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国際特許分類[C07C69/83]の内容

国際特許分類[C07C69/83]に分類される特許

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【課題】 弾性回復特性とガラス基板などに対する密着性を両立できる感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 カルボキシル基を分子中に含有する親水性樹脂(A)、エチレン性不飽和結合含有基(x)を分子中に含有するフタル酸エステル、トリメリット酸エステルおよびピロメリット酸エステルからなる群から選ばれる少なくとも1種のエステル化合物(B)、2個以上の(メタ)アクリロイル基を分子中に含有するウレタンオリゴマー(C)、2個以上の(メタ)アクリロイル基を分子中に含有する多官能(メタ)アクリレートモノマー(D)並びに光重合開始剤(E)を必須成分として含有する感光性樹脂組成物を用いる。 (もっと読む)


【課題】液晶性および良好な相溶性(miscibility)を有する化合物、ならびに、この化合物を含有し、適切な光学異方性や良好な塗布性等を有する重合性液晶組成物を提供すること。
【解決手段】式(1)で表される化合物。
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【課題】基材密着性に優れ、可撓性を有し、しかも、低粘度である、新規な(メタ)アクリレート誘導体を提供する。
【解決手段】次の一般式(I)で表されるで表されるグリシジルアルキル(メタ)アクリレートと特定の活性水素含有官能基を有する化合物との反応物である(メタ)アクリレート誘導体。
【化1】


(一般式(I)中、Rは水素原子またはメチル基、Rは炭素数4〜10の直鎖状または分岐状のアルキレン基を表す。) (もっと読む)


【課題】高効率で、エステル交換反応により目的とするエステル化合物を合成する方法及び該方法に使用できる触媒を提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(1)で表される化合物又は一般式PR(R;アルキル基、アルケニル基若しくはアルキニル基)で表される有機ホスフィン化合物と、(B)下記一般式(2)で表される化合物と、を含有するエステル合成用触媒を用いて、エステル交換反応により、目的とするエステル化合物を合成する。
【化1】
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【課題】医薬の重要中間体である光学活性含フッ素ベンジルアルコールの効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】含フッ素ベンズアルデヒドをアルキルグリニャール試薬と反応させることによりラセミ含フッ素ベンジルアルコールのマグネシウムアルコキシドに変換し、引き続いて該マグネシウムアルコキシドを無水フタル酸と反応させることによりラセミ含フッ素ベンジルアルコールのフタル酸ハーフエステルを得、該ハーフエステルを光学活性1−フェニルエチルアミンで光学分割し、その後、エステル基を加水分解することにより光学活性含フッ素ベンジルアルコールを製造する。本発明は、ラセミ含フッ素ベンジルアルコールのフタル酸ハーフエステルの調製方法に特徴があり、含フッ素ベンズアルデヒドから、該ハーフエステルを簡便に且つ、80%以上の収率で調製できる。この結果、光学活性含フッ素ベンジルアルコールを効率的に製造できる。 (もっと読む)


【課題】 熱開裂性に優れた不飽和化合物を開発する。
【解決手段】
1分子中に平均2個以上のビニル基、ビニルエーテル基、アリル基、アリルエーテル基、プロペニル基、プロペニルエーテル基、アクリロイル基、メタクリロイル基及び含窒素ビニル基から選ばれる少なくとも1種の重合可能な二重結合及び1分子中に平均1個以上の第3級エステル基を有する重量平均分子量100〜50000の範囲を有する不飽和化合物であって、該不飽和化合物から得られる硬化物は、該硬化物中の第3級エステル結合部が加熱により切断でき、その切断された硬化膜の除去が可能であることを特徴とする不飽和化合物。 (もっと読む)


【課題】屈折率異方性等の光学的性質を変化させることなく、耐熱性や強度に優れた光学部材を形成するために用いることができる重合性化合物を提供する。
【解決手段】P−X−M−X−P(ここで、Mはコア部であり、Pは重合性基を含む末端部であり、Xは結合基である。)で表され、4官能以上であり、直鎖のみのアルキル鎖が比較的短い重合性化合物例えば下記(B)と、液晶性重合性化合物例えば下記(A)を用いる。
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下記一般式(1)で表わされる(メタ)アクリレート化合物及びそれを含有する硬化性組成物は、レジストインキ、塗料、成形材等の種々の用途に使用可能である。また、前記テトラ(メタ)アクリレート化合物(B)の他に、アルカリ可溶性であるカルボキシル基含有化合物(A)や、重合開始剤(C)、希釈溶剤(D)、1分子中に2個以上の環状エーテルを有する化合物(E)、硬化触媒(F)等を含有する硬化性組成物は、プリント配線板のソルダーレジスト、エッチングレジスト、メッキレジスト、多層配線板の層間絶縁層、テープキャリアパッケージの製造に用いられる永久マスク、カラーフィルター用レジストなどの用途に有用である。(但し、R、R、R、Rは水素原子又はメチル基を表わし、Xはジカルボン酸残基、好ましくは脂肪族ジカルボン酸残基又は芳香族ジカルボン酸残基を表わす。) (もっと読む)


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