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国際特許分類[C07D285/00]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 複素環式化合物 (108,186) | 異項原子として窒素原子と硫黄原子のみをもつ環を含有し,グループ275/00から283/00までに属さない複素環式化合物 (590)

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【課題】導電性に優れる膜となり、かつ、熱的安定性に優れる導電性高分子を含有する導電性組成物を提供することである。更には、前記導電性組成物を用いることで、導電性に優れる導電膜を提供する。
【解決手段】導電性高分子と、下記一般式で表される化合物とを含有する導電性組成物、ならびにこれを用いて得られる導電膜および透明電極。
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【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分、および露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分が、一般式(b1−11)で表される化合物からなる酸発生剤を含むことを特徴とするレジスト組成物。式(b1−11)中、R”〜R”のうち少なくとも1つは、置換基として式(I)で表される基を有する置換アリール基であり、式(I)中のWは2価の連結基である。Xは、式(b−3)または(b−4)で表されるアニオンである。
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【課題】優れたフォーカスマージンでレジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)及び式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


[式中、A14は、脂肪族炭化水素基を表す。] (もっと読む)


【課題】レジストパターン形成時の露光マージン(EL)に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)及び式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


[式中、R2は、フッ素原子を有する炭化水素基;Q及びQは、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基;Lは、2価の飽和炭化水素基;Rf1及びRf2は、互いに独立に、フッ素原子又はフッ化アルキル基を表す。] (もっと読む)


【課題】軟化温度が高く、かつ、酸素透過性及びプロトン伝導性に優れた高分子電解質及びその製造方法、このような高分子電解質の原料として使用することが可能なイミドモノマ、並びに、このような高分子電解質を用いた電池を提供すること。
【解決手段】高分子の主鎖又は側鎖に、脂環式1,3−ジスルホンイミドを有する含フッ素構造を備えた高分子電解質及びこれを用いた電池。重合反応又は重合反応+フッ素化反応により、高分子の主鎖又は側鎖に脂環式1,3−ジスルホンイミドを有する含フッ素構造を導入可能なイミドモノマ。重合反応又は重合反応+フッ素化反応により、高分子の主鎖又は側鎖に脂環式1,3−ジスルホンイミドを有する含フッ素構造を導入可能な1種又は2種以上のイミドモノマを含む原料を重合させる重合工程を備えた高分子電解質の製造方法。 (もっと読む)


【課題】有機溶媒を使用する必要のない固−液型パラジウムイオン吸着剤、及びそれを用いたパラジウムの選択的な分離・回収方法を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)等で示されるアミド含有環状スルフィド化合物からなる、又はこれを担体に固定化させた吸着剤を用いて、パラジウムを選択的に分離回収する。


[上記式(1)中、Rは各々独立して、水素原子、メチル基、エチル基、炭素数3〜18の直鎖状若しくは分枝状の鎖式炭化水素基、炭素数3〜10の脂環式炭化水素基、又は炭素数6〜14の芳香族炭化水素基を表し、mは1又は2の整数を表し、nは各々独立して、1〜12の整数を表し、Lは各々独立して、メチレン基、エチレン基、炭素数3〜8のアルキレン基、又は炭素数6〜14のアリーレン基を表す。] (もっと読む)


【課題】新規な化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材、および光酸発生剤を含有するレジスト組成物であって、光酸発生剤が一般式(b1−1)で表される化合物;式(b1−1)中、Y10は炭素数5以上の環状の炭化水素基であって酸解離性基を表し;RおよびRは水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、互いに結合して環を形成してもよく;Y11およびY12はアルキル基又はアリール基を表し、互いに結合して環を形成してもよい。Xはアニオンである。
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【課題】 パラジウム触媒を用いた有機金属反応後の溶液から溶存パラジウムを効率的に除去する方法を提供する。
【解決手段】 パラジウム触媒を用いる有機金属反応後の溶液を、下記一般式(1)で示されるアミド含有環状スルフィド化合物からなる吸着剤、又は下記一般式(1)で示されるアミド含有環状スルフィド化合物を担体に固定化した吸着剤と接触させる。
【化1】


[上記式中、Rは各々独立して、水素原子、炭素数1〜18の鎖式炭化水素基、炭素数3〜10の脂環式炭化水素基、又は炭素数6〜14の芳香族炭化水素基を表し、nは各々独立して、1〜4の整数を表す。また上記式中、Lは各々独立して、炭素数1〜8のアルキレン基、又は炭素数6〜14のアリーレン基を表す。] (もっと読む)


殺有害生物剤として優れた殺有害生物効果を示す新規なカルボキサミド類を提供すること。式(I)で表されるカルボキサミド類ならびにこれの殺有害生物剤および動物寄生虫防除剤としての利用(式中、各置換基は、明細書に記載のとおりである。)。

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【課題】スルホキシド化合物から1工程でアリール含有スルホニウム塩を製造する方法。
【解決手段】スルホキシド化合物(A)と、芳香族化合物(B)と、一般式(5):


で表されるスルホンイミド(C)とを、脱水剤の存在下、接触及び混合させる、を含む、一般式(7):


で表されるスルホニウム塩の製造方法。 (もっと読む)


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