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国際特許分類[C07D335/16]の内容

国際特許分類[C07D335/16]に分類される特許

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【課題】紫外線LED(UVLED)を硬化光源として用いることができ、皮膚感さ性や生殖毒性において深刻な安全面での問題がない、常温で液体の光重合開始剤組成物、該組成物を含む光重合性インク及び光重合性インクジェット用インク、該インクジェット用インクを収容したインクカートリッジの提供。
【解決手段】(1)チオキサントン化合物、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、及びp−ジメチルアミノ安息香酸−2−エチルヘキシルを含み、p−ジメチルアミノ安息香酸−2−エチルヘキシルの配合割合が23重量%以上の光重合開始剤組成物。
(2)上記光重合開始剤組成物を含む光重合性インク。
(3)上記光重合性インクを収容したインクカートリッジ。 (もっと読む)


【課題】照射した超音波を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚い膜厚の場合でも少エネルギー量で硬化可能な超音波硬化型組成物の提供。
【解決手段】下記(1)〜(3)を含有する超音波硬化型組成物であって、ラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)及び塩基発生剤(C)の内の少なくとも1つが超音波の照射により活性種(H)を発生し、該活性種(H)がラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)及び/又は塩基発生剤(C)と反応して新たな活性種(I)を生成して該新たな活性種(I)による重合性物質(D)の重合反応が進行し、該活性種(H)又は(I)が酸又は塩基であることを特徴とする超音波硬化型組成物;(1)ラジカル開始剤(A)、(2)酸発生剤(B)及び/又は塩基発生剤(C)、(3)重合性物質(D)。 (もっと読む)


【課題】 照射した光を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚い膜厚の場合でも少エネルギー量で硬化可能な感光性組成物を提供する。
【解決手段】 下記(1)〜(3)を含有する感光性組成物であって、ラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)及び塩基発生剤(C)の内の少なくとも1つが活性光線の照射により活性種(H)を発生し、該活性種(H)がラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)又は塩基発生剤(C)と反応して新たな活性種(I)を生成して該新たな活性種(I)による重合性物質(D)の重合反応が進行し、該活性種(H)又は(I)が酸又は塩基であり、前記重合反応と並行して酸発生剤(B)に活性光線を照射することにより発生した酸により重合性物質(D)の重合反応が進行する感光性組成物。
(1)ラジカル開始剤(A)、又はラジカル開始剤(A)及び塩基発生剤(C)
(2)酸発生剤(B)
(3)重合性物質(D) (もっと読む)


【課題】レジスト組成物用クエンチャーとして好適な化合物、該クエンチャーを含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、下記一般式(c1)で表される化合物(C1)を含む含窒素有機化合物成分(C)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)(ただし、前記化合物(C1)を除く)を含有することを特徴とするレジスト組成物[式中、Rは置換基を有していてもよい含窒素複素環式基であり;Xは炭素数1〜10の直鎖状若しくは分岐鎖状の2価の脂肪族炭化水素基、炭素数3〜20の環状若しくは環状の部分構造を有する2価の脂肪族炭化水素基、又はこれらの水素原子の一部若しくは全てがフッ素原子で置換された基であり;Mは有機カチオンである。]。
[化1]
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【課題】発光効率が高く、駆動電圧の低い有機発光素子を提供する。
【解決手段】陽極と陰極と、前記陽極と前記陰極との間に配置される有機化合物層と、から構成される有機発光素子において、前記有機化合物層に、下記一般式[1]で示されるチオキサントン化合物が含まれることを特徴とする、有機発光素子。
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【課題】紫外線領域の吸収を調整しつつ充分な着色があり、紫外線及びレーザー露光において高感度でさらに乾燥塗膜の指触乾燥性が良好な組成物を提供する。
【解決手段】(A)カルボン酸含有樹脂、(B)アミノアントラキノン骨格を有する化合物からなる着色剤、(C)光重合開始剤、及び(D)分子中に2個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を含有している希アルカリ溶液により現像可能な光硬化性樹脂組成物であって、アミノアントラキノン骨格を有する化合物からなる着色剤を用いることにより紫外線領域の吸収を調整しつつ充分な着色があり、紫外線及びレーザー露光において高感度でさらに乾燥塗膜の指触乾燥性が良好な組成物を提供する。 (もっと読む)


【課題】 COMT阻害作用を有する新規な化合物を提供する。
【解決手段】 一般式(I):
【化1】


〔式中、RおよびRはそれぞれ水素、低級アシル、低級アルコキシカルボニル等であり;Rは低級アルコキシカルボニル、−A−C(O)NR1314
−C(O)−A−NR1516等であり;Rはハロゲン、ハロ低級アルキル等である〕で表される化合物またはその薬理学的に許容される塩、それを含有する医薬組成物およびそれらの用途を提供する。本発明の化合物は優れたCOMT阻害作用を有するので、パーキンソン病等の治療または予防剤として有用である。 (もっと読む)


【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分(B)は、一般式(b1−1)[式中、Zは有機カチオンを表す。]で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含有するレジスト組成物。
[化1]
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【課題】i線に高光感応性のスルホニウム塩を提供する。
【解決手段】下記式(1)及び/又は(2)で示されるスルホニウム塩である。


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【課題】工程数が少なく、且つ簡単な操作でスルホニウム塩を製造することが可能な、スルホニウム塩の新規製造方法の提供。
【解決手段】下記一般式(7):


で表されるスルホニウム塩の製造方法。 (もっと読む)


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