国際特許分類[C07D327/04]の内容
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国際特許分類[C07D327/04]に分類される特許
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レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤
【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分、および露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分が、一般式(b1−11)で表される化合物からなる酸発生剤を含むことを特徴とするレジスト組成物。式(b1−11)中、R7”〜R9”のうち少なくとも1つは、置換基として式(I)で表される基を有する置換アリール基であり、式(I)中のWは2価の連結基である。X−は、式(b−3)または(b−4)で表されるアニオンである。
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光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト
【課題】より優れた拡散制御およびレジストプロファイルのような付随する特性を有するテイラーメード光酸発生剤を含むフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】式(I):[A−(CHR1)p]k−(L)−(CH2)m−(C(R2)2)n−SO3−Z+(I)(式中、Aは置換されているかもしくは非置換の単環式、多環式もしくは縮合多環式の環式脂肪族基であり、R1はH、単結合または置換されているかもしくは非置換のC1−30アルキル基であり、R2はH、F、もしくはC1−4フルオロアルキルであり、Lはスルホナート基、スルホンアミド基またはC1−30スルホナートもしくはスルホンアミド含有基を含む連結基であり、Zは有機もしくは無機カチオンであり、pは0〜10の整数であり、kは1もしくは2であり、mは0以上の整数であり、並びにnは1以上の整数である)を有する光酸発生剤化合物。
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化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れた形状でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。
[式中、R1は、水素原子又はメチル基を表す;環W1は、置換基を有していてもよい炭素数3〜34のスルトン環を表す。]
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スチレン誘導体およびその重合体
【課題】各種機能性材料に応用できる、新規な化合物および重合体の提供。特に耐熱性、耐薬品性もが良好である前記重合体の提供。
【解決手段】下式(a)で表される化合物。
式(a)中の記号は以下の意味を示す。
Q1:単結合または2価の連結基。
Z1、Z2:相互に独立して、酸素原子または硫黄原子。
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チオキソロンの製造方法
【課題】カラムクロマトグラフィによる精製や中間体の段階での固液分離などの煩雑な操作を行うことなく、簡便な操作で生成したチオキソロンを単離でき、高収率でチオキソロンを得ることができる、チオキソロンの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のチオキソロンの製造方法は、水系溶媒中、レゾルシノールとチオシアン酸塩とハロゲン化第二鉄とを反応させて、チオキソロンを生成させることを特徴とする。
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塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたラインエッジラフネス(LER)を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される塩、この塩を含有する酸発生剤及びこの酸発生剤と樹脂とを含有するレジスト組成物。
[式中、Q1及びQ2は、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基;L1は2価の飽和炭化水素基を表し、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい;L2は、単結合又はアルカンジイル基を表し、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい;Yは、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基を表し、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよい;Z+は有機対イオンを表す。]
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】CD均一性が良好で、かつ欠陥が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、(A2)式(II)で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。
[式中、R1は水素原子又はメチル基;A1はアルカンジイル基;R2はフッ素原子を有する炭化水素基;環T1は、置換基を有していてもよいスルトン環;Z1は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等;Z2は、単結合又はカルボニル基を表す。]
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1,3−オキサチオランヌクレオチドの製造方法
【課題】1,3−オキサチオランヌクレオシドの新規な製造法の提供。
【解決手段】1,3−オキサチオラン環を製造し、次いで1,3−オキサチオランをピリミジンまたはプリン塩基と縮合させる効率よい方法を包含する、1,3−オキサチオランヌクレオシドを製造する方法が提供される。本明細書に記載する方法を使用して、化合物は単離された鏡像異性体として製造することができる。
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レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および新規な化合物
【課題】レジスト組成物用クエンチャーとして好適な化合物、該クエンチャーを含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、下記一般式(c1)で表される化合物(C1)を含む含窒素有機化合物成分(C)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)(ただし、前記化合物(C1)を除く)を含有することを特徴とするレジスト組成物[式中、RNは置換基を有していてもよい含窒素複素環式基であり;X0は炭素数1〜10の直鎖状若しくは分岐鎖状の2価の脂肪族炭化水素基、炭素数3〜20の環状若しくは環状の部分構造を有する2価の脂肪族炭化水素基、又はこれらの水素原子の一部若しくは全てがフッ素原子で置換された基であり;M+は有機カチオンである。]。
[化1]
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ジカルボン酸モノエステル誘導体およびアクリル酸エステル誘導体の製造方法
【課題】リソグラフィー特性に優れるレジスト材料に用いられる高分子化合物の原料となる(メタ)アクリル酸エステル誘導体を製造するにあたり、工業的に入手容易な原料を用い、安全で安価に工業的規模で製造することが可能となる合成中間体を提供すること、および該合成中間体を用いた(メタ)アクリル酸エステル誘導体の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記一般式(1)で示されるジカルボン酸モノエステル誘導体、および該ジカルボン酸モノエステル誘導体を用いた(メタ)アクリル酸エステル誘導体の製造方法。
(式中、R1は、水素原子または−COOR2(R2は、炭素数1〜5のアルキル基を表すか、または炭素数1〜3のアルキル基で置換された若しくは無置換の炭素数3〜10の環状炭化水素基を表す。)を表す。Yは、メチレン基、酸素原子または硫黄原子を表し、Zは、>C=Oまたは>S(=O)2を表す。また、nは、1〜3の整数を表す。)
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