【課題】フラーレン分子を有する分子、この分子を用いたフラーレンがナノチューブの外表面および内表面に共有結合を介して強固に、規則的に、かつ高密度で結合した自己集積体であるナノサイズ構造体、これを用いた新規な材料の提供。
【解決手段】次の一般式（１）


［式中、Ｒ^１はそれぞれ独立してアルキル基を表し、Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれ独立して次の一般式（２）、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｒ^５−（Ｏ−Ｒ^６）ｎ−ＯＲ^４（２）（式中、−Ｃ_６Ｈ_４−はフェニレン基を表し、^４は水素原子、アルキル基又はフラーレンを有する基を表し、Ｒ^２及びＲ^３の少なくとも一方のＲ^４はフラーレンを有する基であり、Ｒ^５及びＲ^６はそれぞれ独立してアルキレン基を表し、ｎは正の整数を表す。）で表される基を表す。］で表されるヘキサペリヘキサベンゾコロネン誘導体、当該分子が自己組織化してなるナノサイズ構造体、及びそれを含有してなる電荷輸送材料。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明は、ジルコニウム化合物を含むエステル化触媒組成物およびこれを用いてアルコールおよびカルボン酸化合物をエステル化反応させてエステル化合物を製造するエステル化合物の製造方法に関するものであり、大量合成工程に適用することができる。 （もっと読む）

【課題】使用波長、用途に応じて適正なＲｄ値が得られ、特に青色レーザー光に対する耐久性が高い光学素子等を作製するための新規な液晶化合物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物。
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−Ｒ^２−ＯＯＣ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ａ−Ｃｙ−Ｒ^３ （１）
好ましくは、Ｒ^１は、水素原子、Ｒ^２、は炭素数が１〜８の炭化水素基、Ｒ^３は、炭素数が１〜８のアルキル基、Ａは、単結合である。なお、Ｃｙは、トランス−１，４−シクロヘキシレン基を表す。 （もっと読む）

【課題】ケトンやエステル等の極性有機溶媒への高溶解性を維持するとともに、波長１９３ｎｍの光に対する吸光度が低いため消衰係数が低く、且つ屈折率が高いフラーレン誘導体、並びにそのフラーレン誘導体を含有する溶液、及びフラーレン誘導体膜を提供する。
【解決手段】付加置換基としてのヒドロキシル基を有する芳香族炭化水素化合物のヒドロキシル基に、脂肪族環状炭化水素基を含む有機基、硫黄原子を含有する炭化水素基を含む有機基からなる群より選ばれる１種以上の有機基を適当量導入する。 （もっと読む）

【課題】大きなＨＴＰを有し、他の液晶材料との相溶性に優れ、経済的な方法で製造することができる、重合可能な光学活性化合物の提供。
【解決手段】Ｒ−Ｐ−Ｘ−（Ａ−Ｚ）_m−Ｙ［ＲはＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ¹）−ＣＯＯ、ＣＨ₂＝ＣＨ等の重合性基（Ｒ¹は水素又はメチル）を示し、Ｐは単結合又は炭素数１〜１２のアルキレンを示し、Ｘは、単結合、Ｏ、Ｓ、ＣＯＯ、ＯＣＯ、ＣＯＮ（Ｒ³）、Ｎ（Ｒ³）ＣＯ又はＯＣＯＯを示し（Ｒ³は水素又はメチル）、Ａは芳香族環又は脂肪族環を示し、Ｚは単結合、ＣＯＯ、ＯＣＯ又はＣＨ₂ＣＨ₂を示し、ｍは０〜３の整数を示し、Ｙは式(3-1),(3-2)又は(3-3)で表される基を示す。]で表される化合物。
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本発明による実施形態は、５／６−置換ノルボルネン型モノマーの実質的に純粋なジアステレオマーの形成を提供し、さらに、かかるジアステレオマーを重合して、付加またはＲＯＭＰポリマーを形成することを包含し、そのジアステレオマーの所望のエキソ−／エンド−比がその重合に提供され、得られるポリマーが所望の物理的性質または化学的性質を有するように、エンド−／エキソ−構造反復単位の所望の比を提供するようにかかる比が設計される。 （もっと読む）

【課題】橋頭位の炭素原子に結合したフッ素原子を有するフッ素化アダマンタン化合物を、効率よくかつ高い選択性をもって製造する方法を提供する。
【解決手段】橋頭位の炭素原子に結合した水素原子を有するアダマンタン誘導体およびアダマンタンから選ばれるアダマンタン化合物を電解フッ素化し、実質的に当該水素原子のみ、その一部または全部をフッ素原子に置換することを特徴とするフッ素化アダマンタン化合物の製造方法。特に、橋頭位の炭素原子に結合した有機基を１〜２個有する（上記水素原子を２〜３個有する）アダマンタン誘導体から、フッ素原子を１〜３個有するフッ素化アダマンタン化合物の製造方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィ工程を用いた微細パターンの形成に当たって、露光部と非露光部との溶解度差を増大可能な溶解促進剤及びこれを含む化学増幅型フォトレジスト組成物が開示される。
【解決手段】
前記溶解促進剤は、下記の化学式１（ここで、Ｒは炭素数１〜４０の炭化水素基であり、Ａは炭素数１〜１０のアルキル基であり、ｐは０または１であり、ｑは１〜２０の整数である）の構造を有する。


また、前記フォトレジスト組成物は、感光性高分子３〜３０重量％と、前記感光性高分子１００重量部に対して１〜３０重量部の前記式で表わされる溶解促進剤と、前記感光性高分子１００重量部に対して０．０５〜１０重量部の光酸発生剤と、残余の有機溶媒と、を含む。 （もっと読む）

【課題】レジスト材料のベース樹脂用の単量体を提供する。
【解決手段】式（１）で示される含フッ素単量体。


（Ｒ¹はＨ、又はＣ１〜２０の１価炭化水素基を示し、１価炭化水素基の場合、構成する−ＣＨ₂−が−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−に置換されていてもよい。Ｒ²はＨ、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。Ｒ³、Ｒ⁴はＨ、又はＣ１〜８の１価炭化水素基を示す。又は、Ｒ³、Ｒ⁴は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に脂肪族炭化水素環を形成してもよい。Ａは、Ｃ１〜６の２価炭化水素基を示す。）含フッ素単量体は、機能性材料、感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体として有用である。単量体からの高分子化合物は高解像性、耐水性に優れ、レジスト材料のベース樹脂として精密な微細加工に極めて有効である。 （もっと読む）

【課題】新規な化合物、および該化合物を用いた液浸露光用として好適な疎水性を有するポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式（Ｆ１）［式中、Ｘはフッ素原子を有する酸解離性溶解抑制基を示し；ｎは１〜４の整数を表す。Ｒ^５０はｎ価の有機基であって、置換基を有していてもよい。ただし、ｎが１の場合、Ｒ^５０は重合性基を含まない有機基である。］で表される化合物。酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、前記一般式（Ｆ１）で表される化合物（Ｆ）とを含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
［化１］
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