国際特許分類[C07D307/93]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 複素環式化合物 (108,186) | 異項原子として1個の酸素原子のみをもつ5員環を含有する複素環式化合物 (2,841) | 炭素環または環系とオルト―またはペリ―縮合したもの (1,135) | 6員環以外の環と縮合したもの (88)
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塩及びレジスト組成物
【課題】優れた解像度でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂と、式(I)で表される塩とを含有するレジスト組成物。
[式(I)中、Q1及びQ2は、同一又は相異なり、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。L1は、単結合又は2価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該2価の脂肪族飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置き換わっていてもよく、該2価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子等に置き換わっていてもよい。R1は、炭化水素基等を表す。R2は、水素原子又はアルキル基を表す。mは、0〜4の整数を表す。Z+は、有機カチオンを表す。]
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塩及びレジスト組成物
【課題】レジスト組成物用酸発生剤として有用な塩、及び当該塩を含有する、優れたマスクエラーファクターを有するレジストパターンを製造し得るレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される塩。
[式(I)中、R1は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基を表す。R2は、ラクトン環基を表す。R3は、水素原子又はヒドロキシ基を表す。X1及びX2は、それぞれ独立に、式(a−g1)
(式(a−g1)中、sは0〜2の整数を表す。*1は、硫黄原子との結合手を表し、*2は、R2又はR3との結合手を表す。A10は、脂肪族炭化水素基を表す。A11は、脂肪族炭化水素基又は単結合を表す。X10は、酸素原子、カルボニル基等を表す。m1は1又は2を表し、m2は0又は1を表す。但し、m1+m2=2の関係を満たす。A−は、スルホン酸アニオン等の有機アニオンを表す。]
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ラクトン化合物の製造方法
【課題】特定の構造を有するラクトン化合物を高い収率で製造できる製造方法の提供。
【解決手段】特定の酸無水物を、溶媒中、金属水素化物および金属水素化錯化合物から選ばれる還元剤の存在下で還元工程、および前記還元工程で得られた反応液にpH調整剤および水を添加するpH調整工程を含む、下記一般式(2)または(3)で示される化合物を製造する方法において、前記pH調整工程で得られたpH調整液の水相の20℃におけるpHが0.1〜2.5である、下記一般式(2)または(3)で示される化合物の製造方法。
[式(2)〜(3)中、R1〜R6は、それぞれ独立に水素原子、メチル基またはエチル基を表し;A1およびA2は共に水素原子を表す、またはA1とA2とが一緒になって−CH2−もしくは−CH2CH2−を形成する。]
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化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたパターン倒れ耐性(PCM)を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。
[式(I)中、R1は、水素原子又はメチル基を表す。環W2は置換基を有していてもよい炭素数3〜34のラクトン環を表す。]
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】レジストパターンの製造時において優れたフォーカスマージン(DOF)でレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】(A)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、(B)式(II)で表される酸発生剤及び(D)式(I)で表される化合物を含有するレジスト組成物。
[式中、R1及びR2はそれぞれ炭化水素基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基等;m及びnはそれぞれ0〜4の整数;Q1及びQ2は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基;L1は、*−CO−O−La−又は*−CH2−O−Lb−、*は−C(Q1)(Q2)−との結合手、La及びLbは互いに2価の飽和炭化水素基;環W1は複素環;Z+は有機カチオンを表す。]
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れた解像度及びラインエッジラフネス(LER)を有し、且つ欠陥が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】(A1)式(I)で表される構造単位を有する樹脂、(A2)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び(B)酸に不安定な基を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。
[式(I)中、R1は、水素原子又はメチル基を表す。A1は、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。R2は、フッ素原子を有する炭素数1〜10の炭化水素基を表す。]
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塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される塩及びこの塩を含有するレジスト組成物。
[式(I)中、Q1及びQ2は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す;L1は、2価の炭素数1〜17の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい;R1は、ヒドロキシ基、炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基又は炭素数2〜7のアルコキシカルボニルオキシ基を表す;sは、互いに独立に、1〜3の整数を表す;Z+は、有機対イオンを表す。]
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コラーゲン産生促進剤、ヒアルロン酸産生促進剤、しわ改善剤
【課題】コラーゲン、ヒアルロン酸産生抑制剤およびシワ改善剤を提供する。
【解決手段】デヒドロコスツスラクトンを含有するコラーゲン、ヒアルロン酸産生抑制剤およびシワ改善剤。
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エステル化合物および(メタ)アクリル酸誘導体の製造方法
【課題】高い反応収率でエステル化合物を製造でき、エステル化反応による着色も防できる、エステル化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】酸ハライドとアルコールとを、塩基の存在下で反応させる際に、塩基として、窒素原子に対してβ水素を持たない有機塩基及び無機塩基からなる群から選ばれる1種以上を用いる、エステル化合物の製造方法。
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グルタチオン産生促進剤及びグルタチオン産生促進作用を有する医薬品、食品又は化粧料
【課題】「安全性が高い天然物から得られる成分を用いたグルタチオン産生促進剤」を提供する。また、「当該グルタチオン産生促進剤を含有し、グルタチオン産生促進作用を有する医薬品、食品又は化粧料」を提供する。
【解決手段】サウスレア(Saussurea)属に属する植物からの抽出物、特にサウスレア・インボルクラタ(Saussurea involucrate (Kar.et Kir.) Sch.Blp.)、サウスレア・メデュサ(Saussurea medusa Maxim.)及びサウスレア・ラニセプス(Saussurea laniceps Hand.-Mazz.)からなる群より選択される1種以上の植物からの抽出物を有効成分として含有するグルタチオン産生促進剤。
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