国際特許分類[C07D307/33]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 複素環式化合物 (108,186) | 異項原子として1個の酸素原子のみをもつ5員環を含有する複素環式化合物 (2,841) | 他の環と縮合していないもの (1,601) | 環原子相互間または環原子と非環原子間に1個の二重結合をもつもの (235) | 異種原子,または異種原子に対する3個の結合をもち,そのうち多くても1個がハロゲンに対する結合である炭素原子,例.エステルまたはニトリル基,が環の炭素原子に直接結合したもの (218) | 酸素原子 (209) | 2位,に酸素原子がそのケト型または置換されていないエノール型で結合したもの (200)
国際特許分類[C07D307/33]に分類される特許
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改変タンパク質
【課題】グリコシルトランスフェラーゼによりペプチドおよびタンパク質を結合させる方法を提供する。
【解決手段】治療用タンパク質の便利な合成または半合成を可能にする手段および方法であって、改変の導入が上記の問題に対処している手段および方法。可溶性糖タンパク質誘導体の循環半減期を延長して、治療または予防のための循環する糖タンパク質の治療的有効レベルを維持するために必要な、注射剤の量および注射の頻度を減少させる方法。一定の治療的に活性な糖タンパク質の短いインビボ血漿半減期は、治療または予防に必要とされる可溶性タンパク質の頻度および量に起因して望ましくないものである。糖タンパク質構造を効果的に変化させ、また生物学的活性を実質的に維持して、このような糖タンパク質の循環半減期を延長するための手段。
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5−メチル−γ−ブチロラクトン類の製造方法
【課題】工業的に有利な方法で、且つ環境負荷の少ない方法で5−メチル−γーブチロラクトン類を効率よく製造する方法の提供。
【解決手段】下記一般式(1)
(式中、R1は炭素数1〜5のアルキル基、アリール基を示す。)で表されるアルケン化合物を、アルミノシリケートと接触させて分子内環状化させ、対応するラクトン類を得ることを特徴とする5−メチル−γ−ブチロラクトン類の製造方法。
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(3R,4R)−3,4−ビス(オキシカルボニル)シクロペンタノンおよび(3R,4R)−3,4−ビス(オキシカルボニル)シクロペンタノールの製造法
【課題】医薬品や農薬の原料として重要な(3R,4R)−3,4−ビス(オキシカルボニル)シクロペンタノンおよび(3R,4R)−3,4−ビス(オキシカルボニル)シクロペンタノールを、煩雑な操作を行うことなく、入手容易に簡便且つ効率的に製造する方法の提供。
【解決手段】光学活性なオキシカルボニル基を有する光学活性3,4−ビス(オキシカルボニル)−1,6−ヘキサン二酸またはその塩を溶媒から固体として析出させることによって、ジアステレオマー過剰率(%de)の向上した光学活性3,4−ビス(オキシカルボニル)−1,6−ヘキサン二酸またはその塩の固体とし、続いて環化、還元することにより、高光学純度の光学活性ビス(オキシカルボニル)シクロペンタノンおよび(3R,4R)−3,4−ビス(オキシカルボニル)シクロペンタノールを効率的に製造できる。
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】ラインエッジラフネスに優れたレジストパターンを製造し得るレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】フェノール性ヒドロキシ基を有する構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂と、酸分解性基を有する酸発生剤と、両性イオン化合物とを含むレジスト組成物。
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ガンマブチロラクトンの製造方法
【課題】触媒の存在下における1,4−ブタンジオールの脱水素反応によりガンマブチロラクトンを製造するに当たり、経時による触媒の劣化を抑制してガンマブチロラクトンの生成速度を高めると共に、反応副生成物の生成を防止してガンマブチロラクトンを効率的に製造する。
【解決手段】周期表第8〜11族に属する金属を含む触媒の存在下で、原料1,4−ブタンジオールの脱水素反応によりガンマブチロラクトンを製造する方法において、該原料1,4−ブタンジオール中の窒素含有化合物の濃度を窒素原子換算の濃度で0.5〜15重量ppmとする。原料1,4−ブタンジオール中に所定濃度の窒素含有化合物を存在させることにより、副生成物の生成と触媒の経時劣化の抑制と、ガンマブチロラクトンの生成速度の向上が可能となる。
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】レジストパターン形成時の露光マージン(EL)に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)及び式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
[式中、R2は、フッ素原子を有する炭化水素基;Q1及びQ2は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基;L1は、2価の飽和炭化水素基;Rf1及びRf2は、互いに独立に、フッ素原子又はフッ化アルキル基を表す。]
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたフォーカスマージンでレジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)及び式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
[式中、A14は、脂肪族炭化水素基を表す。]
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レニン阻害剤の合成中間体としての3−アルキル−5−(4−アルキル−5−オキソ−テトラヒドロフラン−2−イル)ピロリジン−2−オン誘導体
【課題】医薬的に活性な化合物、特に、アリスキレンなどのレニン阻害剤の合成に有用な新規製法、新規製法工程および新規中間体の提供。
【解決手段】式(II)で示される化合物またはその塩の製造法、
および式(VI)で示される化合物またはその塩(式中、R3およびR4ならびにActは特定の置換基)、およびそれらの製造法。
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オートインデューサー−2阻害剤
【課題】オートインデューサー−2を阻害する活性を有し、非抗菌的な感染症の予防及び治療等に有効な、オートインデューサー−2阻害剤を提供することを目的とする。
【解決手段】炭素数8〜12のγ−ラクトンからなる群より選ばれる少なくとも1種を有効成分とするオートインデューサー−2阻害剤。
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化合物、高分子化合物、酸発生剤、レジスト組成物、レジストパターン形成方法
【課題】新規化合物、高分子化合物、レジスト組成物、酸発生剤及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】式(1−1)で表される化合物[式中、R1、R3はそれぞれ独立に、単結合又は2価の連結基であり、Aは2価の連結基であり、R2、R4はそれぞれ独立に、水酸基、置換基を有していてもよい炭化水素基、又は式(1−an1)、(1−an2)又は(1−an3)で表される基である。n0は0又は1である。Y1は単結合又は−SO2−であり、R5はフッ素原子で置換されていてもよい、炭素数1〜10の1価の炭化水素基、炭素数3〜20の環状の1価の炭化水素基、又は炭素数3〜20の環状の部分構造を有する1価の炭化水素基である。M+は有機カチオン又は金属カチオンである]。
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