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国際特許分類[C07C69/753]の内容

国際特許分類[C07C69/753]に分類される特許

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【課題】耐熱性、絶縁性、耐光性、機械的特性に優れるノルボルナン骨格含有ポリアミドを製造する方法を提供する。
【解決手段】特定構造のノルボルナンジカルボン酸ハライド誘導体と、ジアミン化合物とを極性溶媒中で反応させてなる、ノルボルナン骨格含有ポリアミドの製造方法であって、前記ノルボルナンジカルボン酸ハライド誘導体総量の60モル%以上が、エキソ体ノルボルナンジカルボン酸ハライド誘導体であることを特徴とする、下記一般式(III)で表されるノルボルナン骨格含有ポリアミドの製造方法。


(但し、式中Xは2価の有機基である。nは1〜500の整数である。) (もっと読む)


【課題】耐熱性、絶縁性、耐光性、機械的特性に優れるノルボルナン骨格含有ポリアミドを提供する。
【解決手段】ノルボルナン骨格含有ポリアミドであって、下記一般式(II)で表される骨格を60モル%以上含有することを特徴とするエキソ体比率の高いノルボルナン骨格含有ポリアミド。


(但し、式中Rは水素又はメチル基であり、X又はYは2価の有機基である。nは1〜500の整数である。) (もっと読む)


【課題】熱、光などに対する高い安定性、高い透明点、液晶相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな負の誘電率異方性、適切な弾性定数、他の液晶性化合物との優れた相溶性を有する液晶性化合物、この化合物を含有する液晶組成物、この組成物を含む液晶表示素子を提供する。
【解決手段】式(1−1)で表される化合物。



式中、例えば、RおよびRは炭素数1〜10のアルキルまたは炭素数1〜9のアルコキシであり;環Aおよび環Aは、1,4−シクロへキシレン、1,4−フェニレン、または2,3−ジフルオロ−1,4−フェニレンであり;ZおよびZは単結合または−(CH22−であり;>W−W−および>W−W−は、>CH−CH−または>C=CH−であり;mおよびnは、0、1または2であり、mおよびnの和は1または2である。 (もっと読む)


【課題】インターロイキン−1および腫瘍壊死因子−αモジュレーターとして有用であり、したがって種々の疾患の治療に有用である化合物を提供する。
【解決手段】式(I)のアカント酸を原型とする類縁化合物は、前記課題の治療効果を有する。
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【課題】有機薄膜太陽電池を初めとする有機半導体に適したフラーレン誘導体を簡便かつ高収率に製造する方法を提供する。
【解決手段】塩基触媒存在下、カルボン酸エステル基を有する原料フラーレン誘導体と原料アルコールとを溶媒中でエステル交換させて、前記原料アルコールに対応するカルボン酸エステル基を有する生成物フラーレン誘導体を得るフラーレン誘導体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、主鎖に多重環化合物を含む光反応性重合体及びその重合方法に関する。
【解決手段】本発明による光反応性重合体は、ガラス転移温度の高い多重環化合物を主鎖として含むために、熱的安定性に優れ、空いている格子の空間が相対的に大きいために、光反応基が高分子主鎖内で比較的自由に移動できて、既存の液晶表示素子用配向膜製造用の高分子材料の短所として指摘されてきた遅い光反応速度という短所を改善できる。 (もっと読む)


【課題】人工触媒を用いたエステルの不斉加水分解方法を提供する。
【解決手段】下式(Ia)で表される四級アンモニウム塩を触媒として、常圧下、−60℃〜50℃で、塩基性水溶液または金属水酸化物の存在下に非水溶性溶媒中で加水分解するエステルの不斉加水分解方法。


(式中、R1は水素原子等を表し、R2はアリール基等を表し、R3は水素原子等を表し、R4は水素原子等を表し、R5は低級アルキル基等を表し、X-はハロゲン原子等を表し、kは1または2の整数を表す。) (もっと読む)


【課題】天然物由来であって、ポリエステルやポリアミドの原料となり得るメチレンビスデヒドロアビエチン酸及びその誘導体の位置異性体混合物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】デヒドロアビエチン酸及びその誘導体からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物と、ホルムアルデヒドとを、酢酸及び酢酸エステルからなる群より選ばれる少なくとも1種を反応溶媒とし、硫酸、脂肪族スルホン酸及び芳香族スルホン酸からなる群より選ばれる少なくとも1種の酸触媒の存在下で縮合させることで、下記一般式(I)で表されるデヒドロアビエチン酸誘導体の位置異性体混合物を製造する。


(式中、Xはそれぞれ独立してヒドロキシ基又は炭素数1〜4のアルコキシ基を表す) (もっと読む)


【課題】医農薬の合成中間体として有用なフッ素化アダマンタン誘導体の製造方法を提供する。
【解決手段】モノ置換またはジ置換アダマンタン誘導体を、ニトリル系溶剤中、フッ素ガスにより直接フッ素化することによる下式(2)で表されるフッ素化アダマンタン誘導体の製造方法。


[式中、Aはヒドロキシカルボニル基、シアノ基等を表し、Cは水素原子、ヒドロキシカルボニル基、フッ素原子等を表し、Dはフッ素原子又は水素原子を表す。] (もっと読む)


【課題】医薬、農薬、電子材料等の合成中間体として有用な、シクロヘキセン骨格に含フッ素炭化水素を置換基として有する光学活性なシクロヘキセン誘導体を、高収率および高純度で、更に簡便な操作で製造できる方法を提供する。
【解決手段】含フッ素炭化水素を有するオレフィン類(1)とジエン類(2)を、四塩化スズ、四塩化チタン、三塩化鉄、塩化アルミニウム等のルイス酸の存在下、光学活性オキサザボロリジン誘導体等の不斉源を共存させて不斉ディールス・アルダー反応を行い、シクロヘキセン骨格に含フッ素炭化水素を置換基として有する光学活性なシクロヘキセン誘導体を得る(式中、RとRの少なくともいずれか一方は含フッ素炭化水素基である)。
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