【課題】優れた解像度でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂と、式（Ｉ）で表される塩とを含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、同一又は相異なり、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ^１は、単結合又は２価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該２価の脂肪族飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置き換わっていてもよく、該２価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子等に置き換わっていてもよい。Ｒ^１は、炭化水素基等を表す。Ｒ^２は、水素原子又はアルキル基を表す。ｍは、０〜４の整数を表す。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用酸発生剤として有用な塩、及び当該塩を含有する、優れたマスクエラーファクターを有するレジストパターンを製造し得るレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基を表す。Ｒ^２は、ラクトン環基を表す。Ｒ^３は、水素原子又はヒドロキシ基を表す。Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に、式（ａ−ｇ１）


（式（ａ−ｇ１）中、ｓは０〜２の整数を表す。＊１は、硫黄原子との結合手を表し、＊２は、Ｒ^２又はＲ^３との結合手を表す。Ａ^１０は、脂肪族炭化水素基を表す。Ａ^１１は、脂肪族炭化水素基又は単結合を表す。Ｘ^１０は、酸素原子、カルボニル基等を表す。ｍ１は１又は２を表し、ｍ２は０又は１を表す。但し、ｍ１＋ｍ２＝２の関係を満たす。Ａ⁻は、スルホン酸アニオン等の有機アニオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】特定の構造を有するラクトン化合物を高い収率で製造できる製造方法の提供。
【解決手段】特定の酸無水物を、溶媒中、金属水素化物および金属水素化錯化合物から選ばれる還元剤の存在下で還元工程、および前記還元工程で得られた反応液にｐＨ調整剤および水を添加するｐＨ調整工程を含む、下記一般式（２）または（３）で示される化合物を製造する方法において、前記ｐＨ調整工程で得られたｐＨ調整液の水相の２０℃におけるｐＨが０．１〜２．５である、下記一般式（２）または（３）で示される化合物の製造方法。


［式（２）〜（３）中、Ｒ_１〜Ｒ_６は、それぞれ独立に水素原子、メチル基またはエチル基を表し；Ａ_１およびＡ_２は共に水素原子を表す、またはＡ_１とＡ_２とが一緒になって−ＣＨ_２−もしくは−ＣＨ_２ＣＨ_２−を形成する。］ （もっと読む）

【課題】優れたパターン倒れ耐性（ＰＣＭ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基を表す。環Ｗ^２は置換基を有していてもよい炭素数３〜３４のラクトン環を表す。］ （もっと読む）

【課題】レジストパターンの製造時において優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、（Ｂ）式（ＩＩ）で表される酸発生剤及び（Ｄ）式（Ｉ）で表される化合物を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ炭化水素基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基等；ｍ及びｎはそれぞれ０〜４の整数；Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、＊−ＣＯ−Ｏ−Ｌ^ａ−又は＊−ＣＨ_２−Ｏ−Ｌ^ｂ−、＊は−Ｃ（Ｑ^１）（Ｑ^２）−との結合手、Ｌ^ａ及びＬ^ｂは互いに２価の飽和炭化水素基；環Ｗ^１は複素環；Ｚ^＋は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】優れた解像度及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有し、且つ欠陥が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）酸に不安定な基を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基を表す。Ａ¹は、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す。Ｒ²は、フッ素原子を有する炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ)で表される塩及びこの塩を含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す；Ｌ^１は、２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい；Ｒ^１は、ヒドロキシ基、炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基又は炭素数２〜７のアルコキシカルボニルオキシ基を表す；ｓは、互いに独立に、１〜３の整数を表す；Ｚ^＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】コラーゲン、ヒアルロン酸産生抑制剤およびシワ改善剤を提供する。
【解決手段】デヒドロコスツスラクトンを含有するコラーゲン、ヒアルロン酸産生抑制剤およびシワ改善剤。 （もっと読む）

【課題】高い反応収率でエステル化合物を製造でき、エステル化反応による着色も防できる、エステル化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】酸ハライドとアルコールとを、塩基の存在下で反応させる際に、塩基として、窒素原子に対してβ水素を持たない有機塩基及び無機塩基からなる群から選ばれる１種以上を用いる、エステル化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】「安全性が高い天然物から得られる成分を用いたグルタチオン産生促進剤」を提供する。また、「当該グルタチオン産生促進剤を含有し、グルタチオン産生促進作用を有する医薬品、食品又は化粧料」を提供する。
【解決手段】サウスレア（Saussurea）属に属する植物からの抽出物、特にサウスレア・インボルクラタ（Saussurea involucrate (Kar.et Kir.) Sch.Blp.）、サウスレア・メデュサ（Saussurea medusa Maxim.）及びサウスレア・ラニセプス（Saussurea laniceps Hand.-Mazz.）からなる群より選択される１種以上の植物からの抽出物を有効成分として含有するグルタチオン産生促進剤。 （もっと読む）