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国際特許分類[C07D305/06]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 複素環式化合物 (108,186) | 異項原子として1個の酸素原子のみをもつ4員環を含有する複素環式化合物 (253) | 他の環と縮合していないもの (162) | 環原子相互間または環原子と非環原子間に二重結合をもたないもの (136) | 環の原子に,水素原子,炭化水素基または置換炭化水素基のみが直接結合したもの (115)

国際特許分類[C07D305/06]に分類される特許

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【課題】 重合性液晶組成物を構成した場合に高い保存安定性、高いコレステリック配向性及び短いピッチを示す重合性化合物及び当該重合性化合物を含有する重合性液晶組成物を提供する。更に、当該重合性液晶組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。
【解決手段】 一般式(I)
【化1】


で表される重合性化合物を提供する。更に、当該重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物、並びに当該重合性液晶組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。 (もっと読む)


【課題】優れたパターン倒れ耐性(PCM)で、欠陥の少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)及び式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


[式中、Rは、水素原子又はメチル基;Aはアルカンジイル基を表す。] (もっと読む)


【課題】エーテル交換反応の転化率が高く、原料成分のリサイクル性にも優れ、工業的に安価に量産できるビニルエーテルの製造方法を提供する。
【解決手段】
遷移金属触媒の存在下、ビニルエーテル類とアルコール類とのエーテル交換反応において、反応工程中ないし反応終了後に、反応混合物に酸素をバブリングしつつ、低沸点成分を留出させて反応混合物を濃縮する。低沸点成分は50〜100℃程度で留出させてもよい。この反応では、アルコール類に対してビニルエーテル類を過剰モル当量の割合で用いてもよい。酸素は、遷移金属触媒1モルに対して、5〜100リットル/分の割合でバブリングさせてもよい。遷移金属触媒はパラジウム錯体及び/又はコバルト錯体であってもよい。 (もっと読む)


【課題】 本発明の課題は、重合性液晶組成物の硬化性の改善による生産性及び信頼性の向上、プレチルト角の安定性向上等の表示特性を改善した液晶表示素子を提供することであり、硬化速度が速く、液晶相温度範囲が広くかつ耐熱性が高い、偏向板、位相差板等の用途に有用な光学異方体を提供することである。
【解決手段】 一般式(I)
【化1】


で表わされる重合性化合物を提供し、併せて当該重合性化合物を含有する液晶組成物及び当該液晶組成物を用いた液晶表示素子を提供する。 (もっと読む)


【課題】パターン倒れの少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】(A)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、(B)式(II)で表される酸発生剤及び(D)式(I)で表される化合物を含有するレジスト組成物。


[式中、R及びRは独立に炭化水素基、アルコキシ基等;m及びnは独立に、0〜4の整数;R及びRは独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基;Xは2価の飽和炭化水素基;Rは環状エーテル構造を含む基;Z1は有機カチオンを表す。] (もっと読む)


【課題】有害節足動物に対して防除活性を有する新規な化合物を提供すること。
【解決手段】式(I)


〔式中、Yは、酸素原子及び−S(O)t−からなる群より選ばれる1個以上の原子または基を環構成成分として含む3−7員飽和へテロ環を表し(ここで、該飽和へテロ環は、群Dより選ばれる1〜3個の原子または基を有していてもよい。)、tは0等を表し、Xは水素原子等を表し、Wは酸素原子等を表し、uは0等を表し、rは0等を表し、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は、同一または相異なり、水素原子等を表し、nは1等を表す。〕
で示されるアミド化合物を提供する。該化合物は優れた有害節足動物防除効果を有する。 (もっと読む)


【課題】モノヒドロキシモノエーテル化合物を高い生産性で製造する方法を提供。
【解決手段】脱離基Xを有するR−CH−X(1)なる炭化水素化合物(1)と、式(2)


(式中、R2は置換基を有していてもよい2価の炭化水素基、又は2価の炭化水素基の2以上がエーテル結合を介して連結された連結基を示す)で表されるジオールとをアルカリ金属を含む塩基の存在下、溶液中で反応させることにより、式(3)


(式中、R2は前記に同じ)で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を生成させる方法であって、式(2)で表されるジオールを含む溶液に対し、アルカリ金属を含む塩基を逐次添加し、生成させたモノアルコキシドを化合物(1)と逐次的に反応させることを特徴とするモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】−C(CF−(hexafluoroisopropylidene)または−SO−(sulfonyl)を有する化合物およびそれを含有する重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】式(5−1−1)および式(5−2−1)で例示される化合物から選択される第1成分、および末端エポキシ基を重合基として有する第2成分、第3成分を含有する組成物が重合性液晶組成物として例示去れ、この重合性液晶組成物を重合させることによって得られる重合体は、トリアセチルセルロースフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルムなどの透明プラスチックフィルムまたはガラスなどの支持基板に塗工することができる。


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【課題】優れたラインエッジラフネス(LER)を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される塩、この塩を含有する酸発生剤及びこの酸発生剤と樹脂とを含有するレジスト組成物。


[式中、Q及びQは、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基;Lは2価の飽和炭化水素基を表し、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい;Lは、単結合又はアルカンジイル基を表し、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい;Yは、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基を表し、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよい;Zは有機対イオンを表す。] (もっと読む)


【課題】パターン倒れ及び欠陥の少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】(A1)式(I)で表される構造単位を有する樹脂、(A2)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び(B)式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


[式中、R1は水素原子又はメチル基;A1はアルカンジイル基;R2はフッ素含有炭化水素基;R及びRは、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基;Xは飽和炭化水素基を表し、該基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよく、該基に含まれる−CH−は−O−又は−CO−で置き換わっていてもよい;Rは、環状エーテル構造を含む基;Z1+は有機カチオンを表す。] (もっと読む)


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