウム塩を得る。好ましいスタチンは、ロスバスタチン、ピタバスタチン及びアトルバスタチン、シンバスタチン及びロバスタチンである。保護されたスタチン・エステル誘導体を用いて始める方法において、保護基を、水酸化カルシウムとの接触により塩形成中に加水分解するか、又は酸触媒と接触させた後に水酸化カルシウムと接触させる。 （もっと読む）

【課題】耐エッチング液性が高く、光照射により可溶化できるフォトレジスト用樹脂組成物及びこの組成物を得るのに有用なフォトレジスト用化合物の提供。
【解決手段】フォトレジスト用アダマンタン系単量体は、下記式（1b）で表される。


（式中、Ｒ^１１は水素原子又はメチル基，Ｒ^１２，Ｒ^１３およびＲ^１４は、同一又は異なって、水素原子，ハロゲン原子，アルキル基，ニトロ基，アミノ基，Ｎ−置換アミノ基，ヒドロキシル基，ヒドロキシメチル基，オキソ基，カルボキシル基，若しくは酸により脱離してヒドロキシル基，ヒドロキシメチル基又はカルボキシル基を生成する官能基を示す。Ｘは連結基を示し、ｍおよびｎはそれぞれ独立して０又は１を示す） （もっと読む）