【課題】優れた形状でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩、この塩を含有する酸発生剤、この酸発生剤と樹脂とを含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１及びＲ^２は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、２価の飽和炭化水素基を表し、該基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；環Ｗ^１は複素環；Ｒ^３は、水素原子又は炭化水素基を表し、該基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ｒ^４は、独立に炭化水素基を表し、該基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；ｍは０〜６の整数；Ｚ^＋は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】レジストパターンの製造時において優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、（Ｂ）式（ＩＩ）で表される酸発生剤及び（Ｄ）式（Ｉ）で表される化合物を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ炭化水素基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基等；ｍ及びｎはそれぞれ０〜４の整数；Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、＊−ＣＯ−Ｏ−Ｌ^ａ−又は＊−ＣＨ_２−Ｏ−Ｌ^ｂ−、＊は−Ｃ（Ｑ^１）（Ｑ^２）−との結合手、Ｌ^ａ及びＬ^ｂは互いに２価の飽和炭化水素基；環Ｗ^１は複素環；Ｚ^＋は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを製造できるレジスト組成物、該レジスト組成物に用いられる新規な塩を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ^１は、＊−ＣＯ−Ｏ−Ｌ^ａ−で表される基又は＊−ＣＨ_２−Ｏ−Ｌ^ｂ−で表される基を表す。＊は−Ｃ（Ｑ^１）（Ｑ^２）−の炭素原子との結合手を表す。Ｌ^ａ及びＬ^ｂは、互いに独立に、炭素数１〜１５の脂肪族飽和炭化水素基等を表す。環Ｗ^１は、炭素数２〜３６の複素環を表す。Ｒ^e1〜Ｒ^e13は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基等を表す。Ｚは単結合又は２価の連結基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネスを有するレジストパターンを得ることができる塩、酸発生剤及びレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す；Ｌ^１及びＬ^２は、互いに独立に、２価の飽和炭化水素基を表し、該基を構成するメチレン基は、酸素原子等で置き換わっていてもよい；Ｚ^１は、単結合、メチレン基、エチレン基、、カルボニル基、酸素原子又は硫黄原子を表す；Ｒ^１はアルキル基を表し、該基を構成するメチレン基は、酸素原子等で置き換わっていてもよい；sは０〜２の整数；Ｙは、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基を表し、該基を構成しているメチレン基は、酸素原子、スルホニル基等で置き換わっていてもよい；Ｚ^＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ)で表される塩及びこの塩を含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す；Ｌ^１は、２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい；Ｒ^１は、ヒドロキシ基、炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基又は炭素数２〜７のアルコキシカルボニルオキシ基を表す；ｓは、互いに独立に、１〜３の整数を表す；Ｚ^＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】従来の酸発生剤を含むレジスト組成物では、得られるパターンのラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が必ずしも満足できない場合があった。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ¹及びＱ²は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ¹は、２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基を構成しているメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい。環Ｗは、炭素数４〜３６の脂肪族環を表し、該脂肪族環を構成しているメチレン基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基又はスルホニル基で置き換わっていてもよい。Ａ^１は、メチレン基又はエチレン基を表す。Ｒ^１は、炭素数１〜１２の炭化水素基又は炭素数２〜１２のアシル基を表す。Ｚ⁺は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）を有するパターンを形成することができる塩及びレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す；Ｌ^１は、２価の炭素数２〜１７の飽和炭化水素基を表し、前記２価の飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は、オキシ基又はカルボニル基に置き換わっていてもよい；Ｒ^１及びＲ^２は、互いに独立に、炭素数１〜１２の炭化水素基を表す；Ｚ^１＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】 感度、解像性、ラフネス特性、パターン形状、経時安定性及びアウトガス特性に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 活性光線または放射線の照射により、下記一般式（Ｉ）で表される酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（一般式（Ｉ）中の各符号は、本明細書及び特許請求の範囲に記載の定義を有する。）
【化１】
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本発明は、重合可能な光潜在性酸として有用である式（I）［式中、R₁、R₂及びR₃は、例えば水素、ハロゲン、CN、Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ハロアルキル、（CO）OR₈、（CO）R₄、又は（CO）NR₅R₆であり；Ｙは、O、S又はCOであり；Ｄ₂、Ｄ₃及びＤ₄は、例えば直接結合、O、S、NＲ₇、CO、O(CO)、（CO）O、S(CO)、(CO)S、NＲ₇(CO)、(CO)NＲ₇、SO、SO₂又はOSO₂、Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキレン、Ｃ₃〜Ｃ₃₀−シクロアルキレン、Ｃ₂〜Ｃ₁₂−アルケニレン、Ｃ₄〜Ｃ₃₀−シクロアルケニレン、Ar₁であり；Ar₁、Ar₂又はAr₃はフェニレンであり、R₄、R₅、R₆、R₇及びR₈は、例えば水素、Ｃ₃〜Ｃ₃₀−シクロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ハロアルキル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂−アルケニル、Ｃ₄〜Ｃ₃₀−シクロアルケニル、フェニル−Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキルであり、X^-は、式（IA）、（IB）又は（IC）であり、R₁₀は、例えばＣ₁〜Ｃ₁₈−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ハロアルキル、カンホリル、フェニル−Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₃₀−シクロアルキルであり；かつR₁₁、R₁₂、R₁₃、R₁₄及びR₁₅は、例えばＣ₁〜Ｃ₁₀−ハロアルキルである］の化合物に関する。
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【課題】発光効率が高く、かつ低電圧駆動の有機電界発光素子の提供すること。
【解決手段】一対の電極間に有機化合物層を有する有機電界発光素子であって、下記一般式(Ｉ)で表される化合物を有機化合物層に含有することを特徴とする有機電界発光素子。
一般式(Ｉ)中、A¹〜A⁸はN原子またはC-R¹を表し、X¹はS原子またはO原子を表す。R¹は水素原子または置換基を表す。複数のR¹は同一でも異なっていてもよい。mは2以上の整数を表す。Lは単結合またはｍ価の連結基を表し、A¹〜A⁸中のC原子と連結する。Ｌが芳香族炭化水素環または芳香族へテロ環である場合、環の大きさは５員環または６員環である。 （もっと読む）