国際特許分類[C07C69/753]の内容
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国際特許分類[C07C69/753]に分類される特許
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重合性エステル化合物、重合体、レジスト材料及びパターン形成方法
【解決手段】式(1)〜(4)のいずれかで示される構造上β−脱離による酸分解を起こさない重合性酸不安定エステル化合物。
(A1は炭素−炭素二重結合を有する重合性官能基、R1は水素原子又は−C−(R5)3、R2、R3はアルキル基、R4は水素原子又はアルキル基、R5は一価炭化水素基、Xはアルキレン基、Yはメチレン、エチレン又はイソプロピリデン基、Zはアルキレン基、両端で結合する3炭素鎖と共に4〜7員環を形成する。n=1又は2、R1〜R5、X、Y及びZは炭素原子及び水素原子以外のヘテロ原子を含まない。)
【効果】本発明の重合体を含有するレジスト材料は、高感度で高解像性を有し、特に超LSI製造用の微細パターン形成材料として好適である。
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フラーレン誘導体の混合物、および電子デバイスにおけるその使用
有機半導体に有用である混合フラーレン誘導体の組成物、およびそのような組成物を製造および使用する方法について開示する。一部の実施形態では、本発明は、一つ以上のさらなるフラーレン系成分を規定の範囲内でさらに含む、混合フラーレン誘導体の組成物に関する。一部の別の実施形態では、本発明は、混合フラーレン出発物質から特定の組成の混合フラーレン誘導体を、または混合フラーレン誘導体から特定の組成の純粋なフラーレン誘導体を、製造する方法に関する。さらに別の実施形態では、本発明は本発明の組成物を含む半導体およびデバイスに関する。 (もっと読む)
エキソ体ノルボルネンモノカルボン酸エステルの製造方法
【課題】 優れた電子材料、光学材料等として使用されるノルボルネン系ポリマーを収率良く製造することができるエキソ体のノルボルネンモノマーを提供すること。
【解決手段】 エンド体ノルボルネンモノカルボン酸エステルに塩基性触媒を作用させ、エキソ体ノルボルネンモノカルボン酸エステルに異性化させる。塩基性触媒としては、金属アルコキシドを用いることが好ましい。
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環状オレフィン二量体及びその製造方法並びに環状オレフィン二量体誘導体の製造方法
【課題】環状オレフィン二量体及びその製造方法並びに環状オレフィン二量体誘導体の製造方法を提供する。
【解決手段】環状オレフィンの二量化構造を有する新規な環状オレフィン二量体、環状オレフィンを触媒の存在下で二量化する新規な環状オレフィン二量体の製造方法、及び、該環状オレフィン二量体から合成される環状オレフィン二量体誘導体の製造方法。
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200nm未満リソグラフィー用アダマンタン系分子性ガラスフォトレジスト
新規高性能フォトレジスト材料として、アセタール部分及び/又はエステル部分含有アダマンタン誘導体から生成される、ガラスフォトレジストを開示する。いくつかの本開示のアダマンタン系ガラスフォトレジストは三脚型構造を有しており、その他の開示のアダマンタン系ガラスフォトレジストは1個以上のコール酸基を含有している。本開示のアダマンタン誘導体は市販の出発材料から合成することができる。一例にすぎないが、多くの開示される非晶性ガラスフォトレジストの1つは下記の構造を有する:GR-5 アダマンタン-1,3,5-トリイルトリス(オキシメチレン)トリコーレート。
【化1】
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フッ素アルコール化合物の製造方法、含フッ素単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
【解決手段】式(1)で示されるフッ素化合物に式(2)及び(3)で示される還元剤又は有機金属試薬を反応させる式(4)で示されるフッ素アルコール化合物の製造方法。
(式中、R1はH、又はC1〜20の1価炭化水素基で、1価炭化水素基の場合、構成する−CH2−が−O−又は−C(=O)−に置換されていてもよい。R2はH、又はC1〜6の1価炭化水素基。R3、R4はH、又はC1〜8の1価炭化水素基。M1は置換されていてもよいLi、Na、K、Mg、Zn、Al、B、Si。)
【効果】本発明の含フッ素単量体は、機能性材料、医薬・農薬等の原料として、中でも感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体として有用である。本発明の方法によれば、単量体を極めて容易にかつ安価に製造可能である。
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脂環式化合物およびその製造方法
【課題】電子材料、光学材料等として良好な物性を有する新規な樹脂材料とその原料単量体となる新規の脂環式化合物および当該新規脂環式化合物の製造方法を提供すること。
【解決手段】特定の構造を有する脂環式化合物;シクロペンタジエンに一般式(2):CH2=CHCOOR(式中、Rは、−CH2CF2CF3または−CH2CH2(CF2)3CF3で表される官能基を表す。)で表される化合物を反応させることを特徴とする当該新規脂環式化合物の製造方法を用いる。
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環式化合物、フォトレジスト組成物、およびフォトレジスト組成物を用いるパターン形成方法
【課題】フォトレジストパターンの線幅粗さ、耐エッチング性の改良手段を提供する。
【解決手段】アダマンタン骨格、シクロヘキサン骨格を含む残基からなる群より選択されるいずれか1つの残基と下記化学式(5)で表される残基とを含む環式化合物。
R=t−Buまたはt−BuOC2H4
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オレフィン化合物の製造方法
【課題】幾何異性体や位置異性体等の異性体の生成が少ないオレフィン化合物の製造方法を提供すること。
【解決手段】無機塩基の存在下、パラジウム触媒と式(1)
(式中、R1およびR2はそれぞれ同一または相異なって、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいシクロアルキル基等を表す。ただし、R1とR2がともに水素原子であることはない。R3は置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基または置換されていてもよいアリール基を表す。)で示されるα,β−不飽和アルデヒド化合物とを接触させる式(2)
(式中、R1、R2およびR3はそれぞれ上記と同一の意味を表す。)で示されるオレフィン化合物の製造方法。
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テトラシクロドデセンカルボン酸t−ブチルエステル類の製造方法
【課題】テトラシクロドデセンカルボン酸を出発原料とし、液相中、シリカアルミナ系固体酸触媒の存在下でイソブチレンと反応させて、一般式(2)のテトラシクロドデセンカルボン酸t−ブチルエステルを高収率、高純度で、工業的に製造する方法を提供すること。
【解決手段】テトラシクロドデセンカルボン酸類をシリカアルミナ系固体酸触媒の存在下でイソブチレンと反応させることによって、一般式(2)で表されるテトラシクロドデセンカルボン酸t−ブチルエステル類を製造する。
【選択図面】化2
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