国際特許分類[C07D313/06]の内容
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2個の6員環と縮合したもの (41)
国際特許分類[C07D313/06]に分類される特許
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レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤
【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、該レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物及び酸発生剤の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分(B)は、式(b1−1)で表される基をカチオン部に有する酸発生剤(B1)を含有することを特徴とするレジスト組成物[式中、R’は炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜6のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、−COOR”、−OC(=O)R”、ヒドロキシアルキル基又はシアノ基であり、R”は水素原子またはアルキル基であり、pは0〜4の整数である。]。
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フッ素化されたオキサビシクロノナン構造をもつ化合物及びその液晶組成物
【課題】 誘電率異方性(Δε)が負であってその絶対値が大きく、かつ化学的安定性に優れた液晶組成物及び表示素子を提供し、またΔεが負であってその絶対値が大きく、かつ化学安定性に優れた化合物を提供することである。
【解決手段】
一般式(I)
【化1】
で表されるフッ素化されたオキサビシクロノナン誘導体及びこれを含む液晶組成物及びこれを用いた表示素子を提供する。本発明の液晶組成物はΔεが負であってその絶対値が大きく、かつ化学的安定性に優れるという特徴を有し、当該組成物を用いた液晶表示素子はVA方式、IPS方式、PSA方式等に有用である。
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ホモアダマンタン誘導体、その製造方法及びフォトレジスト用感光性材料
【課題】ポジ型フォトレジストとして用いたときに、ラフネス低減、溶解性、相溶性、ディフェクト低減、露光感度等に優れる重合体、これを与える単量体(モノマー)及びその前駆体(中間体,修飾剤)を提供する。
【解決手段】下記式(I)で表されるホモアダマンタン誘導体。式中、R1,R2はそれぞれ水素原子又は炭素数1〜6の直鎖状、分岐状又は環状の炭化水素基を表し、Xは水酸基又はハロゲン原子を表し、n,mはそれぞれ0〜3の整数である。ただし、nとmが同時に0になることはない。
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新規化合物、抗腫瘍剤及び抗腫瘍作用を有する医薬品、食品又は化粧料
【課題】副作用の恐れがなく、安全で、かつ、優れた抗腫瘍作用を有する新規化合物を提供する。副作用の恐れがなく、安全で、かつ、優れた抗腫瘍作用を有する抗腫瘍剤を提供する。副作用の恐れがなく、安全で、かつ、優れた抗腫瘍作用を有する医薬品、食品又は化粧料を提供する。
【解決手段】
下記の式(1)で表される新規化合物A、当該新規化合物Aを含有する抗腫瘍剤並びに当該新規化合物Aを含有する、抗腫瘍作用を有する医薬品、食品又は化粧料。
【化1】
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TTX中間体の合成
本発明は、TTX合成に及びその調製に有用な中間体合成に関する。 (もっと読む)
うつ病治療のための三環系ジテルペンおよびその誘導体を含有する食品または医薬組成物
本発明は、損なわれた神経伝達と関係がある障害の治療のための薬物として使用するための式(I)および(II)、
【化1】
(式中、
R1は水素またはC1〜6−アルキルであり、R2はヒドロキシ、C3〜5−アシルオキシ、ヒドロキシメチル、1,3−ジヒドロキシプロピルまたはC1〜6−アルキルであり、R3およびR4は互いに独立して水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、C1〜5−アシルオキシまたはC1〜6−アルコキシであり、R5はC1〜6−アルキル、ヒドロキシメチル、カルボキシまたはメトキシカルボニルであり、R9は水素、ヒドロキシメチル、メトキシ、オキソまたはC1〜5−アシルオキシであり、R10は水素であり、またはR5およびR9は一緒になって−CH2−O−または−O−CH2−であり、またはR5およびR10は一緒になって−CO−O−、−O−CO−、−CH2−O−または−O−CH2−であり、R6は水素であり、またはR5およびR6は一緒になって結合を形成し、R7およびR8は互いに独立してC1〜6−アルキル、カルボキシ、x−ヒドロキシ−Cx−アルキル(xは1〜6の整数である)、またはC1〜6−アルコキシカルボニルであるが、ただしR7およびR8の少なくとも1つはC1〜6−アルキルであり、R11およびR12はどちらも水素であり、またはR11およびR12は一緒になってオキソであるが、さらにただし式(I)ではR2がヒドロキシであれば、R1はC1〜6−アルキルである)の三環系ジテルペンおよびそれらの誘導体、ならびに食品および医薬組成物およびそれらの使用に言及する。
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重合体の製造方法、その製造方法によって製造された重合体を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
【課題】製造レベルに於ける、安全かつ簡便な、分散度の低い重合体の製造方法を提供することである。さらにその重合体を用いることにより、100nm以下の微細パターンの形成において、パターン倒れ、ラインエッジラフネスが改良され、かつ現像欠陥の少ないポジ型レジスト組成物、それを用いたパターン形成方法、及びその重合体の製造に使用される化合物を提供することである。
【解決手段】(a)モノマー、(b)重合開始剤及び(c)連鎖移動剤を反応系に添加しながらモノマーを重合させる重合体の製造方法であって、連鎖移動剤が、特定の一般式で表される重合体の製造方法、その製造方法によって製造された重合体を含有する、パターン倒れ、ラインエッジラフネス、現像欠陥が改良されたポジ型レジスト組成物及びそのポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法、及びその重合体の製造に使用される化合物。
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サルビアノール酸B等含有神経細胞退化等起因疾病治療剤等
【課題】新しい神経細胞退化等起因疾病治療剤及びその有効成分、その有効成分調整法等これに必要な物質と技術を提供すること。
【解決手段】サルビアノール酸B及びその光学又は幾何異性体でサルビアノール酸Bと同様の作用を有するもの及びそれらのプロドラッグ、ならびに上記化合物又はそれらのプロドラッグの薬学的に許容することのできるそれらの塩ならびにそれらの水和物から選ばれる化合物に、神経幹細胞及びその分化細胞を保護しつつ、神経幹細胞を増殖及び/又は分化する作用を見つけ、これらを有効成分とすることを特徴とする神経系細胞作用剤、当該作用剤による神経系細胞作用法、当該作用法による神経系細胞含有液調整法、当該調整法による神経系細胞含有液、当該作用剤及び/又は当該神経系細胞含有液を有効成分とする神経細胞退化等起因疾病治療剤を開発した。
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